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[发明专利]膜形成用组合物-CN201980086354.3在审
发明人：柴山亘;仓本悠太郎;武田谕;志垣修平;石桥谦;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C08G77/22 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为能够形成兼具良好的EUV抗蚀剂密合性、和由于氟系蚀刻速率也高因此具有的良好的蚀刻加工性的含有Si的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含例如式(E1)所示的聚合物、和溶剂。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202080039710.9在审
发明人：柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-03-24 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： C08G77/26 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其特征在于，其包含选自水解性硅烷化合物、其水解物和其水解缩合物中的至少1种，以及溶剂，上述水解性硅烷化合物包含分子内具有氰基的下述式(1)所示的水解性硅烷。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202080038844.9在审
发明人：柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C08G77/04 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含：在碱性水解催化剂的存在下生成的水解性硅烷化合物的水解缩合物(A)；在酸性水解催化剂的存在下生成的水解性硅烷化合物的水解缩合物(B)；以及溶剂。
形成组合

[发明专利]图案形成用组合物-CN202080085418.0在审
发明人：中家直树;高濑顕司;菅原祐大 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C08G73/06 文献下载
摘要：本发明的图案形成用组合物例如是含有含三嗪环的聚合物、交联剂和有机溶剂的图案形成用组合物，所述含三嗪环的聚合物含有由下述式[4]表示的规定的重复单元结构，图案形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202180026667.7在审
发明人：柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题是提供获得能够作为具有对作为上层而形成的抗蚀剂膜用的组合物的溶剂的耐性、对氟系气体的良好的蚀刻特性、进一步良好的光刻特性的抗蚀剂下层膜而良好地起作用的膜的组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其特征在于，是包含使用包含2种以上酸性基的酸性化合物将水解性硅烷化合物水解和缩合而获得的水解缩合物、和溶剂的膜形成用组合物，上述水解性硅烷化合物包含下述式(1)所示的含有氨基的硅烷
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202180024987.9在审
发明人：加藤宏大;武田谕;志垣修平;柴山亘;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：本发明提供用于形成溶剂显影型抗蚀剂的抗蚀剂下层膜的膜形成用组合物，所述抗蚀剂下层膜能够形成良好的抗蚀剂图案。该膜形成用组合物的特征在于包含水解性硅烷化合物的水解缩合物、选自由氨基塑料交联剂及酚醛塑料交联剂组成的组中的至少1种交联剂和溶剂，且上述水解性硅烷化合物包含下述式(1)表示的水解性硅烷。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202180026228.6在审
发明人：柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题是提供获得能够作为具有对作为上层而形成的抗蚀剂膜用的组合物的溶剂的耐性、针对氟系气体的良好的蚀刻特性、进一步良好的光刻特性的抗蚀剂下层膜而良好地起作用的膜的组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其特征在于，包含使用2种以上酸性化合物进行水解性硅烷化合物的水解和缩合而获得的水解缩合物、和溶剂，上述水解性硅烷化合物包含下述式(1)所示的含有氨基的硅烷。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN201410283050.5有效
发明人：武内弘明;古川由实 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2014-06-23 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：通过配合特定量的在大气压下的沸点为170℃以上的高沸点极性溶剂，提供能够形成折射率得到改良的膜的膜形成用组合物、使用该膜形成用组合物的膜的形成方法、使用该膜形成用组合物形成的膜、该膜形成用组合物的制造方法、和使用该膜形成用组合物形成的膜的折射率的改良方法。在包含有机树脂、无机纳米粒子和溶剂的膜形成用组合物中配合相对于有机树脂的质量与无机纳米粒子的质量的合计为20～100质量％的在大气压下的沸点为170℃以上的高沸点极性溶剂作为溶剂。
形成组合

[发明专利]形成电极用组合物-CN201680056306.6有效
发明人： O.普拉斯;H.鲁奥;A.奥马尔德-拉克;J.勒比多;D.奥马尔德;B.莱斯特雷斯;C.哈蒙;M-D.布拉伊达;J.A.阿布斯勒梅 -专利权人：索尔维公司;法国国家科学研究中心;原子能和替代能源委员会
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： H01M50/446 文献下载
摘要：本发明涉及一种形成电极用组合物，涉及所述形成电极用组合物在用于制造电极的方法中的用途，涉及所述电极并且涉及一种包括所述电极的电化学装置。该形成电极用组合物包含至少一种部分氟化的氟聚合物，该至少一种部分氟化的氟聚合物包含衍生自至少一种氟化单体和至少一种包含至少一个羧酸末端基团的官能氢化单体的重复单元；至少一种电活性化合物；至少一种包含至少一种有机碳酸酯或至少一种离子液体的液体介质
形成电极组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN201980085619.8有效
发明人：柴山亘;后藤裕一;窪寺俊;武田谕;石桥谦;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2019-10-25 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为能够形成不仅具有良好的EUV抗蚀剂密合性，而且由于氟系蚀刻速率也高因此也具有良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含例如式(E1)所示的聚合物、和溶剂。
形成组合

[发明专利]形成电极用组合物-CN201280070079.4在审
发明人： F.福达奧纳纳;R.皮伊里;M.阿波斯托洛;H.E.米特纳;A-L.戈夫芬;陈世雷 -专利权人：索尔维特殊聚合物意大利有限公司
申请日： 2012-12-17 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： H01M4/62 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于溶剂的形成电极用组合物，包括分散在有机溶剂中的至少一种偏二氟乙烯(VDF)聚合物以及一种具有不超过25wt％的含氧量的氧化石墨烯，其中该VDF聚合物包括衍生自偏二氟乙烯(VDF)以及至少一种具有下式本发明进一步涉及一种用于制造所述形成电极用组合物的方法，以及其用于制造二次锂电池的电极的用途。
形成电极组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN201480075069.9在审
发明人：悴山高大;西村直也;小泽雅昭 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-12-17 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： C09D179/04 文献下载
摘要：本发明通过使用含有包含例如由下述式(17)表示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂、紫外线吸收剂、以及光稳定剂的光固化型膜形成用组合物，能够制作高折射率且耐候性良好的固化膜。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN201380024655.6有效
发明人：西村直也;悴山高大;鹿内康史;村上奈子美;安部诚志;三井滋;小泽雅昭 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2013-05-10 - 公布日： 2018-01-23 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：含有例如包含下述式(17)所示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂和光扩散剂的膜形成用组合物给予光扩散性良好的固化膜，而且含有该聚合物、交联剂和具有交联性官能团的无机微粒的膜形成用组合物能给予高温高湿耐性良好的固化膜
形成组合

[发明专利]光波导形成用树脂组合物、使用其的光波导形成用树脂膜和使用它们的光波导-CN201180041005.3有效
发明人：山口正利;牧野龙也;落合雅美 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2011-08-22 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： G02B6/12 文献下载
摘要：本发明涉及光波导形成用树脂组合物、使用该光波导形成用树脂组合物而成的光波导形成用树脂膜、和光波导，所述光波导形成用树脂组合物包含（A）具有羟基和／或羧基的聚合物、（B）具有氨基甲酸酯键的（甲基）丙烯酸酯、（C）多官能封闭异氰酸酯化合物、和（D）自由基聚合引发剂，所述光波导中，使用该光波导形成用树脂组合物、或该光波导形成用树脂膜而形成有下部包层、芯部、上部包层中的至少一个。本发明提供光波导形成用树脂组合物、使用了该光波导形成用树脂组合物的光学材料用树脂膜、以及使用它们的光波导形成用树脂组合物、光波导形成用树脂膜和透明性、耐热性、环境可靠性、强韧性优异的光波导，所述光波导形成用树脂组合物的透明性、耐热性、强韧性优异，能够形成高精度的厚膜，而且对生产性高的光波导形成用树脂膜特别有用。
波导形成树脂组合使用它们

[发明专利]α凝胶形成用组合物和α凝胶组合物-CN201780008407.0有效
发明人：宫原令二;冈隆史;宇山允人;田边沙织;米泽彻朗 -专利权人：株式会社资生堂
申请日： 2017-01-06 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： A61K8/34 文献下载
摘要：本发明要解决的课题在于，提供不存在随时间着色、晶体析出等的稳定性高的α凝胶形成组合物、和使用其的α凝胶组合物。α凝胶组合物，其包含，(A)1种或2种以上的碳原子数为16以上的高级脂肪族醇和/或高级脂肪酸25~50质量%，(B)特定的聚氧乙烯甾醇醚40~70质量%,(C)特定的聚氧乙烯二烷基酯和/或醚5~20质量%，所述组合物通过添加水而生成。
凝胶形成组合

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