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- [发明专利]尾气处理装置及半导体设备-CN202010443541.7在审
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周厉颖;杨帅;杨慧萍
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2020-05-22
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2020-08-25
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B01D53/00
- 本发明公开了一种尾气处理装置及半导体设备,装置包括:位于反应腔室外部且与反应腔室连通的低压排气支路、常压排气支路和尾气处理单元;低压排气支路上设置有低压控制元件,且一端与反应腔室的尾气输出端连通,另一端连接至尾气处理单元,用于在低压工艺中将反应腔室内的工艺尾气排出至尾气处理单元,反应腔室内的气压维持在小于常压的第一预设气压;常压排气支路设置有常压控制元件,且一端与反应腔室的尾气输出端连通,另一端连接至尾气处理单元,用于在常压工艺中将反应腔室内的工艺尾气排出至尾气处理单元,使反应腔室内的气压维持在等于常压的第二预设气压。实现了低压排气和常压排气间的自由切换,扩展机台可做的工艺,并提高生产效率。
- 尾气处理装置半导体设备
- [发明专利]一种常压加氢工艺及常压加氢装置-CN202010713215.3在审
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陈天晓;陈榕
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珠海天汇能源科技有限公司
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2020-07-22
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2020-11-06
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C10G45/02
- 本发明提供一种常压加氢工艺及常压加氢装置,属于化工技术领域,常压加氢工艺包括以下步骤:将原料加热后至360℃以上进行微泡活化,使原料转化为气相,以获得活化能;将活化后的原料与氢气混合进行加氢反应,反应压力0.06MPa;将加氢反应产物进行分离。常压加氢装置包括:加热系统,用于加热原料并回收热量;活化反应系统,用于使原料转化为气相状态,并对原料进行微泡活化;加氢反应系统,用于使活化后的原料在常压下进行加氢反应;分离系统,用于分离加氢反应产物。本发明能够使加氢反应的压力降至0.06MPa以下,使加氢反应可以在常压下进行,保证了反应的安全性,并且能够降低建设和生产成本。
- 一种常压加氢工艺装置
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