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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]布局图案以及包含该布局图案的掩模-CN201510001749.2在审
发明人：杜炯荣;黄志豪 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2015-01-04 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种布局图案以及包含布局图案的掩模。布局图案包括多个主要图案以及至少一辅助图案。主要图案相互平行且沿第一方向延伸。辅助图案位于最外侧的两个主要图案之间并连接所述两个主要图案，且以第二方向排列。第二方向与第一方向不同。
布局图案以及包含

[发明专利]主图案和切割图案的布局优化-CN201410017755.2有效
发明人：张世明;吕奎亮 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种更改部件图案的方法，包括：从设计图案中提取主图案和切割图案，以及如果任一部件图案违反了布局规则，则更改主图案和切割图案中的至少一个，其中，按照在形成主图案的过程中改进工艺窗口的一组工艺指南布置主图案本发明还公开了主图案和切割图案的布局优化。
图案切割布局优化

[发明专利]图案的制作方法和图案布局-CN202011312283.5有效
发明人：张钦福;冯立伟;童宇诚 -专利权人：福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L23/498 文献下载
摘要：本申请提供了一种图案的制作方法和图案布局，该方法包括：在基底上形成预图案，预图案包括多个沿第一方向间隔排列的预结构，预结构包括环形结构、第一焊盘结构和第二焊盘结构，环形结构包括首尾依次连接的第一竖直部、第一水平部、第二竖直部和第二水平部，其中，第一水平部和第一焊盘结构接触，第二水平部和第二焊盘结构接触；对预图案进行刻蚀，去掉环形结构的第一部分和第二部分，使得预结构形成间隔结构，间隔结构包括互不相连的第一导线和第二导线
图案制作方法布局

[发明专利]产生布局图案的方法-CN201911056900.7在审
发明人：骆文;张世明 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：一种产生布图案的方法，包括当在由带电粒子束直接地曝露在能量敏感的材料上的布局图案的一或多个特征时，决定第一能量密度，第一能量密度间接地曝露在能量敏感的材料上的布局图案的一或多个特征中的第一特征。
产生布局图案方法

[发明专利]增强布局图案的方法-CN202110129509.6在审
发明人：游信胜 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：增强布局图案的方法包含决定包含与开口有关的碟形图案的目标布局图案。方法包含在碟形图案上定义具有多个顶点的多边形，顶点相符于碟形图案的边界，且多边形作为开口的初始布局图案。方法包含执行目标布局图案的迭代修正。迭代修正包含投影开口的初始布局图案至基板上，决定目标布局图案与经投影布局图案之间的误差，并通过移动多边形的顶点以调整布局图案，以产生布局图案的下一迭代。方法包含持续进行调整、投影、决定直到合乎规范，且产生开口的布局图案的最终迭代。
增强布局图案方法

[发明专利]修正布局图案的方法-CN200910164998.8有效
发明人：杨育祥;黄俊宪 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2009-08-05 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明是揭露一种修正布局图案的方法。首先输入一布局图案，且该布局图案包含至少一线段，然后由该线段形成一规则检测矩形，且该规则检测矩形包含至少一正方形。接着检测该正方形是否重迭其它布局图案的其它部分，并移除该正方形重迭其它布局图案的区域以取得一修正后的布局图案。最后输出该修正后的布局图案至一光罩。
修正布局图案方法

[发明专利]形成布局图案的方法-CN201710363149.X有效
发明人：王嫈乔;童宇诚;冯立伟;何建廷 -专利权人：联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2017-05-22 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开一种形成布局图案的方法。首先提供一阵列图案，包含多个特征图形沿着一第一方向排列成多列，该多列特征图形在一第二方向上平行并交错。接着在各列的相邻特征图形之间插入一辅助图形。后续再将包含该辅助图形的该阵列图案输出至一光掩模。
形成布局图案方法

[发明专利]产生布局图案的方法-CN201510118314.6有效
发明人：王函隽;张登耀;林金隆;汤志贤;范耀仁 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2015-03-18 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明公开一种产生布局图案的方法，其包括下列步骤。提供起始布局，起始布局图案包括多条第一条状图案于第一群组区中，各第一条状图案沿第一方向延伸，且第一条状图案于第二方向上具有相同的节距。产生多条锚点带状图案，各锚点带状图案沿第一方向延伸，且锚点带状图案于第二方向上具有相同的节距。至少一条锚点带状图案于第二方向上的两边缘分别与两条相邻的第一条状图案的边缘对齐。至少一条锚点带状图案与两条相邻的第一条状图案之间的第一间隔重叠。在与锚点带状图案重叠的第一间隔处产生第一轴心图案，并将第一轴心图案输出至光掩模。
产生布局图案方法

[发明专利]生成半导体器件的布局图案的方法以及布局图案生成设备-CN200910173112.6无效
发明人：井上伦之 -专利权人：恩益禧电子股份有限公司
申请日： 2009-09-07 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及生成半导体器件的布局图案的方法以及布局图案生成设备。在布局图案生成方法中，在已经被布置在半导体芯片区域中的重做单元和填充单元之中，指定用于编辑的特定重做单元，并且在所述特定重做单元的布线层中，生成预定形状的特定图案。在所述重做单元之中除了所述特定重做单元之外的非特定重做单元和所述填充单元的布线层的至少一部分中，布置虚拟布线图案。从所述特定重做单元的布线层中删除所述特定图案。通过将所述特定重做单元布线为逻辑单元，将布线图案布置在所述特定重做单元的布线层中。
生成半导体器件布局图案方法以及设备

[发明专利]图案布局设计方法、图案形成方法和半导体器件制造方法-CN202011072242.3在审
发明人：韩奎斌;金尚昱 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种设计图案的布局的方法、使用其形成图案的方法、和制造半导体器件的方法。在一旋转方向上旋转原始图案的布局以形成旋转图案的布局。将旋转图案的布局的顶点和分割点与参考点中离其最近的参考点匹配，并连接匹配的参考点，以形成第一修改图案的布局。放大第一修改图案的布局的区域，以形成第二修改图案的布局。形成具有与旋转图案的布局相同的方向的参考图案的布局。基于参考图案和第二修改图案的布局重叠的区域，形成目标图案的布局。对目标图案的布局执行光学邻近校正，以形成第三修改图案的布局，将第三修改图案的布局在相反的旋转方向上旋转以形成最终图案的布局。
图案布局设计方法形成半导体器件制造

[发明专利]形成掩模的方法-CN201610081806.7有效
发明人：林义雄;郭大鹏;邱奕勋 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-02-05 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供了一种形成用于制造集成电路的一组掩模的方法，包括：确定原始布局设计中的第一通孔布局图案和电源轨布局图案的存在。第一通孔布局图案和电源轨布局图案彼此重叠。第一通孔布局图案是原始布局设计的第一单元布局的一部分。原始布局设计的第一单元布局和第二单元布局共用电源轨布局图案。该方法还包括更改原始布局设计以成为更改的布局设计并且基于更改的布局设计形成该组掩模。如果原始布局设计中存在第一通孔布局图案和电源轨，则更改原始布局设计包括：利用扩大的通孔布局图案来替换第一通孔布局图案。本发明还提供了利用该方法形成的集成电路。
形成方法

[发明专利]生成集成电路布局图的方法-CN202010818421.0在审
发明人：彭士玮;赖志明;曾健庭 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种生成集成电路布局图的方法包括在单元区域中布局第一导电特征布局图案。第一导电特征布局图案在第一方向上延伸，且单元区域具有在第二方向上延伸的相对第一及第二单元边界。在单元区域中，布局第二导电特征布局图案在第一方向上延伸。交替地布局第一及第二导电特征布局图案。在单元区域的第一单元边界上及第一导电特征布局图案的端部上，布局第一切割特征布局图案。第一切割特征布局图案中的一个在第一方向上偏移了第一切割特征布局图案中的另一个。生成包含第一、第二导电特征布局图案及第一切割特征布局图案的集成电路布局图。
生成集成电路布局方法

[发明专利]图案布局的形成方法-CN202010791325.1有效
发明人：许耀光;朱贤士;周运帆;王超雄 -专利权人：福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明公开了一种图案布局的形成方法。至少形成在衬底上的多条第一图案，本身具有交替排列多个的第一宽部以及第一窄部，其中多个第一窄部由于尺寸较小，因此在蚀刻步骤后会自动地被移除，而留下多个排列的第一宽部。
图案布局形成方法

[发明专利]多层半导体集成电路及其所使用的光罩与其制造方法-CN03104826.9有效
发明人：黄仲仁;陈昕辉;刘光文;王致皓;邱家荣 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-02-20 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：一种多层半导体集成电路及其所使用的光罩与其制造方法，该集成电路具有多层图案结构，其中的一图案结构层具有一正式图案布局以及一虚设图案布局；本方法是先提供一正式图案布局，再配合一规则的虚设图案布局，并利用逻辑操作将此虚设图案布局与该正式图案布局连结在一起，以便将虚设图案布局增设至正式图案布局的非正式图案空间中，进而利用此融合性图案布局去制作光罩，使其可适用于不同逻辑制程的多层半导体集成电路图案结构层的图案密度变化，进而降低多层图案结构层间的密度差异；本发明利用增设虚设图案布局的方式可简化黄光制程控制并使制程较为稳定
多层半导体集成电路及其使用与其制造方法

[发明专利]集成电路及其制造方法-CN201811001159.X有效
发明人：彭士玮;陈志良;杨超源;庄惠中;曾健庭;陈顺利;林威呈 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：一种形成集成电路的方法包括：通过处理器基于设计规则组生成集成电路的布局设计并且基于该布局设计制造集成电路。该集成电路具有第一栅极。生成布局设计包括生成栅极布局图案组，生成切割部件布局图案并生成第一通孔布局图案。切割部件布局图案在第一方向上延伸、位于第一布局层级上并且与至少第一栅极布局图案重叠。栅极布局图案组在第二方向上延伸并位于第一布局层级上。第一通孔布局图案位于第一栅极布局图案上方、并且在第二方向上通过第一距离与切割部件布局图案分离。第一距离满足第一设计规则。本发明还提供了集成电路。
集成电路及其制造方法

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