专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]室内-CN201520083171.5有效
  • 台德艳 - 安徽师范大学
  • 2015-02-05 - 2015-07-22 - E04H9/16
  • 本实用新型公开了一种室内室,该室内室包括室体(2)和镭射膜(1),所述镭射膜(1)设置于所述室体(2)的内表面,该室内室克服了现有技术中的房屋容易受电磁辐射的影响的问题,实现了屏蔽室外的电磁辐射。
  • 室内
  • [发明专利]室内衬及反应-CN200710120745.1有效
  • 管长乐 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2007-08-24 - 2009-02-25 - H01L21/00
  • 本发明公开了一种室内衬及反应室,包括外层内衬和里层内衬,外层内衬与里层内衬之间留有间隙,里层内衬上开有多个通孔,外层内衬上开有与反应室外部相通的进气口,里层内衬上开有与反应室外部相通的排气口。工艺气体可以通过进气口进入外层内衬与里层内衬之间的间隙,再由里层内衬上的多个通孔进入反应室内部,对工艺气体起到一定的缓冲作用,既能起到保护反应室的侧壁的作用,又能起到提高反应室内等离子体的均匀性的作用
  • 内衬反应
  • [实用新型]刻蚀机室内-CN202121629430.1有效
  • 刘峰;苏榕城 - 苏州工业园区雨竹半导体有限公司
  • 2021-07-17 - 2022-01-04 - H01J37/32
  • 本实用新型公开了刻蚀机室内衬,包括与等离子体刻蚀机反应内壁相贴合的柱形中空的内衬本体,所述内衬本体的一侧开设有与等离子体刻蚀机反应基片进出口位置对应的开口,所述内衬本体于所述开口的相对一侧开设有T形开口,所述T形开口的两侧沿内衬本体周向开设有若干个与等离子体刻蚀机反应的分子泵抽气孔位置对应的匀流槽孔,所述T形开口的两侧内壁上端一体连接有垂直于内衬本体外表面的悬挂片,所述悬挂片搭接于等离子体刻蚀机反应内壁本实用新型能够在保护室内壁同时加快抽气速率,能够减少附着在室内壁上的刻蚀沉积物,使机台内部气体浓度增加,使机台在刻蚀中,增加刻蚀速率,减少刻蚀时间。
  • 刻蚀机腔室内衬
  • [发明专利]室内衬、工艺室和半导体处理设备-CN201810493616.5有效
  • 邱国庆;赵梦欣;白志民;王厚工;丁培军 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2018-05-22 - 2021-08-13 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种室内衬、工艺室和半导体处理设备。室内衬用于在工艺室内形成限制等离子体分布的工艺空间,包括:第一围挡部;自第一围挡部向工艺空间内侧弯折延伸形成的过渡连接部;自过渡连接部向背离第一围挡部的方向弯折延伸形成的第二围挡部;第一围挡部、过渡连接部和第二围挡部共同形成工艺空间;过渡连接部上设置有第一收容结构,用于收容工艺室内产生的颗粒杂质。通过所设置的第一收容结构,能够有效收集工艺室内产生的颗粒杂质,从而能够避免该些颗粒杂质落到工艺室中的硅片表面,进而能够提高硅片的工艺良率,降低制作成本。
  • 内衬工艺半导体处理设备
  • [发明专利]反应室内衬及包含该内衬的反应-CN200610164984.2有效
  • 杨盟 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2006-12-11 - 2008-06-18 - H01L21/00
  • 本发明公开了一种反应室内衬及包含该内衬的反应室,包括侧面内衬、底面内衬,侧面内衬分里层内衬和外层内衬两层,其间形成封闭空间;里层内衬开有多个气孔,外层内衬开有内衬进气开口和内衬排气开口,分别与反应室的进气口和排气口相对应,工艺气体首先进入里层内衬与外层内衬之间的封闭空间,然后通过里层内衬上的气孔进入到反应室,再由反应室进入到里层内衬与外层内衬之间的封闭空间,并由排气口排出。使反应室内的气体流速趋于均匀化,既能使室壁得到保护、又能使室内的气体分布均匀。主要适用于半导体加工设备的反应室,也适用于其它类似的室。
  • 反应内衬包含
  • [发明专利]反应室内衬及包含该内衬的反应-CN200610164847.9有效
  • 管长乐 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2006-12-06 - 2008-06-11 - H01L21/00
  • 本发明公开了一种反应室内衬及包含该内衬的反应室,包括侧面内衬、底面内衬,底面内衬高于侧面内衬的下缘,且至少有一层底面内衬,底面内衬上开有多个内衬孔。包含该内衬的反应室被分割为上方空间和下方空间,并通过内衬孔使上方的空间与下方的空间相通。从进气口进入反应室的工艺气体必须通过底面内衬上的内衬孔才能从排气口被抽出。使反应室内的气体流速趋于均匀化,既能使室壁得到保护、又能使室内的气体分布均匀。当晶片在室中进行刻蚀工艺时,整个晶片表面上可以获得均匀的刻蚀速率。本发明主要适用于半导体加工设备的反应室,也适用于其它类似的室。
  • 反应内衬包含
  • [实用新型]一种新风机-CN201620888273.9有效
  • -
  • 2016-08-16 - 2017-01-11 - F24F7/007
  • 本实用新型提供一种新风机,包括箱体、送风风机、回风风机、热交换芯、第一过滤网和第二过滤网,箱体上开设室内进风口、室外进风口、室内回风口和室内出风口,其特征在于:所述热交换芯固定在箱体内并与箱体之间形成室内进风、室外进风室内回风室内出风室内进风口与室内进风连通,室外进风口与室外进风连通,室内回风口与室内回风连通,室内出风口与室内出风连通;所述第一过滤网设置在室内进风内,第二过滤网设置在室外进风内,送风风机设置在室内出风内,回风风机设置在室内回风内。
  • 一种风机
  • [发明专利]空调系统及其控制方法-CN202011378268.0在审
  • 刘帅;黄玉优;王芳;赖桃辉;刘警生;张瀛龙 - 珠海格力电器股份有限公司
  • 2020-11-30 - 2021-02-26 - F24F5/00
  • 本公开提供一种空调系统及其控制方法,空调系统包括:室内进风、室外进风室内出风、室外出风;压缩制冷模式下,室内进风室内出风相连通,室内空气依次流经室内进风室内出风循环换热,进行压缩制冷;新风制冷模式下,室内出风与室外进风相连通,室外新风依次流经室外进风室内出风进入室内,执行新风制冷。本公开的空调系统在室外温度较低时执行新风制冷模式,室外低温新风引入室内,降低室内温度,充分利用自然冷源对机房进行降温,仅在室外温度较高时执行压缩制冷模式,室内空气执行内制冷循环,降低室内温度,从而解决了机房空调系统常年压缩制冷造成的能耗高的问题
  • 空调系统及其控制方法
  • [实用新型]空调系统-CN202022839626.5有效
  • 刘帅;黄玉优;王芳;赖桃辉;刘警生;张瀛龙 - 珠海格力电器股份有限公司
  • 2020-11-30 - 2021-09-24 - F24F5/00
  • 本公开提供一种空调系统,包括:室内进风、室外进风室内出风、室外出风;压缩制冷模式下,室内进风室内出风相连通,室内空气依次流经室内进风室内出风循环换热,进行压缩制冷;新风制冷模式下,室内出风与室外进风相连通,室外新风依次流经室外进风室内出风进入室内,执行新风制冷。本公开的空调系统在室外温度较低时执行新风制冷模式,室外低温新风引入室内,降低室内温度,充分利用自然冷源对机房进行降温,仅在室外温度较高时执行压缩制冷模式,室内空气执行内制冷循环,降低室内温度,从而解决了机房空调系统常年压缩制冷造成的能耗高的问题
  • 空调系统
  • [实用新型]一种超薄壁挂式新风净化一体机-CN201922005476.5有效
  • 尹全喜;方昌江 - 广东伊斐净化科技有限公司
  • 2019-11-18 - 2020-07-31 - F24F7/007
  • 本实用新型涉及新风机领域,特别涉及一种超薄壁挂式新风净化一体机,包括壳体,所述壳体内设有室外进风室内进风室内出风和室外出风,所述室外进风设有室外进风口,所述室内进风设有室内进风口,所述室内出风设有室内出风口,所述室外出风设有室外出风口,所述室外进风内设有第一滤芯,所述室内进风处设有第二滤芯,所述室外出风设有第三滤芯和风机,所述室内出风口内设有排气扇,所述室内进风上设有为室内风和室外风进行热交换的热交换器,所述室外进风、热交换器、室外出风形成室外送风通道,所述室内进风、热交换器、室内出风形成室内送风通道;该一体机可以实现内循环,同时也可以补充室外的新鲜空气。
  • 一种超薄壁挂式新风净化一体机

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