专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于线性自抗扰控制的MMC‑HVDC系统控制方法-CN201710087615.6在审
  • 张芳;张光耀 - 天津大学
  • 2017-02-17 - 2017-04-26 - H02M7/483
  • 本发明涉及一种基于线性自抗扰控制的MMC‑HVDC系统控制方法,采用双闭环结构,控制方式为PQ控制方式或UQ控制方式,PQ控制方式时,外环为有功外环和无功外环;UQ控制方式时,外环为电压外环和无功外环,有功外环、无功外环采用线性自抗扰控制和前馈控制的组合;电压外环采用线性自抗扰控制外环均向内环提供电流参考值;内环为电流环,其控制采用线性自抗扰控制,并为相应的调制策略提供调制电压参考值。本发明不仅实现有功功率和无功功率的完全解耦控制,而且还具有响应速度快、控制精度高、不依赖控制对象数学模型以及控制参数少、易于调整的优点。
  • 基于线性控制mmchvdc系统方法
  • [发明专利]一种能克服传动间隙非线性的双环自抗扰控制-CN201610265025.3有效
  • 蔡涛;杨静远;陈杰 - 北京理工大学
  • 2016-04-26 - 2018-04-06 - H02P23/12
  • 本发明一种能够克服传动间隙非线性的双环自抗扰控制,所述控制包括外环自抗扰控制和内环自抗扰控制;内环自抗扰控制采用电机速度反馈,参考信号为外环自抗扰控制中的ESO输出的速度信号与传动比的乘积;外环自抗扰控制采用负载位置反馈,参考信号为设定的期望负载位置;将外环自抗扰控制的输出控制量u1与内环自抗扰控制的输出控制量u2相加作为被控对象的控制量;由此实现双环自抗扰控制。本发明引入内环自抗扰控制,内环自抗扰控制控制目标是使驱动与从动部分的速度同步,经过内环自抗扰控制处理之后,被控对象呈现近似刚性的特性,这时再用外环自抗扰控制控制负载的位置,可以实现很好的控制效果
  • 一种克服传动间隙非线性控制器
  • [发明专利]一种高性能双率串级PID控制方法、装置及系统-CN202110032027.9有效
  • 柴天佑;贾瑶 - 东北大学
  • 2021-01-11 - 2021-12-07 - G05B11/42
  • 本发明公开了一种高性能双率串级PID控制方法、装置及系统,属于工业生产过程控制技术领域,首先设计内环PID控制,从而获得内环闭环控制系统动态模型,然后利用外环的采样周期内,内环PID控制的设定值不变,采用提升技术建立基于内环PID闭环控制系统动态特性的外环动态模型,然后基于外环动态模型设计外环PID控制,采用确定好的内环PID控制外环PID控制进行高性能双率串级PID控制。本发明解决了频繁未知干扰或动态特性未知变化造成串级工业过程的内环和外环动态变化,相互影响,甚至造成谐振,无法采用常规串级PID控制技术实现该串级工业过程的控制目标的难题。
  • 一种性能双率串级pid控制方法装置系统
  • [发明专利]一种有源滤波输出电流的控制系统及方法-CN201811437125.5有效
  • 徐业平 - 广州锐翔电力科技有限公司
  • 2018-11-28 - 2022-05-20 - H02J3/01
  • 本发明公开了一种有源滤波输出电流的控制系统,其特征在于,包括变流器、LCL输出滤波网络、内环控制外环控制外环控制用于将变流器网侧电流信号作为输入信号、电网侧输出电流作为反馈信号,外环控制对对信号处理后输出到内环控制,内环控制采用电流波形电流波形瞬时值跟踪控制,产生输出信号输出到变流器,实现了对每个频率成分的精确控制,变流器的输出端与LCL输出滤波网络电连接可用于同时补偿多个频率成分的谐波电流,控制系统的外环设置有闭环控制每个频率成分的幅值与相位的外环控制,解决了同时控制多个频率成分时,每个频率成分的控制效果会互相影响耦合的问题,实现多频率成分组合波形的精确控制
  • 一种有源滤波器输出电流控制系统方法
  • [发明专利]一种双回路卫星姿态跟踪控制装置及方法-CN201410283960.3有效
  • 李东;万松;刘爽;吴子轶;李晓红;阳应权 - 上海微小卫星工程中心
  • 2014-06-24 - 2014-10-15 - G05D1/08
  • 一种双回路卫星姿态跟踪控制装置及方法,装置包括内环回路和外环回路构成的姿控闭环;所述内环回路包括依次连接的内环控制、结构滤波模块、延迟模块以及陀螺敏感;所述外环回路包括依次连接的外环控制、内环控制、结构滤波模块、延迟模块、积分模块以及星敏感;其中,所述内环回路中的内环控制、结构滤波模块以及延迟模块与所述外环回路共用,所述外环回路的带宽小于所述内环回路;通过内环回路消除卫星姿态角速度偏差,通过外环回路消除卫星姿态角度偏差并控制系统的稳定性本发明基于内外环双环姿态控制结构,内环消除卫星姿态角速度偏差,外环消除姿态角度偏差并保证系统的稳定性,同时解决高精度稳态控制和高精度姿态跟踪控制
  • 一种回路卫星姿态跟踪控制装置方法
  • [实用新型]一种研磨机下盘控制机构及研磨机-CN201921763701.5有效
  • 韩文光;丁爱民 - 天津布莱德尔机床有限公司
  • 2019-10-18 - 2020-09-15 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了一种研磨机下盘控制机构及研磨机。该机构包括:内环组件、外环组件、PLC控制和传感组件;其中,外环组件可以包括:外环和位于外环下部的外环升降部,外环升降部上的多个齿柱可移动地穿设外环上的多个齿柱孔;内环组件、外环升降部和传感组件分别与PLC控制电联接;传感组件设置在外环上,用于采集位于内环组件与外环之间的载盘通过传感组件时的光感应信号;PLC控制用于接收到停止加工的指令后,接收传感组件采集的光感应信号,控制内环组件停转以使得载盘位于外环升降部下降后多个齿柱孔形成的缺口处该机构能够有效地控制载盘停留在预留的缺口处,方便迅速装载和卸载被研磨工件和载具,提高了工作效率。
  • 一种研磨机下盘控制机构

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