专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]立式基板湿制程装置-CN202010078719.2在审
  • 丁鸿泰 - 睿明科技股份有限公司
  • 2020-02-03 - 2021-08-03 - H05K3/06
  • 本发明提供一种立式基板湿制程装置,其中湿制程装置至少包含:蚀刻段、至少两组风刀单元以及一传送组件,蚀刻段具有一蚀刻槽体以供容置蚀刻药液,蚀刻槽体两相对侧面分别形成一入口及一出口,至少两组风刀单元分别设于入口与出口,可供产生一风墙以阻挡蚀刻槽的蚀刻药液从入口和出口流出,并利用传送组件以立式于蚀刻段移送至少一基板,可克服水池效应,从而提高蚀刻均匀性。
  • 立式基板湿制程装置
  • [实用新型]基板制程用的框架-CN202020237707.5有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2020-03-02 - 2020-10-30 - B25J15/08
  • 本实用新型提供一种基板制程用的框架,其包括两个夹具,呈相对向设置;四个动力机构,夹具的两端分别设有动力机构,动力机构包括壳体、齿条、齿轮、弹性组件及驱动组件,齿条与齿轮相互啮合且设于壳体中,齿轮的一侧连接夹具的一端由此,本实用新型可作为基板的传输使用,且由动力机构驱动夹具,使夹具稳固夹持基板或释放基板,而达到便于传输基板至后续制程的功效。
  • 基板制程用框架
  • [发明专利]OLED基板及其制作方法-CN201611015034.3在审
  • 王杲祯 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2016-11-15 - 2017-02-22 - H01L27/32
  • 本发明提供一种OLED基板及其制作方法。本发明的OLED基板的制作方法,通过采用无机物材料制作像素定义层,能够降低光阻剥离制程中像素定义层被误剥离的风险,同时降低蒸镀制程中精细金属掩膜板被污染的风险,提高精细金属掩膜板的使用效率。本发明的OLED基板,采用上述OLED基板的制作方法制备而成,像素定义层结构完整,能够有效保护下方阳极及衬底基板,器件性能好。
  • oled及其制作方法
  • [发明专利]阵列基板的制备方法及阵列基板-CN201911178033.4在审
  • 黎美楠 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2019-11-27 - 2020-04-21 - H01L27/12
  • 本发明提供一种阵列基板的制备方法及阵列基板,采用第一道光罩制程对所述第一金属层进行图案化处理,得到栅极;采用第二道光罩制程对所述第二金属层以及所述有源层进行图案化处理形成源漏极金属层,沟道以及半导体;采用第三道光罩制程对所述钝化层进行图案化处理形成接触孔以及透明电极图案本发明通过三道光罩形成薄膜晶体管的阵列基板,进而减少掩膜板的数量,减少工艺的流程和费用。
  • 阵列制备方法
  • [实用新型]电浆制程系统的基板夹持拉撑机构-CN202221704290.4有效
  • 李原吉;刘品均;杨峻杰;蔡明展;卢志铭 - 友威科技股份有限公司
  • 2022-07-04 - 2022-11-29 - H01J37/32
  • 本实用新型为一种电浆制程系统的基板夹持拉撑机构,其设于真空电浆制程腔体内,本实用新型包括加工平台、夹持装置及拉撑装置。加工平台用以承放待制程基板,加工平台边缘设有水平位移区;夹持装置设于水平位移区,夹持装置具有相互枢接的上夹持件及下夹持件,下夹持件相对加工平台于初始位置及拉撑位置之间水平位移,上夹持件相对初始位置以及拉撑位置而分别具有开启状态以及夹持状态;拉撑装置设于夹持装置远离待制程基板一侧,拉撑装置具有一与夹持装置连接的配重件,配重件利用垂直方向的悬吊,常态将夹持装置往拉撑位置的方向迫紧。
  • 电浆制程系统夹持机构
  • [发明专利]低温多晶硅阵列基板的制造方法-CN201710466079.0在审
  • 胡德莹;王中来;曾振助 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-06-19 - 2017-08-25 - G02F1/1362
  • 本发明涉及一种低温多晶硅阵列基板的制造方法,涉及液晶面板加工技术领域,解决了现有技术中存在的基板上的图案与目标值之间相差较大的技术问题。低温多晶硅阵列基板的制造方法包括对基板进行第一道光刻制程时,用图形修正值对目标点的期望位置进行修正,获得目标点的实际位置的操作步骤,通过采用图形修正值,在进行第一道光刻制程时对目标值进行了修正,即在进行第一道光刻制程时,是将目标图形预先进行形变后再制作在基板上,这样基板在经过高温烘烤之后,图形虽然还是会发生形变,但是由于制成的图形是带有形变量的图形,因此与目标图形之间的误差会降低很多,可以满足设计的需求。
  • 低温多晶阵列制造方法

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