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- [发明专利]图案描绘装置-CN201880058830.6在审
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加藤正纪;中山修一;鬼头义昭;铃木智也;堀正和;林田洋祐
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株式会社尼康
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2018-09-11
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2020-04-24
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G03F7/20
- 本发明提供了一种图案描绘装置(EX)，具备将描绘光束(LBn)的点光(SP)于主扫描方向扫描以描绘图案的描绘单元(Un)、以及用以使基板(P)与描绘单元(Un)往副扫描方向相对移动的移动机构。图案描绘装置(EX)使用选择用光学元件(OSn)，将来自光源装置(LS)的光束(LB)，在因电气信号造成的光学特性变化而以既定偏向角度偏向以作为描绘光束(LBn)射入描绘单元(Un)的第1状态、与不射入描绘单元(Un)的第2状态之间择一切换，为了在第1状态时，使从描绘单元(Un)投射的点光(SP)往副扫描方向位移既定量，控制电气信号以使因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化，并将伴随因选择用光学元件(OSn
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201780022186.2有效
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鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;加藤正纪
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株式会社尼康
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2017-03-28
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2021-02-05
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G03F7/20
- 一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201811075026.7有效
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加藤正纪
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株式会社尼康
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2015-04-27
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2021-05-18
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G02B26/12
- 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201680074442.8有效
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仓重贵广;渡辺智行;加藤正纪
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株式会社尼康
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2016-12-14
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2020-11-24
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G03F7/20
- 曝光装置EX，其具有将根据描绘资料调变的光束(LB)投射至基板(P)上的曝光头部(14)，藉由使基板(P)移动于副扫描方向，于基板(P)上描绘对应描绘资料的图案。曝光装置(EX)具备描绘控制部(100)，其将待描绘于基板(P)的图案在副扫描方向的描绘倍率的变更位置，与以测量机构测量基板(P)的移动量变化的测量机构所测量的移动量对应地设定，在描绘倍率的变更位置设定在排列于副扫描方向的复数个像素中的特定像素的副扫描方向途中的情形，将在副扫描方向中特定像素的一个前的像素的描绘完毕的位置作为新变更位置，修正以测量机构测量的移动量与像素的尺寸的对应关系，而设定至描绘倍率的次一变更位置为止从描绘资料储存部(108)读出的像素资料的位址
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201780061760.5有效
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鬼头义昭;加藤正纪;中山修一;铃木智也
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株式会社尼康
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2017-09-14
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2021-07-23
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G03F7/20
- 本发明提供一种图案描绘装置(EX)，其包括：光束切换部，具有多个选择用光学构件(OSn)，为了使光源装置(LS)射出的光束选择性地供给至多个描绘单元(Un)的其中之一，所述光学构件被设置成能依照顺序的引导光源装置(LS)射出的光束通过，且藉由电气控制使光束射向描绘单元(Un)；以及控制部(250)，在调整自多个描绘单元(Un)中特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度时，在对应于特定的描绘单元(Un)的光束强度调整部的可调整范围内调整投射向基板(P)的光束的强度，并以使自特定的描绘单元(Un)以外的其他各个描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度，与自特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度一致的方式，控制对应于其他各个描绘单元(Un)的前述光束强度调整部。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN202010601959.6有效
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小宫山弘树
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株式会社 尼康
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2016-06-17
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2023-06-16
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201880052782.X有效
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鬼头义昭;加藤正纪
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株式会社尼康
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2018-09-06
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2023-03-28
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)，将作为点光(SP’)投射于基板(P)的描绘光束(LBn)的强度，一边根据以多数个像素(PIC)规定的图案的描绘数据进行调变、一边将点光(SP’)的投射位置在基板(P)上沿像素图案描绘装置(EX)，具备：根据描绘数据，对相对扫描中点光(SP’)照射的曝光像素的各个射出作为描绘光束以既定周期(Tf)振荡的脉冲光的既定数，对相对扫描中不被点光(SP’)照射的非曝光像素的各个则中断既定数脉冲光的射出的光源装置(LS)，以及根据描绘数据，以使对曝光像素中对应图案边缘部的边缘部曝光像素(PIC’)射出的脉冲光的数量，相对既定数增减的方式控制光源装置(LS)的描绘控制装置(200)。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN201680035608.5有效
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小宫山弘树
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株式会社尼康
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2016-06-17
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2020-07-17
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G02B26/12
- 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN201780061213.7有效
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加藤正纪;中山修一
-
株式会社尼康
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2017-05-15
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2021-08-06
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
- 图案描绘装置方法
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