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[实用新型]低温对流加热淬火炉-CN202222900913.1有效
发明人：罗此树;周楷人 -专利权人：郑州市恒塑电子科技有限公司
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C21D9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及低温对流加热淬火炉，低温对流加热淬火炉包括炉体、气体喷射装置和高压气体产生装置，气体喷射装置设置有多个，各气体喷射装置周向设置在炉体内，高压气体发生装置与各气体喷射装置连接，气体喷射装置包括气体喷射座，气体喷射座中设置有气体喷射腔，气体喷射腔中设置有加热装置，气体喷射座沿炉体长度方向设置，气体喷射座的侧面设置有喷射孔，喷射孔与气体喷射腔贯通，气体喷射腔上盖设有盖板，盖板上设置有电磁阀，电磁阀一端与气体喷射腔贯通，另一端连接有高压气体产生装置。
低温对流加热淬火

[发明专利]二冲程燃气发动机及该发动机用的燃料气体喷射系统-CN201610335130.X有效
发明人：石田裕幸;柚木晃广;三柳晃洋;平冈直大;驹田耕之 -专利权人：三菱重工业株式会社;日本发动机股份有限公司
申请日： 2013-01-31 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： F02B43/04 文献下载
摘要：一种二冲程燃气发动机及该发动机用的燃料气体喷射系统，具备：气缸及气缸盖；活塞；燃料气体喷射机构；点火机构；扫气端口；控制装置，对燃料气体喷射机构及点火机构控制，活塞处于上升行程且位于上止点附近跟前时通过燃料气体喷射机构喷射燃料气体，活塞位于上止点附近时通过燃料气体喷射机构喷射燃料气体，活塞位于上止点附近时通过点火机构对燃烧室内燃料气体点火，燃料气体喷射机构具有：活塞位于上止点附近时向燃烧室喷射燃料气体的第一燃料气体喷射机构；与第一燃料气体喷射机构分开构成的活塞位于上止点附近跟前时向燃烧室喷射燃料气体的第二燃料气体喷射机构，第二燃料气体喷射机构构成使用压力比第一燃料气体喷射机构低的喷射机构。
冲程燃气发动机燃料气体喷射系统

[发明专利]气体喷射装置及具备该气体喷射装置的处理室-CN201010124238.7有效
发明人：李敦熙;金范城;河周一;马熙铨;金东建;卢东珉 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2010-03-15 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：提供一种可防止气体喷射板的变形及破损的气体喷射装置，以及具备该气体喷射装置的处理室。气体喷射装置包括形成有气体注入口的支撑板、气体喷射板、多个连结块及隔离膜。气体喷射板，同支撑板隔着间距而设置，并且具备多个气体喷射孔，用于将通过气体流入口流入的气体向被处理基板方向喷射。连结块沿气体喷射板的边缘相互隔着间距设置，其一端部被固定结合在气体喷射板上，另一端部被支撑板支撑，以便随着气体喷射板的热变形而移动。隔离膜沿气体喷射板的边缘形成在连结块之间，用于封闭支撑板和气体喷射板之间的空间。根据上述结构，能够防止气体喷射板的热变形所导致的破损，提高沉积均匀性。
气体喷射装置具备处理

[发明专利]气体喷射装置和使用其的基底处理设备-CN201080038519.9有效
发明人：李晶桓;朴又永;咸兑昊 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2010-08-24 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明提供一种气体喷射装置和使用其的基底处理设备。该气体喷射装置包括多个气体喷射单元，多个气体喷射单元布置在基底支承部件上方，基底支承部件以可旋转的方式布置在腔室内以支承多个基底，多个气体喷射单元相对于基底支承部件的中心点沿圆周方向布置以将处理气体喷射到基底上其中，多个气体喷射单元中的每一个均包括：顶板，顶板中设置有构造成引入处理气体的入口；以及喷射板，喷射板布置在顶板下方以沿基底支承部件的半径方向在喷射板与顶板之间限定气体扩散空间，喷射板具有在气体扩散空间下方的多个气体喷射孔，以将经入口引入并在气体扩散空间内扩散的处理气体喷射到基底上。在多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元中，处理气体在多个点引入气体扩散空间。
气体喷射装置使用基底处理设备

[实用新型]干冰喷射装置-CN202021623734.2有效
发明人：杉山刚博;佐川英之;末永和史 -专利权人：日立金属株式会社
申请日： 2020-08-06 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供减少了干冰供给部的内部所含的干冰粒通过的流路的堵塞的干冰喷射装置。干冰喷射装置具备喷射嘴、干冰供给部、喷射气体供给部、以及干燥气体供给部。喷射嘴将干冰和喷射气体一起喷射。干冰供给部向喷射嘴供给从喷射嘴喷射的干冰。喷射气体供给部向喷射嘴供给从喷射嘴喷射的喷射气体。干燥气体供给部将用于调整干冰供给部内的相对湿度的干燥气体供给到干冰供给部内。
干冰喷射装置

[发明专利]气体喷射装置和使用其的基底处理设备-CN201080038799.3有效
发明人：黄熙;许弼雄;韩昌熙 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2010-08-24 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明提供一种气体喷射装置和使用其的基底处理设备。该气体喷射装置包括多个气体喷射单元，多个气体喷射单元布置在基底支承部件上方，基底支承部件以可旋转的方式布置在腔室内以支承多个基底，多个气体喷射单元相对于基底支承部件的中心点沿圆周方向布置以将处理气体喷射到基底上多个气体喷射单元中的每一个均包括：顶板，顶板中设置有构造成引入处理气体的入口；以及喷射板，喷射板布置在顶板下方以沿基底支承部件的半径方向在喷射板与顶板之间限定气体扩散空间，喷射板具有在气体扩散空间下方的多个气体喷射孔，以将经入口引入并在气体扩散空间内扩散的处理气体喷射到基底上。在多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元中，分隔壁布置在顶板与喷射板之间，以沿基底支承部件的半径方向将气体扩散空间分割成多个隔开的空间，并且设置多个入口且多个入口分别设置在隔开的空间内使得处理气体独立地引入隔开的空间
气体喷射装置使用基底处理设备

[发明专利]用于原子层沉积的设备与工艺-CN201280012307.2无效
发明人： J·约德伏斯基;G·K·翁;M·常;A·N·恩古耶;D·汤普森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-03-01 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法，所述气体分配板包含至少一个气体喷射器单元。每一气体喷射器单元包含多个狭长气体喷射器，所述多个狭长气体喷射器包括至少两个第一反应气体喷射器及至少一个第二反应气体喷射器，所述至少两个第一反应气体喷射器围绕所述至少一个第二反应气体喷射器。本发明也提供包括气体分配板的原子层沉积设备及方法，所述气体分配板具有多个气体喷射器单元。
用于原子沉积设备工艺

[发明专利]薄膜沉积装置-CN201810153835.9在审
发明人：张喆旼;金定坤;奇圣勋;许明洙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：根据本发明的一实施例的薄膜沉积装置可以包括气体喷射单元，所述气体喷射单元包括沿第一方向对齐布置而向基板喷射互不相同的沉积气体的第一喷射部及第二喷射部，所述第一喷射部包括：第一喷射模块，喷射第一气体；以及第二喷射模块，布置于所述第一喷射模块的所述第一方向上的两侧面中的至少一面，并喷射第二气体，且所述第一喷射模块包括：第一气体管，供应所述第一气体；以及第一等离子体生成电极，布置于所述第一气体管下方，使所述第一气体贯通而使所述第一气体向所述基板喷射，且所述第二喷射模块包括：喷射主体，在内部布置有收容所述第二气体的空间；以及多个喷射喷嘴，布置于所述喷射主体的下侧，并喷射位于所述空间内的第二气体。
喷射喷射模块喷射部薄膜沉积装置气体喷射单元气体管基板等离子体生成电极沉积气体方向对齐喷射喷嘴所述空间两侧面贯通

[发明专利]具有可变燃料气体喷射压力和持续时间的内燃机-CN201310258145.7有效
发明人：安德斯·安德烈亚森 -专利权人：曼恩柴油机涡轮股份公司曼恩柴油机涡轮德国分公司
申请日： 2013-06-26 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： F02D1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种内燃机，所述内燃机例如是两冲程十字头柴油机，所述内燃机包括：燃料气体供给系统；气缸，所述气缸设置有用于将燃料气体直接喷射到气缸的燃烧室中的燃料气体喷射器；以及发动机控制单元，所述发动机控制单元根据发动机负载指数控制到气缸中的燃料气体喷射，其中到气缸中的燃料气体喷射通过调节燃料气体喷射长度而被控制，其中到气缸中的燃料气体喷射通过调节燃料气体喷射长度和燃料气体喷射压力来控制，发动机控制单元通过调节燃料气体喷射长度使燃料气体喷射适应于发动机负载的突然变化，燃料喷射长度和燃料气体喷射压力依赖于发动机负载指数，以及发动机控制单元调节燃料气体喷射压力且相反地调节燃料气体喷射长度以符合发动机负载指数。
具有可变燃料气体喷射压力持续时间内燃机

[发明专利]二冲程燃气发动机及该发动机用的燃料气体喷射系统-CN201610333674.2有效
发明人：石田裕幸;柚木晃广;三柳晃洋;平冈直大;驹田耕之 -专利权人：三菱重工业株式会社;日本发动机股份有限公司
申请日： 2013-01-31 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： F02B25/04 文献下载
摘要：一种二冲程燃气发动机及该发动机用的燃料气体喷射系统，具备：气缸及气缸盖；活塞，收容于气缸内，在其与气缸周壁及气缸盖之间划分出燃烧室；燃料气体喷射机构，向燃烧室喷射燃料气体；扫气端口，开设在气缸周壁上，在活塞位于下止点附近时向燃烧室内供给空气；燃料气体喷射时机控制机构，在活塞处于上升行程、且活塞位于上止点附近的跟前时通过燃料气体喷射机构喷射燃料气体，在活塞位于上止点附近时通过燃料气体喷射机构喷射燃料气体，燃料气体喷射机构具有在活塞位于上止点附近时向燃烧室喷射燃料气体的第一燃料气体喷射机构、与第一燃料气体喷射机构分开构成的在活塞位于上止点附近的跟前时向燃烧室喷射燃料气体的第二燃料气体喷射机构。
冲程燃气发动机燃料气体喷射系统

[发明专利]原子层生长装置-CN201680030039.5有效
发明人：松本龙弥;鹫尾圭亮 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2016-04-19 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明的原子层生长装置具备安装到成膜容器开口部的喷射器和插入安装到开口部的喷射器防粘构件，在喷射器分隔设有喷射器原料气体供给路径、喷射器原料气体供给口、喷射器反应气体供给路径、喷射器反应气体供给口、喷射器惰性气体供给路径、喷射器惰性气体供给口，在喷射器防粘构件分隔设有防粘构件原料气体供给路径、防粘构件原料气体供给口、防粘构件反应气体供给路径、防粘构件反应气体供给口、防粘构件惰性气体供给路径、防粘构件惰性气体供给口，在喷射器防粘构件的外周侧和开口部的内周侧的间隙，设有防粘构件惰性气体供给路径，以使惰性气体流过。
原子生长装置

[发明专利]合成用燃烧器-CN201811064095.8有效
发明人：乙坂哲也 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： C03B37/018 文献下载
摘要：本发明是一种合成用燃烧器，其合成形成多孔质玻璃母材的玻璃微粒子，其包括：原料气体喷射部，朝向靶喷射原料气体；助燃性气体喷射部，沿着在第1合流点与原料气体合流的方向喷射助燃性气体；以及可燃性气体喷射部，沿着在位于比第1合流点更靠近助燃性气体喷射部的第2合流点与助燃性气体合流的方向喷射可燃性气体。在所述合成用燃烧器中，助燃性气体喷射部也可以具有沿着一条直线配置的多个喷射口。
合成燃烧

[发明专利]用于内燃机的双燃料燃料喷射系统-CN201780015510.8在审
发明人： I·伯杰;H·施奈德 -专利权人：莱奥林奇有限责任公司
申请日： 2017-04-21 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： F02M21/02 文献下载
摘要：一种用于内燃机的双燃料燃料喷射系统具有液体燃料喷射支路和气体燃料喷射支路，在所述气体燃料喷射支路中存在气体喷射器装置，所述气体喷射器装置能够经由控制流体操控。液体燃料形成气体喷射器装置的控制流体。
气体喷射器支路气体燃料喷射燃料喷射系统控制流体内燃机双燃料液体燃料喷射液体燃料操控

[发明专利]金属粉末制造装置及其气体喷射器-CN201980050329.X有效
发明人：芝山隆史;今野晋也;王玉艇;江口滋信 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B22F9/08 文献下载
摘要：金属粉末制造装置，具备：第一气体喷射喷嘴(71)，由以在多个熔液喷嘴插入孔(12A、12B)的每一个的周围描绘第一环(61)的方式配置于气体喷射器(200)的底面的多个喷射孔(91)构成，且对从熔液喷嘴(11A、11B)流下的熔融金属喷射气体进行粉碎；第二气体喷射喷嘴(72)，由以在第一环(61)的每一个的外侧描绘第二环(62)的方式配置于气体喷射器(200)的底面的多个喷射孔(92)构成，且为了防止通过第一气体喷射喷嘴(71)粉碎的金属粒(15)的飞散而喷射气体的第二气体喷射喷嘴(72)；以及第三气体喷射喷嘴(73)，由以在第二气体喷射喷嘴(72)的外侧描绘第三环(63)的方式配置于气体喷射器(200)的底面的多个喷射孔(93)构成，且对喷雾槽(4)的内壁面喷射气体。
金属粉末制造装置及其气体喷射器

[发明专利]晶片处理系统、气体喷射系统和控制气体的温度的方法-CN202110530051.5在审
发明人：陈柏勲;周俊伟;廖耕颍;林子平;吴泰进;叶书佑;陈柏仁 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-05-14 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开提供了一种晶片处理系统、气体喷射系统和控制气体的温度的方法。晶片处理系统包括晶片处理室，此晶片处理室限定了在其中处理晶片的处理区域。晶片处理系统包括气体喷射系统。气体喷射系统包括气体喷射器，此气体喷射器配置以将用于处理晶片的第一气体喷射到处理区域中。第一气体管用于将处于第一温度的第一气体引导至气体喷射器。气体喷射系统包括包围气体喷射器的加热壳体。第二气体管配置以将加热的气体引导到加热壳体，以将加热壳体处的壳体温度增加到第二壳体温度。由于在加热壳体处的第二壳体温度，气体喷射器中的第一气体的温度从第一温度升高到第二温度。
晶片处理系统气体喷射控制温度方法

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