专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种生产单晶硅的方法-CN201210020267.8有效
  • 王军;郭大伟;王楠 - 北京京运通科技股份有限公司
  • 2012-01-29 - 2013-07-31 - C30B29/06
  • 本发明涉及单晶硅技术领域,尤其涉及一种生产单晶硅的方法,包括在坩埚底部放置方单晶;在所述方单晶上放置硅料及合金;将所述坩埚放置在单晶硅炉内,经过加热、熔化、、退火和冷却的过程,获得单晶硅锭;其中,所述熔化过程中当所述方单晶熔化到规定深度后,开始所述过程;切割所述单晶硅锭,获得单晶硅片。使用本发明实施例提供的单晶硅生产的方法,通过将放置在坩埚中锋的方单晶熔化到规定深度后,再开始过程,使得时以熔化到规定深度的方单晶为晶核。而且,在过程中控制速度,由此提高单晶硅片的生产效率。
  • 一种生产单晶硅方法
  • [发明专利]一种M向单晶蓝宝石的制备工艺及M向单晶蓝宝石-CN201710343269.3在审
  • 徐永亮;于海群;汪海波 - 内蒙古恒嘉晶体材料有限公司
  • 2017-05-16 - 2017-08-29 - C30B17/00
  • 本发明公开了一种M向单晶蓝宝石的制备工艺及M向单晶蓝宝石。所述工艺,利用单晶蓝宝石晶体M向的速率小于A向的速率的特点,将M向籽晶装置于籽晶杆的籽晶夹头,由于,单晶蓝宝石晶体M向的速率小于A向的速率,因此在一定程度上缓解了单晶蓝宝石晶体的肩部锥状气泡及底部馒头状气泡的生长,提高了单晶蓝宝石晶体的利用率。本申请实施例示出的制备工艺可制备出100kg的单晶蓝宝石晶体。在单晶蓝宝石晶体长的过程中由于A向的速率大于C向的速率,制备的单晶蓝宝石晶体的横截面呈椭圆形,在一定程度上增加了单晶蓝宝石晶体的散热面积,进而抑制肩部锥状气泡及底部馒头状气泡的增长,提高了单晶蓝宝石晶体的利用率
  • 一种蓝宝石制备工艺
  • [发明专利]水平区熔生长碲锌镉单晶的装置和方法-CN200610148709.1无效
  • 袁诗鑫 - 袁诗鑫
  • 2006-12-30 - 2008-07-02 - C30B29/48
  • 本发明涉及水平区熔生长碲锌镉单晶的装置和方法,该装置包括炉体、石英管、区熔舟和镉源舟:炉体包括镉源炉和由多个依次排列的小炉子组成的水平区熔炉,炉体内放置有内设镉源舟和区熔舟的石英管,区熔舟设有头部缩颈和尾部缩颈,水平区熔生长碲锌镉单晶的方法是先将碲、锌和籽晶放入区熔舟内、镉放入镉源舟内,再将区熔舟和镉源舟放入石英管中封管后,置于水平区熔炉体中加热合成碲锌镉锭条,经区熔提纯的碲锌镉锭条纯度提高后再由籽晶引导生长出碲锌镉单晶采用本发明的装置和方法生产碲锌镉单晶成品率高、纯度高,生长出的碲锌镉单晶完全符合应用要求。
  • 水平生长碲锌镉单晶装置方法
  • [发明专利]一种太阳能电池板用单晶硅制备工艺-CN201710417949.5在审
  • 李顺利 - 界首市七曜新能源有限公司
  • 2017-06-06 - 2017-10-20 - C30B15/00
  • 一种太阳能电池板用单晶硅制备工艺,包括加料,熔化,缩颈生长,放肩生长,等径生长,尾部生长步骤。本发明将单晶硅原料送入炉前进行低温加热处理,释放单晶硅原料内部应力,减少时产生的位错,改善结晶质量;熔化时先将温度升至800~900℃,将炉抽成真空,再将氩气充入炉一方面进一步释放单晶硅原料的内部应力,另一方面通过升温将单晶硅原料内的气泡、氧杂质去除并随氩气一起排出炉,保证单晶硅原料的纯度;本发明制得的单晶硅内部缺陷少,结晶质量高,作为太阳能板电池板使用具有较高的光电转换效率,同时使用寿命
  • 一种太阳能电池板单晶硅制备工艺
  • [发明专利]一种碳化硅单晶及其PVT方法-CN201910344555.0有效
  • 刘星;刘鹏飞;窦文涛;梁庆瑞;梁晓亮;张红岩;刘圆圆 - 山东天岳先进材料科技有限公司
  • 2019-04-26 - 2020-05-19 - C30B29/36
  • 本申请涉及一种碳化硅单晶及其PVT方法,属于晶体生长领域。该碳化硅单晶的PVT方法包括下述步骤:提供一装置,该装置包括重量传感器、坩埚和在坩埚内可升降的装料部,所述装料部用于装载碳化硅原料,所述重量传感器用于检测装料部内碳化硅原料重量;将装料部装载碳化硅粉料后进行长包括第一阶段和第二阶段,调整装料部的不同部分置于坩埚内的高温区进行长。该PVT方法可精确自动控制装料部在热场中的位置,碳化硅单晶环境稳定,生长的碳化硅晶体的质量高,可充分挥发碳化硅原料,提高了原料的利用率,节约了生产成本。
  • 一种碳化硅及其pvt方法
  • [发明专利]制造碳化硅单晶的方法-CN200780018105.8有效
  • 小柳直树;庄内智博;坂口泰之 - 昭和电工株式会社
  • 2007-05-10 - 2009-06-03 - C30B29/36
  • 制造SiC单晶的方法,包括下列步骤:使第一SiC单晶在由SiC单晶形成的第一种上在第一生长方向上生长;在与第一生长方向平行或倾斜的方向上设定在第一种上生长的第一SiC单晶,并在与第一生长方向垂直的截面中的轴方向上切割所述设定的第一SiC单晶,以获得第二种;使用第二种以在其上在第二生长方向上生长第二SiC单晶,至厚度大于所述截面中的轴长度;在与第二生长方向平行或倾斜的方向上设定在第二种上生长的第二SiC单晶,并在与第二生长方向垂直的截面中的轴方向上切割所述设定的第二SiC单晶,以获得第三种;使用第三种以在其上生长第三SiC单晶;并以暴露出{0001}晶面的方式切割在第三种上生长的第三SiC单晶,由此获得SiC单晶
  • 制造碳化硅方法

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