专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]非真空制作铜铟镓硒和/或硫光吸收的方法-CN201010111495.7无效
  • 林群福;陈文仁;杨益郎 - 昆山正富机械工业有限公司
  • 2010-02-11 - 2010-09-01 - H01L31/18
  • 本发明涉及一种铜铟镓硒和/或硫光吸收的制作方法,特别是一种非真空制作铜铟镓硒和/或硫光吸收的方法,包括:(1)依据配方比例,混合含IB、IIIA的二成份或三成份硒化物材料,形成原始混合粉末;混合粉末为纳米级的球形粉和薄片形粉;(2)添加溶剂搅拌,形成浆料;(3)将该浆料涂布在钼上,软烤形成光吸收前驱;(4)将含铜铟镓硒和/或硫前驱的基板反置于含均匀洒布VI族元素的耐高温载板上,在快速退火热处理炉中退火长晶,形成光吸收避免使用危险的硒化氢;设备成本低;所形成的光吸收致密,光吸收特性好,光电转换效率高。
  • 真空制作铜铟镓硒光吸收方法
  • [发明专利]滤光片用膜及使用该膜的等离子体显示面板用滤光片-CN200780025352.0无效
  • 濑川淳一;芥研二;上原淳行 - 日本化药株式会社
  • 2007-07-05 - 2009-07-15 - G02B5/22
  • 本发明开发具有氖光吸收性粘接的氖光吸收膜以及使用该膜的滤光片,为了使在涂布干燥后进行的熟化操作前后的氖光吸收能力不发生变化,上述氖光吸收性粘接中,粘接剂是在涂布干燥后立刻成为具有足够的交联密度的高分子的粘接剂,利用添加剂等使以花青类色素为代表的氖光吸收色素在粘接剂中稳定化,从而在耐热性试验或耐湿热试验中也可保持优良的该稳定性,可将雾度值保持得较低。通过将由重均分子量为100万以上的热交联型丙烯酸脂肪族系树脂和交联剂构成的粘接剂、花青类氖光吸收色素和粘土矿物组合,可开发出具有氖光吸收性粘接的氖光吸收膜以及使用该膜的滤光片,上述氖光吸收性粘接在耐热性试验或耐湿热试验中也可保持优良的该稳定性
  • 滤光片用膜使用等离子体显示面板
  • [发明专利]彩色显象管-CN90104993.X无效
  • 伊藤武夫;松田秀三;清水和彦;田中肇 - 东芝株式会社
  • 1990-07-26 - 1992-09-23 - H01J29/32
  • 本发明的彩色显象管具备具有面板的真空外壳;具有半透明的黑色光吸收和荧光体的荧光屏,该黑色光吸收在该面板的第一区域上形成为条状或矩阵状,该荧光体由在该面板的第二区域上形成条状或点状的蓝、红及绿色发光荧光体所组成;配置在真空外壳内可射出电子射线并使其聚焦的电子枪;上述荧光体的各端部在黑色光吸收上延伸,形成重合部,且在各荧光体之间在上述黑色光吸收上设间隙而形成不存在荧光体光吸收部。
  • 彩色显象管
  • [发明专利]一种封装胶膜及其应用-CN202210627915.X在审
  • 王龙;魏梦娟;桑燕;侯宏兵;周光大 - 杭州福斯特应用材料股份有限公司
  • 2022-06-06 - 2022-08-05 - C09J7/10
  • 本发明提供了一种封装胶膜,至少为两,所述封装胶膜包括紫外光吸收和紫外光转换;所述紫外光吸收包括基体树脂和紫外光吸收剂;所述紫外光转换包括基体树脂和紫外光转换剂。所述紫外光吸收中所述紫外光吸收剂的含量为0.1g/m2~10g/m2;所述紫外光转换中紫外光转换剂的含量为0.1g/m2~10g/m2。紫外吸收中的紫外吸收剂,可以吸收200~400nm的紫外光,紫外光转换中的光转换剂,可以将280~380nm的紫外光转成成可见光。本发明封装胶膜包括多层复合结构,紫外光吸收剂和紫外光转换剂分别分散于不同中,互不干扰,协同作用,实现高紫外截止和高可见光透过。可以根据不同紫外吸收剂和紫外光转换剂的相应波段,合理搭配,达到所需效果。
  • 一种封装胶膜及其应用
  • [发明专利]光侦测器结构-CN201710542447.5有效
  • J·J·埃利斯莫纳格汉;J·C·S·霍尔;M·H·哈提尔;E·W·基埃瓦拉;S·M·尚克 - 格罗方德半导体公司
  • 2016-06-27 - 2019-02-15 - H01L27/144
  • 在该方法中,多晶或非晶的光吸收形成在介电上以使其接触光波导的单晶半导体核心。该光吸收接着以一或多个应变缓解密封且进行快速熔化生长(RMG)工序以结晶化该光吸收。该(多个)应变缓解是为了控制应变缓解而调变,以致在该RMG工序期间,该光吸收保持免于破裂。接着移除该(多个)应变缓解且在该光吸收之上形成密封(例如,填充该RMG工序期间发展的表面凹陷)。随后,通过该密封植入掺质以形成用于(多个)PIN二极管的扩散区域。由于该密封相对薄,可在该扩散区域内达到想要的掺质轮廓。
  • 侦测方法结构

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