专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种大面积玻璃镀膜用铌平面-CN202022398072.X有效
  • 刘军社 - 宝鸡市佳军金属材料有限公司
  • 2020-10-26 - 2021-06-08 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种大面积玻璃镀膜用铌平面,包括,所述的两侧分别连接有外框,且外框的内部连接有可将进行更换更换机构,本实用新型通过增加了更换机构,解决了喷涂大面积玻璃时拼接大面积的时不稳定的问题,实现了拼接大面积时保证了的稳定性,增加了分隔板,保证了大面积在拼接时缝隙不会过大或者过小,同时在喷涂玻璃时,可能因为喷涂的面积导致有的先使用完成,可以通过更换机构单独对其中用完的进行更换,在外框附近增加了通风管,可以使在镀膜时可以进行散热,避免拼接口温度过高造成损坏。
  • 一种大面积玻璃镀膜平面
  • [实用新型]一种拼接式装置-CN201921015854.1有效
  • 常洪兴;徐胜 - 杰莱特(苏州)精密仪器有限公司
  • 2019-06-29 - 2020-06-30 - C23C14/34
  • 本实用新型涉及到离子溅射靶技术领域,尤其涉及一种拼接式装置。该拼接式装置的中心通过中心固定螺钉固定在水冷背板的中心,中心的四周与外围紧密贴合在一起,外围通过外围固定螺钉固定在水冷背板上,这样当中心消耗殆尽,需要更换时,只需要更换中心,外围无需更换,这就节省了的成本;此外,水冷背板由黄铜材料制备而成,这样就增加了水冷背板的散热效率,提高了拼接式装置的工作效率。总之,该拼接式装置结构简单,散热效率高,使用成本低,适合推广使用。
  • 一种拼接式靶材装置
  • [发明专利]一种溅镀设备的更换装置及溅镀设备-CN201510672927.4在审
  • 杜建华;王灿;何晓龙;孙雪菲 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2015-10-16 - 2015-12-16 - C23C14/34
  • 本发明涉及显示设备制造领域,公开一种溅镀设备的更换装置及溅镀设备,更换装置包括,支架;安装于支架上的安装轴;套设于安装轴外侧、且可绕安装轴的轴心线旋转的安装体,安装体具有至少两个用于安装安装面,当安装体绕安装轴的轴心线旋转时,每一个安装面可在工作状态朝向和闲置朝向之间切换;用于驱动安装体绕安装轴的轴线旋转的第一驱动机构,在需更换时,可通过第一驱动机构驱动安装体旋转,进而将安装于安装体的安装面上的所需由闲置朝向切换至工作状态朝向,进而使所需参与工作,切换靶的过程不需打开腔室,节省了打开腔室和抽取真空的时间,提高了生产效率。
  • 一种设备更换装置
  • [发明专利]中子捕获治疗系统-CN202211141397.7在审
  • 刘渊豪;林峻霆 - 中硼(厦门)医疗器械有限公司
  • 2022-09-20 - 2023-03-31 - H05H6/00
  • 本发明提供一种中子捕获治疗系统,包括带电粒子束生成部、射束传输部和中子束生成部,所述中子束生成部包括,所述与所述带电粒子束生成部产生的带电粒子束作用产生中子束,所述中子捕获治疗系统还包括带电粒子束生成室和更换室,所述带电粒子束生成室至少部分容纳所述带电粒子束生成部和所述射束传输部,所述更换室用于安装所述并且使得所述射束传输部穿过所述更换室,所述更换室在射束传输路径上形成于所述带电粒子束生成部之后并且不同于所述带电粒子束生成室通过设置更换室进行的安装,可以对更换室内的环境进行设置,避免了安装过程中靶的氧化或氮化,操作简单、成本较低。
  • 中子捕获治疗系统
  • [实用新型]中子捕获治疗系统-CN202222481624.2有效
  • 刘渊豪;林峻霆 - 中硼(厦门)医疗器械有限公司
  • 2022-09-20 - 2023-02-14 - H05H6/00
  • 本实用新型提供一种中子捕获治疗系统,包括带电粒子束生成部、射束传输部和中子束生成部,所述中子束生成部包括,所述与所述带电粒子束生成部产生的带电粒子束作用产生中子束,所述中子捕获治疗系统还包括带电粒子束生成室和更换室,所述带电粒子束生成室至少部分容纳所述带电粒子束生成部和所述射束传输部,所述更换室用于安装所述并且使得所述射束传输部穿过所述更换室,所述更换室在射束传输路径上形成于所述带电粒子束生成部之后并且不同于所述带电粒子束生成室通过设置更换室进行的安装,可以对更换室内的环境进行设置,避免了安装过程中靶的氧化或氮化,操作简单、成本较低。
  • 中子捕获治疗系统
  • [发明专利]拼接式磁控溅射平面及其使用方法-CN202211046105.1在审
  • 闫晓晖 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-11-15 - C23C14/35
  • 本发明提供了一种拼接式磁控溅射平面及其使用方法。其中,拼接式磁控溅射平面包括各自独立且相互过盈连接的圆形和若干个环形,圆形位于拼接式磁控溅射平面的中心,环形与圆形同心设置且围绕圆形的外周分布,外圈的环宽根据磁控溅射的磁场强度对应设置通过将磁控溅射平面分为多块同心设置且可以相互分离的独立区域,在磁控溅射沉积过程中,可以方便的更换消耗完毕或接近消耗完毕的结构,无需整体更换整个,提高各区域的利用率,提高经济效益。
  • 拼接磁控溅射平面及其使用方法
  • [发明专利]一种应用于多脉冲激光共沉积的-CN202010424392.X有效
  • 郁彩艳;白莹;赵慧玲;尹延锋 - 河南大学
  • 2020-05-19 - 2022-02-22 - C23C14/34
  • 本发明提供了一种应用于多脉冲激光共沉积的,包括可被独立拆装的圆形模块和环形模块,所述圆形模块置于环形模块中间固定成圆形,圆形模块和环形模块的侧壁设有贯通孔,贯通孔内设有贯通柱本发明所提供的结构,包括至少两个可被独立拆装的模块,且该结构与现有的PLD靶托配合使用,解决了多部分可组装在PLD设备中的脱落问题,这样,当某一个模块随着工艺的进行己经消耗至需要更换的程度时,可以仅对该模块进行更换,而其它的模块则可被继续使用。
  • 一种应用于脉冲激光沉积
  • [发明专利]固定装置及固定方法-CN201710853430.1有效
  • 易天华 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-09-20 - 2020-05-05 - C23C14/34
  • 本发明一种固定装置,用于更换过程中的固定,所述固定装置包括基板以及镜面层,所述镜面层包括第一表面以及与第一表面相对的第二表面,所述镜面层与所述依次放置于所述基板上,且所述吸附贴合于所述镜面层的所述第一表面本发明通过镜面层镜面吸附固定所述的方式,可以实现更换所述时,只需要将所述从所述基板上拆除,进而增加了基板的使用寿命,同时节约时间,减少更换所需成本。
  • 固定装置方法
  • [发明专利]溅射装置和溅射装置的维护方法-CN201480054423.X在审
  • 梨木智刚;滨田明 - 日东电工株式会社
  • 2014-10-10 - 2016-05-18 - C23C14/00
  • 在溅射装置的更换、阴极清扫过程中,能够两个人以上同时进行作业,无需高处作业且以朝上的状态更换。使阴极台车(19)移动而将(17)和阴极(18)取出到真空槽(11)外。使阴极旋转机构(24)工作而以使(17)朝上的方式使(17)和阴极(18)旋转。使阴极滑动机构(25)工作而使高处的(17)和阴极(18)向低处移动。将旧的(17)从阴极(18)拆下来,并且将新的(17)安装到阴极(18)。使(17)和阴极(18)返回到原来的高度。使(17)和阴极(18)沿着原来的方向返回。使(17)和阴极(18)返回到真空槽(11)内。
  • 溅射装置维护方法
  • [发明专利]一种辅助更换磁控溅射旋转的装置-CN201911230674.X有效
  • 易立;张朝晖;张军杰;魏玉飞 - 长利玻璃洪湖有限公司
  • 2019-12-04 - 2020-10-16 - C23C14/35
  • 本发明公开一种辅助更换磁控溅射旋转的装置,包括龙门架、放置小车和卷扬机,在换靶小车两边铺设有预埋轨道,龙门架的底部滑动放置在两侧的预埋轨道上,卷扬机安装在龙门架的顶梁上并可沿顶梁滑动,卷扬机传动端通过吊带连接有吊钩;放置小车通过连接杆固定在龙门架的一侧并随龙门架一起移动,放置小车用于放置旧。本发明中辅助更换磁控溅射旋转的装置,在更换旋转的操作过程中,无行车因更换旋转需在换靶小车工位长时间停滞现象,换靶效率大大提高,停机维护总时长缩短约50%,延长了生产线的有效生产时长,可为企业创造更多产值
  • 一种辅助更换磁控溅射旋转装置
  • [实用新型]一种真空溅射设备-CN201120203257.9有效
  • 王浩;杜晓健;李晓飞 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2011-06-16 - 2012-01-11 - C23C14/34
  • 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其是一种真空溅射设备,包括:真空腔体;基板和,和位移测量装置。在对基板进行镀膜的工作过程中会逐渐消耗,板的厚度会逐渐变薄,通过在真空溅射设备内部设置位移测量装置,在真空溅射设备停止镀膜工作时对的消耗程度进行测量,可以得出准确的消耗量并在消耗过度时及时更换,此种测量方式代替以往的以使用时间来粗略衡量消耗的形式,减少了更换次数,以及对未使用完的的浪费,节约了成本。
  • 一种真空溅射设备
  • [实用新型]一种新型磁控溅射靶-CN201420564210.9有效
  • 张庆丰;范晓鹏;李贵成;汪涛;胡尚智;张加友;刘占伟 - 山东淄博汉能光伏有限公司
  • 2014-09-28 - 2015-02-04 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种新型磁控溅射靶,包括小块和冷却背板,多块所述小块并排拼接后贴合安装于所述冷却背板上,位于所述冷却背板中部的所述小块的厚度小于位于所述冷却背板两端的所述小块的厚度,且由中间至两端厚度递增本实用新型通过在溅射强烈的两端位置放置较厚的小块,而在溅射强度较弱的中间部分放置厚度较薄的小块,避免溅射强烈区域的小块过早消耗完毕,从而延长了整个的使用寿命,提高了利用率,能够从传统的20%提高到30%左右,增加了更换的时间周期,减少了更换次数,间接减少了劳动量,降低了材料成本和人力成本。
  • 一种新型磁控溅射

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