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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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C 化学；冶金

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

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国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]旋转磁控电弧离子镀弧源-CN200810010719.8无效
发明人：闻立时;郎文昌;孙超;宫骏;赵彦辉;肖金泉 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2008-03-21 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜制备领域，具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的旋转磁控电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置，旋转磁场发生装置为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上，磁极数量为4n或者3n，n≥1，形成一个整体的电磁回路骨架，励磁线圈套在磁极上或者嵌在相邻磁极之间的槽隙内本发明通过可调速调幅的旋转磁场控制弧斑的运动，可以改善弧斑的放电形式和工作稳定性，提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率，减少靶材大颗粒的发射，用以制备高质量的薄膜以及功能薄膜，拓展电弧离子镀的应用范围。
旋转电弧离子镀

[发明专利]磁控溅镀阴极-CN200910006545.2无效
发明人：朱冠宇 -专利权人：胜华科技股份有限公司
申请日： 2009-02-17 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅镀阴极，该磁控溅镀阴极包含一金属管，该金属管为一中空圆管，于该金属管内设有复数磁铁组件，该复数磁铁组件用以于该金属管表面形成复数溅镀区，每一溅镀区对应于一基板，该复数溅镀区分别具有一磁通道，且各溅镀区的磁通道相互连通形成一封闭回路，利用该磁通道导引电子于此封闭回路循环移动，可透过单一磁控溅镀阴极同时针对多个基板进行镀膜，避免二次电浆浪费，减少功率及靶材损失，同时可减少被溅镀出的靶材原子分子沉积于磁控溅镀阴极后方腔体壁的机率，提高靶材使用率
磁控溅镀阴极

[发明专利]扫描式磁控溅射阴极及扫描式磁控溅射装置-CN201210409109.1在审
发明人：范振华;刘国利 -专利权人：东莞宏威数码机械有限公司
申请日： 2012-10-23 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种扫描式磁控溅射阴极，设于真空腔体上并对真空腔体内的靶材进行磁控扫描，其中，本发明的扫描式磁控溅射阴极包括位于真空腔体外的磁性部件及驱动器，磁性部件与靶材相对应，驱动器驱使磁性部件在真空腔体外做平面的活动而对靶材进行平面的磁性扫描本发明的扫描式磁控溅射阴极能提高靶材刻蚀区域的面积以提高靶材的利用率而降低镀膜成本。另，本发明还公开一种扫描式磁控溅射装置。
扫描磁控溅射阴极装置

[发明专利]磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法-CN201010538417.5有效
发明人：文莉辉;夏威 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2010-11-08 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提出一种磁控源，包括：靶材；磁控管，所述磁控管位于所述靶材上方；和扫描机构，所述扫描机构与磁控管相连以控制所述磁控管围绕所述靶材的中心转动，且所述扫描机构以预设步长阶段性地调整所述磁控管的转动半径，其中，在每个阶段所述扫描机构控制所述磁控管的转动圈数和/或转速以在所述每个阶段对所述靶材刻蚀至预设深度。用户可以通过本发明中对磁控管运动方式的控制实现对磁控管运行轨迹的灵活控制，进而提高靶材利用率和金属离化率。
磁控源磁控溅射设备以及方法

[实用新型]双阴极离子溅射仪-CN202221965609.9有效
发明人：常正凯;司俊丽;张浩 -专利权人：速普仪器（太仓）有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请涉及双阴极离子溅射仪，磁控阴极的数量为两个；真空腔室及上封头分别设置于机台架组件上，上封头具有封闭及开启真空腔室的状态；两个磁控阴极固定于上封头，两个磁控阴极均设置于真空腔室内且均位于真空腔室的同一侧通过利用常规靶材解决了常规单阴极离子溅射仪喷镀金属导电层大颗粒团聚的问题，配合靶材的选择，有利于实现导电差的样品在扫描电镜尤其是场发射扫描电镜和聚焦离子束扫描电镜于超高倍率中有更好的成像效果；相对于非常规解决方案具有结构简单、通用性强及耗材易于获得等优点，两个磁控阴极可以单独作用亦可同时作用，金属靶材的成分比例可以调节，从而提升了金属靶材镀膜沉积的灵活性，因此新增了更多的用途。
阴极离子溅射

[实用新型]一种旋转靶材搁置架-CN201820309858.X有效
发明人：常代展;王雷 -专利权人：南通安泰新材料科技有限公司
申请日： 2018-03-06 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： B25H3/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种旋转靶材搁置架，涉及新材料产品储存工具技术领域，旨在解决现有技术中的旋转靶材搁置架在存放旋转靶材时，旋转靶材容易滚动的问题。本实用新型通过将旋转靶材卡设在U型槽内，能够有效避免旋转靶材在架体上滚动，从而在一定程度上减小对旋转靶材表面的损伤。
旋转靶材搁置架架体本实用新型层架体长度方向设置工具技术领域滚动可拆卸安装产品储存减小损伤

[实用新型]一种磁控溅射靶-CN201120576468.7有效
发明人：朱刚劲;朱刚毅;朱文廓 -专利权人：肇庆市腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种磁控溅射靶，包括摆动磁芯和转动靶材，摆动磁芯和转动靶材均为圆柱形结构，摆动磁芯设于转动靶材中部，转动靶材外周通过靶座与真空室壳体连接；转动靶材顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯顶部设有磁芯驱动组件本磁控溅射靶是在传统的圆柱靶上进行改进，通过增设磁芯驱动组件使摆动磁芯在工作过程中具有一定的摆动角度，使磁控溅射靶产生变化的磁场，以配合工件的曲面度，从而使工件表面镀膜均匀，有效提高产品质量。
一种磁控溅射

[发明专利]一种共溅射旋转靶材及其制备方法-CN201410181267.5无效
发明人：黄常刚;李京波;李庆跃;吴宗泽;李凯;汪林望;吴海虹;李树深;夏建白;王臻 -专利权人：浙江东晶电子股份有限公司
申请日： 2014-04-30 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜的物理制备技术领域，具体是一种共溅射旋转靶材及其制备方法，其特征在于：包括旋转圆柱靶管及中心静止不动的磁铁，所述旋转圆柱靶管由不同形状的掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上，掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元两者按照一定的排布规律分布。本发明将需要共溅射和共掺杂的靶材单元制作成不同的形状，以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上，而圆筒形支撑衬底的中心放置静止不动的磁铁，慢速转动实现磁控溅射，达到高均匀性共掺杂的目的，其靶材利用率也比较高。
一种溅射旋转及其制备方法

[发明专利]一种智能控温型间位芳纶及其制备方法-CN202110732870.8在审
发明人：关振虹;李丹;冷向阳;高东;邓书生 -专利权人：烟台泰和新材料股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： D01F6/90 文献下载
摘要：本发明公开了一种智能控温型间位芳纶及其制备方法，向间位芳纶纺丝原液中加入相变微胶囊，采用湿法纺丝完成纺丝，即得到智能控温型间位芳纶，所述相变微胶囊包括壁材以及包裹在壁材中的芯材，所述壁材采用聚对苯二甲酰对苯二胺、聚脲或聚氨酯，所述芯材采用石蜡/石墨烯复合材料，且所述石蜡/石墨烯复合材料占相变微胶囊质量的20％‑75％，所述相变微胶囊占智能控温型间位芳纶质量的3％‑20％。本发明工艺简单，控温效果良好，选择的相变材料成本较低，纤维中的相变材料不易流失。
一种智能控温型间位及其制备方法

[实用新型]磁极溅射装置-CN201420839806.5有效
发明人：杨大可 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2015-07-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种磁极溅射装置，包括：靶材、用于支撑靶材的背板、位于速搜背板的相对于所述靶材的另一侧并与所述背板间隔设置的磁铁系统，磁铁系统包括至少两个条形磁铁，每个条形磁铁与相邻条形磁铁的磁极相反；以及每个条形磁铁上均设有驱动装置，驱动装置用于带动每个条形磁铁的一端在靠近或远离靶材的方向上进行往返运动。通过在靶材一侧设置磁铁系统，磁铁系统中包括多个条形磁铁，条形磁铁在设于其上的驱动装置的作用下，与靶材形成一定的夹角，从而使得磁铁系统穿过靶材各部分的磁场基本相同，靶材在磁铁系统均匀磁场的作用下达到基本均匀消耗，从而延长了靶材的使用寿命。
磁极溅射装置

[实用新型]适用旋转靶材修坯的专用夹具-CN202120285757.5有效
发明人：莫国仁;郭梓旋;刘永成;陈明飞;龙泷;陈明高;王志杰;江长久 -专利权人：长沙壹纳光电材料有限公司
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用旋转靶材修坯的专用夹具，设置有金属芯杆，所述金属芯杆表面设置有能够充气膨胀的充气管，所述金属芯杆的杆径小于待加工的靶材毛坯的内径，以用于套设待加工的靶材毛坯。在生产作业时可以将靶材毛坯套设在金属芯杆上，再通过所述充气管充气膨胀与所述靶材毛坯的内壁紧贴，从而给所述靶材毛坯提供充分的支撑力，并且由于所述充气管和所述靶材毛坯之间是柔性接触，因此不会损伤所述靶材毛坯另外，由于所述靶材毛坯的内壁受力比较均匀，装载在车床上时能起到一定的定心作用，后续的车削工序加工的尺寸精度将更为精确。本实用新型结构简单、制作成本低，具有良好的推广应用前景。
适用旋转靶材修坯专用夹具

[实用新型]一种适用于镀钛机的弧源头-CN201620265166.0有效
发明人：温志光;聂瑞祥;瞿坤 -专利权人：四川天宏不锈钢有限责任公司
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：结构上包括靶材，所述靶材安装于靶材底座的一端，靶材底座为空心结构，内部安装有永磁体基座，永磁体基座同样为空心结构，其外部与靶材底座围成的空间内设置有导流格栅，永磁体基座内部安装有永磁体装置，永磁体装置内部设置有螺纹杆本实用新型在一定磁场强度和一定旋转频率综合作用下，使得弧斑在整个靶面分布，大大降低弧斑的功率密度，提高离子密度和离化率，实现准扩散弧状态，大大降低颗粒的发射，同时提高蒸发效果和离化效果。同时进一步通过靶材前段的轴向聚焦导引磁场，将净化的高密度等离子体抽出，提高其传输效率。
一种适用于镀钛机源头

[发明专利]一种钼靶材端面密封槽的加工方法-CN202210518041.4在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;徐礼升 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： B23P17/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种钼靶材端面密封槽的加工方法，所述加工方法包括采用特定的切槽刀具对钼靶材进行刀啄式切削，调整切削参数，并经冷却、排屑和抛光打磨，得到钼靶材端面密封槽。在本发明中，提供的钼靶材加工方法，通过采用特定的切槽刀具配合相应的切削参数，可以精准的得到特定尺寸的密封槽，且一定程度上降低了钼靶材的切削难度，提高了产品的外观，适合广泛推广使用。
一种钼靶材端面密封加工方法

[实用新型]一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材-CN201220353069.9有效
发明人：李晨光 -专利权人：南昌欧菲光科技有限公司
申请日： 2012-07-20 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于磁控溅射镀膜靶材，尤其涉及一种形成介质膜的MF磁控溅射用靶材。它包括背板，所述背板的上表面有一凸起条状部分，所述背板上的靶材通过粘接层与背板相连。溅射镀膜过程中，靶材中间背板材质凸起条状部分有效的阻挡由于局部高温等因素引起的邦定材质喷溅，该技术方案极大地提高了溅射镀膜成品良率及提高了靶材利用率。
一种用于柔性基材磁控溅射镀膜

[实用新型]一种磁控阴极弧调节装置-CN201721598763.6有效
发明人：付德君;李娜;曾晓梅 -专利权人：武汉江海行纳米科技有限公司
申请日： 2017-11-20 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控阴极弧调节装置，涉及真空物理气相沉积技术领域，该装置包括支撑杆、阴极靶材和组件。阴极靶材固定于所述支撑杆一端。组件组设于支撑杆上，且所述组件包括永磁体和驱动件，所述驱动件被设置成驱动所述支撑杆和组件相对移动，使所述阴极靶材在靠近或远离所述永磁体的方向上移动。本实用新型的驱动件通过不断调整永磁体和阴极靶材的相对的位置，保证了阴极靶材表面的磁场稳定不变，从而控制电弧位置强度，形状，最终使得靶材能够准确稳定的沉积在工件表面。
阴极靶材支撑杆驱动件永磁体本实用新型磁控阴极弧调节装置磁场稳定电弧位置工件表面气相沉积相对移动真空物理组件包括上移动组件组靶材沉积驱动保证

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