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[发明专利]一种高浓度Na125I溶液生产装置-CN201510037615.6有效
发明人：刘国平;何佳恒;陈静;刘飞;余钱红;张锐;蹇源;魏洪源;陈琪萍;钟文彬;王关全;李梅;李兴亮;吴川;党宇峰;牟婉君 -专利权人：中国工程物理研究院核物理与化学研究所
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： G21G1/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种高浓度Na125I溶液生产装置，所述的生产装置包括台架、倒气罐、开靶装置、制靶装置、反应器、原料罐、真空泵、压力表、液氮泵。所述的倒气罐、开靶装置、制靶装置、反应器、原料罐、真空泵均设置在台架上并与台架固定连接，压力表固定连接在倒气罐上，倒气罐与开靶装置、制靶装置、反应器、原料罐、真空泵、压力表分别连接；所述的台架下设置有液氮泵，液氮泵与开靶装置、制靶装置、反应器、原料罐分别连接。本发明的生产装置具有开靶、制靶、活化氙气贮存与冷却衰变、125I捕集与Na125I溶液制备等功能，能够实现高浓度Na125I溶液生产，并可在线将回收的氙气制成靶件再利用。本发明装置紧凑小巧，操作方便。
一种浓度 na125i 溶液生产装置

[发明专利]一种可提高溅射工艺靶材利用率的方法-CN201010213604.6无效
发明人：王磊;邱勇;黄秀颀;高孝裕;魏朝刚 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请日： 2010-06-30 - 公布日： 2010-12-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于改进溅射工艺用靶材的方法，特别涉及一种可提高磁控物理溅射中靶材利用率的方法。本发明根据现有平面靶材不同区域的材料消耗规律对靶材进行模块化设计，可以显著提高磁控物理溅射中的靶材利用率。
一种提高溅射工艺利用率方法

[发明专利]电吸金工艺-CN201810986155.5在审
发明人：苏日明 -专利权人：深圳市爱迪尔珠宝股份有限公司
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种电吸金工艺，包括：对镀膜基材的表面进行清洁处理以及去静电处理；将镀膜基材放置于镀膜室中，对镀膜室进行第一次抽真空处理，对镀膜基材进行表面放电处理；在真空气压达到第一阈值气压时，打开分子泵，一段时间后打开罗茨泵，对镀膜室进行第二次抽真空处理；在真空气压达到第二阈值气压时，打开精抽阀并对镀膜基材进行加热后进行磁控金处理，具体包括，在镀膜室中投入预设流量的氩气，选定K金作为溅射金靶，在磁场的作用下通电溅射金靶，使金靶离子束溅射至镀膜基材表面形成金膜。
镀膜基材镀膜室抽真空处理真空气压溅射金气压离子束溅射耐磨性氩气表面放电表面形成抗氧化性清洁处理用户体验分子泵去静电磁控金靶金膜精抽预设磁场加热质感通电

[发明专利]吸气剂磁控靶材-CN202110956500.2在审
发明人：吴文一 -专利权人：安徽益东惠电子科技有限公司
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种吸气剂磁控靶材，其为吸气剂溅射镀膜设备中要装载的主要材料，吸气剂磁控靶材包括吸气剂合金靶材和紫铜背板，紫铜背板焊接于吸气剂合金靶材的背面；吸气剂磁控靶材的制作工艺具体包括以下步骤：S1、将锆、钴和铼三种金属粉末混料后装入包套模具中，采用热等静压工艺，向包套各方向施加同等压力，同时施以高温，使混料合金得以烧结和致密化，制得吸气剂合金靶材的半成品；S2、将热等静压后的吸气剂合金靶材的半成品切割成矩形，制得吸气剂合金靶材成品；S3、将紫铜背板焊接于吸气剂合金靶材的背面即可。本发明紫铜背板焊接于吸气剂合金靶材的背面，紫铜背板起到为吸气剂合金靶材的散热和导磁的作用。
吸气剂磁控靶材

[发明专利]一种磁控元件和磁控溅射装置-CN201610779067.9有效
发明人：杨玉杰 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： H01J25/50 文献下载
摘要：本发明提供一种磁控元件和磁控溅射装置。该磁控元件包括闭合磁控管和非闭合磁控管，闭合磁控管的内磁极和外磁极之间组成闭合的等离子体路径，非闭合磁控管的第一磁极和第二磁极之间组成非闭合的等离子体路径，闭合的等离子体路径和非闭合的等离子体路径用于至少对应覆盖靶材中心到靶材边缘的半径区域该磁控元件能够实现靶材的全靶腐蚀，从而避免靶材的中心区域出现颗粒，提高靶材的利用率；还能提高溅射过程中金属靶材的离化率；同时提高了晶片上通孔的填充效果。
一种元件磁控溅射装置

[发明专利]一种空压机及其断油保护装置-CN201811051881.4在审
发明人：李振广 -专利权人：郑州广众科技发展有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： F04B49/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种空压机及其断油保护装置，断油保护装置包括油流采集器，油流采集器包括壳体，壳体内铰接有靶板，靶板具有朝向进油口的压力面，该装置还包括控制主机和触控开关，靶板与触控开关之间设有传动结构，以使靶板在进油油压下发生摆动，传动结构触碰触控开关向控制主机发送信号。空压机运行时，空压机油气桶中的油进入油流采集器，靶板发生摆动，传动结构触碰触控开关，触控开关向控制主机发出润滑油状态正常信号，当空压机油气桶中的润滑油减少到一定值时，通过油流采集器中的润滑油量减少或断流，不能推动靶板动作，触控开关向控制主机发出断油信号，控制主机控制空压机停机。
空压机靶板控制主机触控开关采集器油流断油保护装置传动结构润滑油量油气桶摆动碰触油压润滑油状态断油信号发送信号正常信号自动检测进油口润滑油压力面运行时断流铰接进油壳体省力省时停机体内

[发明专利]一种用于制备稀土掺杂氮化镓发光薄膜的方法和装置-CN200610125202.4无效
发明人：付德君;阴明利;郭立平;刘传胜 -专利权人：武汉大学
申请日： 2006-11-30 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制备稀土掺杂氮化镓发光薄膜的方法，控制衬底的温度在0～500℃范围内，以氮气或氮气和氩气的混合气体作为溅射气体，真空条件下，对掺杂有稀土粉末的金属镓进行磁控溅射，使设在靶位处的衬底沉积上稀土掺杂的氮化镓发光薄膜本发明还提供了一种制备稀土掺杂氮化镓发光薄膜的磁控溅射装置，包括真空室，真空室内设有可旋转的衬底架和3～5个磁控靶，衬底架上装设有衬底，衬底设在磁控靶上方且使衬底面与磁控靶面平行，每个磁控靶分别接直流电源阴极；磁控靶内设有冷却室，冷却室设有冷却介质进口和出口。
一种用于制备稀土掺杂氮化发光薄膜方法装置

[发明专利]一种离子束生物辐照装置及方法-CN201811390618.8有效
发明人：詹福如;吴丽芳;李军 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2018-11-21 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： G21K5/00 文献下载
摘要：本发明公开一种离子束生物辐照装置及方法，包括真空靶室、抽真空系统，抽真空系统与真空靶室连通进行抽真空；真空靶室设置靶室舱门、进气阀门、离子源，待辐照的生物样品置于真空靶室中，离子源产生离子束辐照在生物样品上；抽真空系统包括冷阱、无油分子泵、无油前级泵，真空靶室、冷阱、无油分子泵、无油前级泵通过管路依次连通，真空靶室与冷阱之间设总阀门，总阀门与真空靶室之间设置颗粒过滤网，冷阱与无油分子泵之间设置无油分子泵阀门，抽真空系统还包括旁抽阀门，旁抽阀门第一端连接在冷阱与无油分子泵阀门之间，旁抽阀门第二端连接在无油分子泵与无油前级泵之间。本发明的优点是：可有效减少抽真空时水汽、油汽、颗粒等对泵组的影响。
一种离子束生物辐照装置方法

[发明专利]一种用于反应堆辐照生产I‑125的氙靶制备装置-CN201510037557.7有效
发明人：刘国平;王关全;陈静;余钱红;张锐;蹇源;魏洪源;陈琪萍;钟文彬;何佳恒;李梅;李兴亮;吴川;党宇峰;牟婉君;刘飞 -专利权人：中国工程物理研究院核物理与化学研究所
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： G21G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于反应堆辐照生产I‑125的氙靶制备装置，所述的生产装置中，倒气罐、开靶器、原料罐、收贮器、充焊器、真空泵、均设置在台架上并与台架固定连接，压力表固定在倒气罐上。所述的倒气罐与开靶器、原料罐、收贮器、充焊器、真空泵、压力表分别连接。所述的台架下设置有液氮泵，液氮泵与开靶器、充焊器、收贮器分别连接，充焊器与熔焊电源连接。开靶器、充焊器、真空泵、液氮泵、熔焊电源分别与控制器电连接。本发明的氙靶制备装置具有开靶、焊靶功能，不仅可用原料氙气制备不同装量规格的氙气靶，还可与I‑125生产系统集成，在线将回收的124Xe重新制靶再利用。本发明紧凑小巧，操作方便。
一种用于反应堆辐照生产 125 制备装置

[实用新型]一种石英晶体真空镀膜装置-CN202022948587.2有效
发明人：廖建伟;王立晖;吕锡昌 -专利权人：福建省将乐县长兴电子有限公司
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种石英晶体真空镀膜装置，涉及真空镀膜技术领域，包括支撑架、固定在支撑架底板上的箱体和真空泵，真空泵通过连接管与箱体连通，还包括镀膜装置，镀膜装置包括旋转放置架和磁控靶，旋转放置架枢接在与箱体的开口处扣合连接的箱盖上，旋转放置架位于箱体内，且旋转放置架与位于箱盖上的驱动机构驱动连接，磁控靶设置在箱体的内壁上，箱盖与一升降驱动装置驱动连接，升降驱动装置与固定设置在支撑架上的横移装置驱动连接。
一种石英晶体真空镀膜装置

[发明专利]具有交替电磁场的矩形平面磁控靶-CN201010168812.9无效
发明人：黄国兴 -专利权人：赫得纳米科技(昆山)有限公司
申请日： 2010-05-11 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有交替电磁场的矩形平面磁控靶，涉及溅射镀膜设备技术领域，包括靶材本体，其特征在于：还包括磁体，所述磁体设置在靶材本体的上部，所述磁体包含两组电磁铁，两组电磁铁相互交叉设置。本发明解决了现有技术矩形平面磁控靶中永磁体磁场分布及水平场强的局限性，造成靶材利用率较低，靶材利用率在30％左右，同时永磁体磁性稳定性较差的问题，本发明提供了一种结构简单，使用方便，能够增加靶材利用率的具有交替电磁场的矩形平面磁控靶靶材利用率可提升到65％左右，降低了靶材成本，延长换靶周期降低停机时间。同时本发明采用电磁铁在使用过程中不会产生消磁现象，能够稳定产品的品质，节约了成本。
具有交替电磁场矩形平面磁控靶

[发明专利]一种铁碳合金靶材及其薄膜制备方法-CN202310163390.3在审
发明人：吴红艳;赵科;陈睿;胡磊;张斌;张成远 -专利权人：苏州襄行辉光技术有限公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明是通过如下的技术方案来实现：一种铁碳合金靶材及其薄膜制备方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、铁碳合金靶制备：S1.1、用无水乙醇擦拭过的高纯石墨靶材(99.96％)，放入双层辉光等离子溅射炉体内的阴极载物台上，样品上方的铁基合金板为源极靶材，样品与靶材之间的间距为工件的极间距；S1.2、打开双层辉光等离子溅射成膜设备以，使用机械泵将镀膜炉体气压抽至2‑5Pa；S1.3、充入氩气到30‑35Pa，打开阴极工件电源并施加本发明优点在于，石墨靶材经过双层辉光等离子与磁控复合溅射后，表层铁碳元素相互扩散紧密集合，再在磁控溅射作用下同时产生溅射效应，增强了体系的辉光放电成膜效率，溅射出的铁碳元素形成质量较好。
一种合金及其薄膜制备方法

[实用新型]分体式灯光拳击机-CN202223021050.7有效
发明人：任福胜;宋涛;王腾;吴志文 -专利权人：深圳市智乾坤科技有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： A63B69/32 文献下载
摘要：本发明公开了分体式灯光拳击机，包括底板，所述底板表面可拆卸的设置有击打靶，所述击打靶设置有多个，其中一个为主控靶，其余为从控靶，主控靶与手机无线连接通讯，主控靶与从控靶之间以及从控靶与从控靶之间可拆卸的连接有连接线
体式灯光拳击

[发明专利]物理气相沉积设备、沉积工艺及刻蚀工艺-CN202310725218.2在审
发明人：潘兴强 -专利权人：宸微设备科技（苏州）有限公司
申请日： 2023-06-19 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明属于半导体处理设备技术领域，具体涉及一种物理气相沉积设备、沉积工艺及刻蚀工艺，包括：反应腔体，连接有真空发生装置；靶材组件，安装于所述反应腔体的上端，所述靶材组件与设置在所述反应腔体外部的靶材电源电连接；磁控源，设置在所述靶材组件的与所述反应腔体向背的一侧，所述磁控源被装配为能够在贴近于所述靶材组件表面的区域沿环形路径运动；所述靶材组件设有贯穿孔，所述贯穿孔设置在所述磁控源的环形运动路径的内侧；还包括穿透窗，所述穿透窗覆盖于所述贯穿孔的远离所述反应腔体的一侧，本发明避免靶材反溅镀现象的同时简化了设备结构。
物理沉积设备工艺刻蚀

[发明专利]基于阳极技术的DLC镀膜方法-CN201711133112.4有效
发明人：黄志宏;王向红;郎文昌;高斌 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2017-11-15 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C16/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于阳极技术的DLC镀膜方法，采用DLC镀膜装置进行镀膜，至少包括：步骤1，在惰性气氛下，以磁控靶为阳极、电弧靶为阴极进行电弧放电，产生等离子体；以基材为阴极、磁控靶为阳极对基材施加偏压，对基材进行等离子刻蚀清洗；步骤2，在惰性气氛下，以旋转磁控靶为阴极、旋转电弧靶为阳极进行磁控溅射；以旋转电弧靶为阳极、工件为阴极施加偏压，在基材上沉积金属过渡层；步骤3，通入碳氢类原料气体，以电弧靶为阳极
基于阳极技术 dlc 镀膜方法