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[发明专利]一种钨硅靶材的制备方法-CN201910864942.7在审
发明人：李保强;祁美贵;刘文迪;李斌玲;郑艾龙;黄志民 -专利权人：厦门虹鹭钨钼工业有限公司
申请日： 2019-09-09 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种钨硅靶材的制备方法，以纯度≥6N的多晶硅粒代替硅粉为原料进行钨硅靶材的制备，克服了硅粉纯度偏低、高纯度硅粉成本高的问题；并且，基于多晶硅粒的纯度更容易得到保证的情况，原料更易获取，不仅能够保证制备的钨硅靶材的纯度由于硅材料相对于钨材料更容易破碎，本发明以多晶硅粒为原料直接和钨粉进行混合破碎，在对多晶硅粒进行破碎的同时，可与钨粉进行充分混合，进而通过一个步骤即可得到钨硅混合料，提高生产效率。由于多晶硅粒的破碎与钨硅粉体的制备在一台设备(球磨机)上连续进行，避免了因工艺流程过长而对材料造成的污染，有助于保证材料的纯度；同时降低了生产成本。
多晶硅钨硅制备破碎靶材硅粉钨粉球磨机充分混合高纯度硅生产效率工艺流程硅材料混合料钨材料保证粉体生产成本污染

[发明专利]一种镍基粉芯丝材、涂层的制备与应用-CN201410143928.5有效
发明人：周正;贺定勇;王旭;王曾洁;蒋建敏;王智慧;王国红;赵秋颖 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2014-04-11 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： C23C4/06 文献下载
摘要：一种镍基粉芯丝材、涂层的制备与应用，属于材料加工工程中的热喷涂领域。药芯成分质量百分比为：纯金属铬粉20-35%，纯金属钨1-4%，镍硼粉11-30%，镍为余量；粉芯丝材外皮所用带材为80Ni-20Cr带；粉芯丝材填充率32％。用电弧喷涂制备含钨镍基涂层时，需先对基体进行预处理，喷涂工艺：电压28-34V；电流160-220A；喷涂距离190-210mm；压缩空气压力0.5-0.6MPa。本发明可获得含钨耐腐蚀的涂层，增加涂层的抗高温腐蚀性能，提高废弃物资源化WTE垃圾焚烧炉中水冷壁管和过热器管服役稳定性。
一种镍基粉芯丝材涂层制备应用

[发明专利]一种氧化钨电致变色薄膜的制备方法-CN201910869065.2在审
发明人：杨晔;赵文凯;宋伟杰;兰品军;李佳 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2019-09-16 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化钨电致变色薄膜的制备方法，包括以下步骤：1）将D50粒径为100～500nm氧化钨纳米粉体倒入含有0.1～3wt%分散剂的去离子水中，经过8～24h的球磨形成浆料；2）采用注浆成型的方式实现氧化钨靶材坯体的成型，将成型的坯体经干燥后置于冷等静压设备中，经120～300MPa的冷等静压，保压时间为60～600s，形成相对密度为60～75%的氧化钨陶瓷坯体；3）将氧化钨陶瓷坯体烧结得到氧化钨磁控溅射靶材；本发明能够在纯氩气氛下利用氧化钨的陶瓷靶材高速磁控溅射沉积具有高效电致变色性能的氧化钨薄膜
氧化钨陶瓷坯体坯体成型大面积电致变色器件氧化钨纳米粉体磁控溅射靶材磁控溅射沉积电致变色薄膜电致变色性能冷等静压设备氧化钨薄膜冷等静压陶瓷靶材注浆成型烧结分散剂靶材保压纯氩浆料球磨水中制备离子

[发明专利]一种镍酸锂靶材的制备方法-CN201610003697.7在审
发明人：谢海保;劳景兴 -专利权人：惠州市佰特瑞科技有限公司
申请日： 2016-01-07 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： C01G53/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种镍酸锂靶材及其制备方法，该靶材的纯度为大于等于99.9%、相对密度大于等于98%、平均晶粒尺寸小于等于50微米；该靶材的制备方法包括以下步骤：（1）提供镍酸锂粉末，并将其液压成型为坯件；按照此方法制备出的镍酸锂靶材，其晶粒尺寸细小且致密度高。在适当条件下，溅射这些靶材能获得性能优良的薄膜，从而提高全固态薄膜锂离子电池的储能量和循环次数。
一种镍酸锂靶材制备方法

[发明专利]用于在钛钨靶材中的小结控制的方法和设备-CN201580067397.9有效
发明人：魏俊琪;曹志涛;欧岳生;阿南塔克里希纳·朱普迪;希兰库玛·萨万戴亚;王欣;斯里斯卡塔拉贾赫·西里纳瓦卡拉苏 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-22 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式包括用于控制钛‑钨(TiW)靶材小结形成的方法和设备。在一些实施方式中，靶材包括：源材料，所述源材料主要地包括钛(Ti)和钨(W)，所述源材料由钛粉末和钨粉末的混合物形成，其中主要数量的钛粉末的晶粒尺寸小于或等于主要数量的钨粉末的晶粒尺寸。
用于钛钨靶材中的小结控制方法设备

[发明专利]一种基于镍基靶材的真空离子镀涂镀工艺-CN201911151703.3在审
发明人：吕晶晶;闫磊;魏明霞 -专利权人：中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种基于镍基靶材的真空离子镀涂镀工艺，属于真空离子镀涂镀技术制备涂层技术领域，包括以下步骤：步骤1，镍基阴极靶材的制备：母合金熔炼、型壳模具工艺、铸造工艺、机械加工；步骤2，镍基阴极靶材的离子镀工艺；步骤本发明基于镍基阴极靶材的真空离子镀涂镀工艺，提高了叶片表面的高温抗氧化、抗腐蚀性能，从而延长叶片的使用性能。
一种基于镍基靶材真空离子镀工艺

[发明专利]一种二维硒化钨的生长方法-CN202211536717.9在审
发明人：王广;吕志权;周溯媛;杨鸣;彭刚 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C30B23/00 文献下载
摘要：本发明属于材料技术领域，具体涉及一种二维硒化钨的生长方法，以硒化钨为靶材，加热；加热到目标温度时，通入保护气体，进行化学气相沉积，将硒化钨沉积在衬底上，生长完成后，迅速降温以阻止合成的硒化钨受到刻蚀，得到二维硒化钨；在加热过程中，从衬底向靶材通入保护气体；本申请的二维硒化钨可以通过控制温度，得到不同的晶体形态，且底层的硒化钨的尺寸较好；本申请的硒化钨晶体的均匀性较好，各层之间的耦合作用差异较大；两层硒化钨之间具有均匀的应变分布和层间耦合，二维硒化钨的整体质量较高。
一种二维硒化钨生长方法

[发明专利]一种镁锌铝镍钒合金靶材及其制造方法-CN202210090033.4在审
发明人：张凤戈;张学华;魏铁峰;岳万祥;张欠男;王建峰 -专利权人：北京安泰六九新材料科技有限公司;涿州安泰六九新材料科技有限公司
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种镁锌铝镍钒合金靶材及其制备方法，合金靶材按原子百分比由以下成分组成：镁锌30‑60％，铝10‑40％、镍10‑40％、钒10‑40％，其中，镁锌中镁和锌的原子百分比为1:1；制备方法包括金属粉末的制备、预压处理和热压处理，得到镁锌铝镍钒合金靶材；其中，金属粉末的制备中，将镁锌源、铝源、镍源和钒源进行混料，得到金属粉末；采用镁锌合金代替常规镁源和锌源，确保生产安全。本发明制备得到的镁锌铝镍钒高熵合金靶材包括Al相、MgZn相、Ni相和V相，具有致密度高、合金化程度适当，无气孔和偏析，无裂纹，加工性能良好，组织均匀等优点，相对密度超过99％。
一种镁锌铝镍钒合金及其制造方法

[发明专利]一种复合氧化镍镁靶材及其制备方法-CN202310661199.1在审
发明人：沈文兴;白平平;童培云 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2023-06-06 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C04B35/04 文献下载
摘要：本发明涉及靶材生产技术领域，公开了一种复合氧化镍镁靶材的制备方法，主要包括以下步骤，先将NiO粉和MgO粉进行混合、球磨、过筛，得到NiO、MgO的混合粉体；且在球磨过程中，所述磨球的大小为φ2、φ5和φ10，且□2、φ5、φ10的磨球的数量比为3：2：1，且磨球与物料的质量比为2～4：1；再将制得的NiO、MgO的混合粉体以此进行装模、预压、真空热压、脱模处理，得到氧化镍镁毛坯；最后对制得的氧化镍镁毛坯机械加工，得到氧化镍镁靶材，通过此设计使得该方法的操作简单，无需同传统制备方法一样进行分段烧结或分段脱脂，即可制造出相对密度超过98％的氧化镍镁靶材。
一种复合氧化镍镁靶材及其制备方法

[发明专利]电磁屏蔽方法及制品-CN201110239728.6无效
发明人：陈文荣;陈正士;李聪 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-08-19 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电磁屏蔽方法，其包括如下步骤：提供基体；采用真空镀膜法，以钽靶为靶材，以氧气为反应气体，于基体上形成一绝缘层；采用真空镀膜法，以铜靶、镍靶、铝靶及银靶中的一种为靶材，于该绝缘层上形成一导电层，该导电层为铜层、镍层、铝层或银层。
电磁屏蔽方法制品

[发明专利]一种高致密度高纯度溅射旋转银靶材的制备方法-CN201710579931.5在审
发明人：黄伟东 -专利权人：绍兴斯普瑞涂层技术有限公司
申请日： 2017-07-17 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种旋转银靶材的冷喷涂制备方法。首先将不锈钢按照客户要求加工好，然后用棕刚玉进行喷砂粗化。再用碳化钨合金制作的拉法尔喷管对银粉进行喷涂，碳化钨喷管结构如图1，银粉为球形粉末，粒度为30‑60微米，氮气气压为2‑3MPa，氦气加热温度为300‑400℃，送粉转速为6rpm。采用本发明冷喷涂制备银靶材，具有工艺简单和组织致密的优点，靶材相对密度可以达到99.9％以上，靶材内部晶粒组织均匀细小，无缺陷组织，且沉积效率高于99％。
一种致密纯度溅射旋转银靶材制备方法

[发明专利]一种铜铁铬镍四元合金平面溅射靶材及其制备方法-CN202310592526.2在审
发明人：郑双明;白向钰;潘国栋;张若愚;黄拔平 -专利权人：新加坡先进薄膜材料私人有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C22C1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜铁铬镍四元合金平面溅射靶材及其制备方法，其中铜铁铬镍四元合金平面溅射靶材制备方法至少包括真空感应熔炼铸型步骤：将铜、铁、铬和镍原料按照预设质量比放入真空感应熔炼炉中加工成为成型靶材，且成型靶材的相对密度不小于由于成型靶材在真空感应熔炼炉内熔炼而成，因此本发明所公开的铜、铁、铬和镍原料在真空感应熔炼炉内可以进行充分的熔合，而且由于铜铁系合金具有良好的导电、导热性能、较高的机械强度和耐磨蚀等特性，铬元素的添加可以进一步提高合金的抗腐蚀性以及机械系性能，镍元素的添加可以与铬元素充分配合，使金相组织由单相的铁素体变为奥氏体和铁素体双相组织，从而有效提高合金靶材的抗腐蚀和机械性能。
一种铜铁铬镍四元合金平面溅射及其制备方法

[发明专利]一种高比重钨镍铁合金及其激光增材制备方法-CN202110659907.9有效
发明人：魏正英;李俊峰;来旭辉;周博康;吴云肖 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B22F1/052 文献下载
摘要：本发明提供一种高比重钨镍铁合金及其激光增材制备方法，具体如下：向粒径范围为5‑15μm的钨粉体中加入粒径范围为5‑25μm的Fe‑Ni合金粉体及粒径范围为5‑25μm的镍粉体及亚微米镍粉；粒径范围为5‑25μm的镍粉体质量分数大于亚微米镍粉的质量分数，根据钨、镍和铁质量比90:7:3调整Fe‑Ni合金粉体、粒径范围为5‑25μm的镍粉体及亚微米镍粉比例，混合均匀得到混合粉末，粉末混合期间，保持混料器内为氩气氛围；基于所述混合粉末采用激光粉末床熔融增材制造成形工艺进行制备成形得到高比重钨镍铁合金所述制备方法能够实现高比重钨镍铁复杂结构件的一体化直接制造，构件的致密度近100％致密，解决现有钨镍铁材料加工技术中存在的工序繁琐
一种比重铁合金及其激光制备方法

[发明专利]一种高性能钨合金棒材及其制备方法-CN202111066799.0有效
发明人：吴朝圣;苏文国;刘俊海;齐英国;王玲 -专利权人：安泰天龙（北京）钨钼科技有限公司;安泰天龙钨钼科技有限公司;安泰科技股份有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： C22C27/04 文献下载
摘要：本发明提供一种高性能钨合金棒材及其制备方法。所述棒材按质量百分比包括以下组分：钨90‑95％，镍3.5‑7％，铁1.5‑3％，其余为不可避免的杂质；所述棒材的制备方法包括：按照上述棒材的组分配比分别称取钨粉、镍粉和铁粉进行混合得到复合粉末，然后将粘结剂加入到复合粉末中进行混料处理，再依次经过挤压成型处理、脱胶处理、烧结处理、烧结后热处理、精锻变形处理，制得钨合金棒材；其中，精锻变形处理的总变形量为20‑60％；该制备方法操作简单，能够实现低温锻造，且制得的钨合金棒材性能均一，室温抗拉强度
一种性能合金及其制备方法

[发明专利]一种具有强迫液冷双窗口阳极的X光管-CN201310339178.4有效
发明人：林祖伦;徐如祥;于海波;代秋生;曹贵川;王小菊;祁康成 -专利权人：苏州爱思源光电科技有限公司
申请日： 2013-08-07 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： H01J35/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有强迫液冷双窗口阳极的X光管，包括管壳、阳极部件和阴极部件，所述阳极部件包括靶材和包围靶材的阳极外壁，所述阳极外壁开有电子入射口和X射线逸出口，所述X射线逸出口上具有透X光隔离窗。采用本发明所述的具有强迫液冷双窗口阳极的X光管，既保证了阴极发射的电子能够顺利通过隔离窗到达钨靶、又能使高能电子轰击钨靶后产生的X射线顺利透过隔离窗输出，同时通过对阳极的强迫液冷，从而有效使得防止了钨靶蒸发的材料到达管壳内壁和其他绝缘体上引起的
一种具有强迫液冷双窗口阳极