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- [实用新型]一种基板为钛材的锆‑钛复合板的新型氯化釜-CN201620696081.8有效
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文金旋
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文金旋
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2016-07-05
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2016-12-21
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B01J19/02
- 一种基板材料为钛材的锆‑钛复合板的新型氯化釜,包括上段和下段两部分;其特征在于所述上段部分的筒体采用钛锆钽的爆炸复合板,包括基层钛板、过渡层锆板、覆层钽板及钽贴条,基层钛板与过渡层锆板之间通过堆焊连接,过渡层锆板与覆层钽板之间垫一锆垫条,锆垫条与过渡层锆板焊接,覆层钽板加以钽贴条焊接,上封头采用钛和钛钯合金的复合板,包括基层钛板和覆层钛钯合金板;所述下段部分的筒体与下封头均采用钛板与锆板的爆炸复合板,包括基层钛板、覆层锆板和锆贴条,基层钛板与覆层锆板通过堆焊连接,覆层锆板加以锆贴条焊接。本实用新型钛锆复合板的氯化釜,摒弃了现有氯化釜中的以碳钢为爆炸复合板基层的结构耐腐蚀性能大大提高。
- 一种复合板新型氯化
- [发明专利]一种钽酸锂晶片的抛光方法-CN201710880312.X有效
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沈浩;顾鑫怡;徐秋峰;归欢焕;丁孙杰
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天通控股股份有限公司
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2017-09-26
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2019-03-22
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B24B1/00
- 本发明公开了一种钽酸锂晶片的抛光方法,包括如下步骤:a)将切割后的钽酸锂晶片,用粒度为5~20um的磨料研磨,获得表面具有粗糙结构的钽酸锂研磨片;b)将钽酸锂研磨片在盛有硝酸和氢氟酸混合酸的密闭容器中直接进行化学腐蚀,使钽酸锂晶片的粗糙度<200nm,平坦度<5um,获得表面随机无序凹坑结构的钽酸锂腐蚀片;c)将钽酸锂腐蚀片用单抛机和抛光液进行单面抛光,抛光压力为0.005~1MPa,使钽酸锂晶片的粗糙度<0.5nm,平坦度<3um,获得钽酸锂单抛片。本发明一次抛光,批量生产,抛光效率高,生产的钽酸锂晶片表面平坦度高,这一特征决定了钽酸锂晶片在器件应用中不易破碎,材料利用率高,加工成品率高。
- 一种钽酸锂基片抛光方法
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