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[发明专利]化学放大的负性抗蚀剂组合物和图案形成方法-CN200810173799.9无效
发明人：武田隆信;渡边保;小板桥龙二;增永惠一;田中启顺;渡边修 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2008-03-28 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：一种含有聚合物的化学放大负性抗蚀剂组合物，所述聚合物包含重复的羟基苯乙烯单元和其上具有吸电子取代基的重复苯乙烯单元。在形成一种具有小于0.1μm微细特征尺寸的图案中，组合物表现出高的分辨率，由组合物形成的抗蚀涂层可以处理成这种微细尺寸图案而将图案特征之间桥连接的形成最小化。
化学放大负性抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]用于数据的重复发送和接收的特定跳变图案及其生成方法-CN201880054147.5有效
发明人：雅可比·科内瑟尔;约瑟夫·伯恩哈德;格尔德·基利安;约翰尼·韦切斯勒;雷蒙德·迈雅;弗兰克·奥伯诺斯特勒 -专利权人：弗劳恩霍夫应用研究促进协会
申请日： 2018-07-03 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H04L5/00 文献下载
摘要：在实施例中，数据发送器和数据接收器在第一模式下使用第一跳变图案和第二跳变图案来进行对数据的重复传送，并且在第二模式下使用第三跳变图案来进行对数据的单次传送，其中，第一模式和第二模式的跳变图案是不同的，使得可以降低分别在不同模式下由另一数据发送器重复传输数据时的冲突概率
用于数据重复发送接收特定图案及其生成方法

[发明专利]印刷板-CN202180047910.3在审
发明人：安妍璿;慎晟真;刘济赫;金兑庸 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-08-12 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C09D11/10 文献下载
摘要：本申请提供了包含印刷图案和/或印刷线的印刷板、能够形成所述印刷板的丝网印刷墨和使用所述墨的印刷方法，所述印刷图案和/或印刷线具有优异的厚度均匀性和直线性，没有边缘顶部缺陷，并且即使在其形成在待暴露于重复折叠的重复折叠基板上时也不被损坏
印刷

[发明专利]用于形成具有楔形槽的槽式过滤介质的方法和装置-CN201080037254.0有效
发明人： T·A·莫伊;G·J·费森麦尔;G·J·罗克利兹;欧阳明;A·M·马修 -专利权人：唐纳森公司
申请日： 2010-08-03 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： B01D39/00 文献下载
摘要：该方法包括形成具有重复性槽图案的槽式过滤介质，其中在这种重复性槽图案中至少一个槽在相邻的同侧峰之间的槽周期内包括至少一个脊，这些槽显示出楔形的截面区域。
用于形成具有楔形过滤介质方法装置

[发明专利]激光全息标记的不对位烫印技术-CN93110859.4无效
发明人：陈刚 -专利权人：陈刚
申请日： 1993-02-04 - 公布日： 1994-04-13 - 主分类号： B41M5/24 文献下载
摘要：全息标记的图案由重复的与烫印面积相比足够小的图案或文字组成，而且有足够的重复密度，全息照像制版和电铸后在全息烫印膜上模压出连续或基本上连续的重复的全息图，再用烫印机进行烫印，以使在一定的烫印面积内能烫印相同或基本上相同的全息图案
激光全息标记对位技术

[发明专利]成像系统和成像方法-CN201480059289.2在审
发明人： O.海德 -专利权人：西门子公司
申请日： 2014-10-22 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种成像系统，其带有用于发出辐射的辐射源、具有规则的探测器元件阵列的辐射探测器和具有规则重复的图案的荫罩。所述荫罩和所述辐射探测器这样布置，以便在所述探测器位置处通过所述辐射产生所述荫罩的图案的投影。所述图案的无失真投影的空间重复长度不同于所述探测器元件阵列的空间重复长度的二倍。本发明还涉及一种成像方法，其中应用根据前述权利要求之一所述的成像系统，以借助辐射探测器来测量由待检查对象造成的、所述荫罩的图案在辐射探测器的位置处的投影的位移。
成像系统方法

[发明专利]相机固有校准-CN202180042906.8在审
发明人：贾志恒;E·G·格罗斯曼;H·郑;D·R·多明格斯;R·D·泰克尔斯特 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2021-06-15 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：双侧DOE具有在第一表面上的第一图案，以及第二表面上的第二图案。第一图案和第二图案中的每一者都可以通过重复子图案来形成，重复子图案在每个表面上平铺时被布线。双侧DOE上的图案被形成为使得由DOE形成的图像图案的图像上的中央强度峰的亮度减少到预定量。
相机固有校准

[发明专利]光刻装置和器件制作方法-CN200410068448.3有效
发明人： A·J·布里克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-06-19 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：限制用于构图基板的程控构图构件的比例，以使得要曝光在基板上的重复图案的尺寸是要由带图案的光束曝光在基板上的图案尺寸的整数倍。
光刻装置器件制作方法

[外观设计]印花布-CN99300186.6无效
发明人：李薇 -专利权人：李__薇
申请日： 1999-01-12 - 公布日： 1999-10-06 - 主分类号： 05-05-C0041 文献下载
摘要：本外观设计为平面产品,背面无图案,省略其它视图。所附主视图中的图案沿水平方向和垂直方向重复。
印花布

[发明专利]衣服样的吸收制品-CN201980057393.0在审
发明人： A.V.史密斯;C.S.卡梅隆;N.L.拉莫斯梅迪纳;V.M.梅伦德兹;B.D.坎菲尔德 -专利权人：宝洁公司
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： A61F13/514 文献下载
摘要：该衣服样的吸收制品可包括具有孔和/或粘结部的重复图案的一个或多个非织造部件。该非织造部件也可具有特定的重复单元面积、重复单元宽度和重复单元长度以有助于柔软性并向消费者提供改善的美学外观。
衣服吸收制品

[发明专利]用于图案形成方法的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物-CN201410602459.9有效
发明人：加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;齐藤翔一;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-25 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
光化射线式( I )树脂辐射敏感树脂组合物图案形成树脂组合物芳族基团极性基团敏感曝光机溶剂显影液溶剂非酚显影照射分解图案辐射

[发明专利]图案形成方法、光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、用于制造电子器件的方法，以及电子器件-CN201280026472.3有效
发明人：加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;齐藤翔一;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-25 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
图案形成方法光化射线敏感辐射树脂组合抗蚀剂膜用于制造电子器件以及

[外观设计]压花玻璃（燎原之光-368）-CN02365079.6无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2002-11-19 - 公布日： 2003-07-16 - 主分类号： 25-01 文献下载
摘要：压花玻璃图案左右延伸、上下延伸、周期重复。
压花玻璃燎原 368

[外观设计]压花玻璃（八角花）-CN02361661.X无效
发明人：程汝林 -专利权人：程汝林
申请日： 2002-09-14 - 公布日： 2003-05-28 - 主分类号： 25-01 文献下载
摘要：压花玻璃图案左右延伸、上下延伸，周期重复。
压花玻璃八角

[外观设计]纸（黑檀木纹P－9098）-CN03321652.5无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2003-03-25 - 公布日： 2003-11-19 - 主分类号： 05-06 文献下载
摘要：1.本外观设计的要点在于：图案上下无限延伸、左右重复连续延伸。2.平面产品，后视图无图案，省略后视图。
檀木 9098