专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硫化锑/硅叠太阳电池及其制备方法-CN201610369963.8有效
  • 刘芳洋;陈鑫;蒋良兴 - 中南大学
  • 2016-05-30 - 2017-07-14 - H01L31/078
  • 本发明公开了一种硫化锑/硅叠太阳电池及其制备方法,硫化锑/硅叠太阳电池包括晶硅底电池、硫化锑薄膜顶电池以及中间复合连接结构;所述复合连接结构由下至上包括二氧化硅钝化透明导电氧化TCO和高功函数过渡金属氧化,二氧化硅钝化中包含金属纳米颗粒阵列。其制备方法是,先在晶硅太阳电池表面依次制备金属纳米颗粒阵列、二氧化硅钝化透明导电氧化TCO及过渡金属氧化;再在所述过渡金属氧化表面制备硫化锑薄膜太阳电池,该方法材耗少,成本低,且可利用现有成熟工艺及设备进生产
  • 一种硫化锑硅叠层太阳电池及其制备方法
  • [发明专利]硅基异质结太阳电池的制备方法及镀膜设备-CN201910168488.1在审
  • 石建华;孟凡英;刘正新 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2019-03-06 - 2020-09-15 - H01L31/20
  • 本发明提供一种硅基异质结太阳电池的制备方法及镀膜设备,方法包括依次形成堆叠设置的第一透明导电氧化缓冲及第一透明导电氧化主导;依次形成堆叠设置的第二透明导电氧化缓冲及第二透明导电氧化主导;其中,第一透明导电氧化缓冲及第二透明导电氧化缓冲采用射频磁控溅射源制备,第一透明导电氧化主导及第二透明导电氧化主导采用直流磁控溅射源制备;所述镀膜设备包括:至少两个射频磁控溅射源,以形成第一缓冲及第二缓冲;至少两个直流磁控溅射源,以在第一缓冲上制备第一主导及在第二缓冲上制备第二主导;具有低成本、高稳定性、方法兼容的特点。
  • 硅基异质结太阳电池制备方法镀膜设备
  • [发明专利]电致变色膜系的制备方法及电致变色器件的制备方法-CN202010896429.9有效
  • 周钧;程银兵;庄志杰 - 基迈克材料科技(苏州)有限公司
  • 2020-08-31 - 2022-12-06 - C23C14/08
  • 电致变色膜系的制备方法包括如下步骤:采用气相沉积技术在第一透明保护上形成第一导电薄膜,第一导电薄膜的材质为金属氧化;采用气相沉积技术在第一导电薄膜上形成离子储存,离子储存的材质为锂合金或者锂金属氧化;采用气相沉积技术在离子储存上形成离子传导输送,离子传导输送的材质为含锂的聚阴离子化合;采用气相沉积技术在离子传导输送上形成离子变色,离子变色的材质为金属氧化;采用气相沉积技术在离子变色上形成第二导电薄膜,第二导电薄膜的材质为金属氧化;以及采用气相沉积技术在第二导电薄膜上形成第二透明保护
  • 变色制备方法器件
  • [发明专利]透明倒置OLED器件及其制备方法-CN201611262701.8有效
  • 于倩倩;谢静;朱映光 - 固安翌光科技有限公司
  • 2016-12-30 - 2019-04-19 - H01L51/50
  • 本发明提供一种透明倒置OLED器件及其制备方法,所述OLED器件包括顺次设置的透明基板、透明阴极、电子传输、发光、空穴传输透明阳极,所述空穴传输的材料为主动结晶类材料,厚度为10‑100 nm,所述透明阳极的材料为金属氧化金属掺杂的金属氧化金属膜与金属氧化膜交替堆叠中的一种。本发明利用主动结晶的空穴传输诱导透明金属阳极结晶,解决阳极导电性差的问题,能够显著提高透明OLED器件的光电性能且制备工艺简单,可省去透明阳极热处理结晶的步骤,从而减小热处理对OLED有机发光的影响
  • 透明倒置oled器件及其制备方法
  • [发明专利]氮化基发光装置及其制造方法-CN200410100599.2有效
  • 宋俊午;成泰连 - 三星电子株式会社;光州科学技术院
  • 2004-11-12 - 2005-05-18 - H01L33/00
  • 提供一种氮化基发光装置和制造该装置的方法,该装置包括比氧化铟锡具有更高的功函数的透明导电氧化制成的透明电极。氮化基发光装置具有由衬底、n-型复合、活性、P-型复合以及电阻性接触依次层叠的结构。电阻性接触作为透明导电氧化制成的薄膜,具有比氧化铟锡或掺有金属掺杂剂的透明导电氧化制成的薄膜更高的功函数。因此,带有P-型复合的电阻性接触特性得到提高,从而确保了优秀的电流-电压特性。此外,透明电极高的光透射率能够增加装置的发射效率。
  • 氮化物发光装置及其制造方法

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