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[发明专利]涂敷装置以及涂敷方法-CN202080058863.8有效
发明人：内藤胜之;信田直美;奈良康平;小久保高弘;平泽博明;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2020-08-04 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
装置以及方法

[发明专利]涂布方法、涂布棒状头及涂布装置-CN201980056521.X有效
发明人：内藤胜之;信田直美;齐藤三长;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B05D1/26 文献下载
摘要：本发明提供即使高速地进行弯月面涂布，涂布膜厚也难以变动的涂布方法、涂布棒状头及涂布装置。在向涂布棒状头与基材之间供给涂布液而形成弯月面并使基材移动的涂布方法中，涂布方向上的棒状头涂布面剖面为凸起的曲线，在曲线的两端具有折弯点。
方法涂布棒状头装置

[发明专利]涂布头、涂布装置及涂布方法-CN202080017045.3有效
发明人：内藤胜之;信田直美;奈良康平;小久保高弘;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2020-03-09 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B05C1/02 文献下载
摘要：提供一种能够形成均匀的涂布膜的涂布头、涂布装置及涂布方法。根据实施方式，涂布头包括涂布棒、多个喷嘴、第1～第3构件、弹性构件以及位置控制部。多个喷嘴朝向涂布棒供给液体。第1构件包括多个第1凹部。多个喷嘴的1个的至少一部分位于多个第1凹部的1个与多个第3构件的1个之间。多个喷嘴的1个的至少一部分和多个第3构件的1个通过多个第2构件的1个固定于第1构件。多个弹性构件的1个设置在第1～第3位置中的至少任一个。第1位置是多个第3构件的1个与多个第2构件的1个之间。第2位置是多个第1凹部的1个的至少一部分与多个喷嘴的1个之间。第3位置是多个喷嘴的1个的至少一部分与多个第3构件的1个之间。
布头装置方法

[发明专利]导电部件、电子装置及导电部件的制造方法-CN202180050684.4在审
发明人： 信田直美;内藤胜之;水口浩司;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供一种能够得到稳定特性的导电部件、电子装置以及导电部件的制造方法。根据实施方式，导电部件包括：包括金属纳米线的第1层、包括聚噻吩部件的第2层、以及包括含有石墨烯骨架的石墨烯部件的第3层。所述第2层设置在所述金属纳米线与所述第3层之间。
导电部件电子装置制造方法

[发明专利]光催化剂复合材料、光催化剂复合材料的制造方法及光催化剂装置-CN202211426631.0在审
发明人： 信田直美;内藤胜之;横田昌广;千草尚;太田英男 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： B01J23/652 文献下载
摘要：本发明提供高活性且能够简便地制作且不易剥离的光催化剂复合材料、其制作方法及光催化剂装置。一种光催化剂复合材料，其包含基材和由光催化剂粒子形成的光催化剂层，与基材表面相接的光催化剂层的平均粒径小于光催化剂层表面的平均粒径。
光催化剂复合材料制造方法装置

[发明专利]光催化剂复合材料、光催化剂复合材料的制造方法及光催化剂装置-CN201910863185.1有效
发明人： 信田直美;内藤胜之;横田昌广;千草尚;太田英男 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： B01J23/652 文献下载
摘要：本发明提供高活性且能够简便地制作且不易剥离的光催化剂复合材料、其制作方法及光催化剂装置。一种光催化剂复合材料，其包含基材和由光催化剂粒子形成的光催化剂层，与基材表面相接的光催化剂层的平均粒径小于光催化剂层表面的平均粒径。
光催化剂复合材料制造方法装置

[发明专利]透明电极及其制造方法、以及使用透明电极的电子器件-CN202180018129.3在审
发明人：内藤胜之;信田直美;五反田武志;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：[课题]实施方式提供高稳定性、低薄层电阻、高透光性的透明电极及其制作方法、以及使用该透明电极的电子器件。[解决手段]一种透明电极(100)，其具备包括透明基材(101)、金属网格(102)、金属纳米线(103)和中性聚噻吩混合物(104)的结构。所述金属网格(102)具有埋设入所述透明基材(101)的埋设部和从所述透明基材(101)突出的突出部，所述金属纳米线(103)和所述中性聚噻吩混合物(104)以与所述透明基材(101)或所述突出部接触的方式配置。
透明电极及其制造方法以及使用电子器件

[发明专利]涂敷装置及涂敷方法-CN202180016238.1在审
发明人： 信田直美;内藤胜之;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B05C1/04 文献下载
摘要：提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
装置方法

[发明专利]透明电极及其制作方法、以及使用透明电极的电子器件-CN202180017899.6在审
发明人： 信田直美;内藤胜之;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：[课题]本发明提供一种不易发生银迁移而耐性高的透明电极及其制作方法、以及使用该透明电极的电子器件。[解决手段]实施方式的透明电极具备透明基材(101)、导电性含银层(102)和导电性氧化物层(103)依次层叠的层叠结构，将所述透明电极在波长800nm和600nm处的总透射率分别设为T800和T600时的透射率的比T800/T600为0.85以上，且所述含银层(102)是连续的。该电极可以通过使由导电性含银层(102)和导电性氧化物层(103)层叠而成的层叠膜与硫或硫化合物接触，形成含硫银化合物层来制作。
透明电极及其制作方法以及使用电子器件

[发明专利]带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置-CN201811532251.9有效
发明人：内藤胜之;信田直美;千草尚;大川猛;荻原孝德;横田昌广;太田英男;猪又宏贵 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B01J23/30 文献下载
摘要：本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
光催化剂基材及其制造方法以及光催化装置

[发明专利]光催化剂分散液、光催化剂复合材料及光催化剂装置-CN201910144899.7有效
发明人： 信田直美;内藤胜之;横田昌广;千草尚;太田英男;大川猛;荻原孝德;猪又宏贵 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2019-02-27 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： B01J23/888 文献下载
摘要：提供分散稳定且抗菌作用高的光催化剂分散液、高活性的光催化剂复合材料及光催化剂装置。一种分散液，其包含水、在20℃、pH6的水中Zeta电位为负的主催化剂粒子、和Zeta电位为正的助催化剂粒子，上述主催化剂粒子的平均粒径比上述助催化剂粒子的平均粒径小。
光催化剂分散复合材料装置

[发明专利]含石墨烯膜的阴离子透过性评价方法和光电转换元件-CN201880056118.2有效
发明人：内藤胜之;信田直美;齐田穰 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2018-09-13 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G01N27/416 文献下载
摘要：[课题]提供以简便方法评价含石墨烯膜的阴离子透过性的方法和使用控制离子透过性的含石墨烯膜的光电转换元件。[解决手段]该方法包括：(i)准备具备含阴离子的水溶液、含金属银的工作电极、对电极和参比电极的测量装置，(ii)各电极与水溶液接触时边周期性改变工作电极相对对电极的电极电位边扫描，测量金属银与阴离子的反应电流I0，(iii)代替工作电极，测量与工作电极电连接的含石墨烯膜与水溶液接触时的反应电流I1,(iv)比较I0与I1，评价含石墨烯膜的阴离子透过性。提供具备含石墨烯膜的光电转换元件，当根据上述方法测量反应电流时反应电流I1的曲线在正电位侧具有峰，正电位侧累积电荷量Q1为不具含石墨烯膜的正侧累积电荷量Q0的20％以下。
石墨阴离子透过评价方法光电转换元件

[发明专利]透明电极、透明电极的制造方法和电子器件-CN202080060203.3在审
发明人：内藤胜之;信田直美;齐田穣 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种低电阻、且对卤素、硫等杂质的稳定性高的透明电极及其制造方法、以及使用该透明电极的电子器件。[解决手段]实施方式的透明电极是具备透明基材和配置在其表面上且被分离区域相互分离的多个导电性区域的透明电极，所述导电性区域具有从所述基材侧起依次层叠第1透明导电性金属氧化物层、金属层和第2透明导电性金属氧化物层的结构，在所述分离区域配置有捕获卤素、硫或氧的任1种以上的捕获材料。该透明电极可通过在对导电性区域进行划线而形成分离区域后采用卤化物或硫化合物来制造。
透明电极制造方法电子器件

[发明专利]透明电极、透明电极的制造方法和电子器件-CN202080060839.8在审
发明人： 信田直美;内藤胜之;齐田穣 -专利权人：株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：本发明提供一种低电阻、制造简单、稳定的图案化的透明电极及其制造方法、以及使用其的电子器件。[解决手段]实施方式的透明电极是具备透明基材和配置在其表面上且被高电阻区域相互分离的多个导电性区域的透明电极，所述导电性区域具有从所述基材侧依次层叠第1透明导电性金属氧化物层、金属层、第2透明导电性金属氧化物层和含石墨烯层的结构，在所述高电阻区域中不存在具有石墨烯骨架的化合物，该透明电极可以通过在形成含石墨烯层后进行图案化来制造。
透明电极制造方法电子器件

[发明专利]带光催化剂的基材及光催化装置-CN202210049033.X在审
发明人：内藤胜之;信田直美;千草尚;大川猛;荻原孝德;横田昌广;太田英男;猪又宏贵 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B01J23/888 文献下载
摘要：本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
光催化剂基材光催化装置

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