专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法-CN201810458187.8有效
  • 周丽芳;刘明星;王徐亮 - 昆山国显光电有限公司
  • 2018-05-14 - 2020-06-23 - C23C14/04
  • 本发明涉及一种掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法,该掩膜板包括掩膜基板和遮挡层,掩膜基板上设置有区,区包括有效区和无效区,有效区与显示面板的显示区对应,无效区至少与显示面板的开槽区对应,且有效区和无效区内均分布有多个开口,遮挡层设置于掩膜基板表面并遮挡无效区内的开口。上述掩膜板用于显示面板,其中对于掩膜基板而言,不仅使有效区与异形屏的显示区对应,还通过无效区补齐了有效外的缺口,整个区的边缘受力均匀,可以防止掩膜基板在张网时褶皱,进而防止最终成型的显示面板混色
  • 掩膜板组件制作方法
  • [发明专利]一种真空系统及真空方法-CN202010429257.4有效
  • 梁丰;牛晶华;戴铭志;李巍 - 武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司
  • 2020-05-20 - 2022-03-29 - C23C14/24
  • 本申请公开一种真空系统及真空方法,涉及领域,包括:移动载台,移动载台上设置有M个蒸发源和M个角度限制单元,角度限制单元包括第一开口,材料的范围由第一开口限定;信号发射单元向范围内发射第一红外信号,第一红外信号经过材料后形成第二红外信号;信号探测单元接收第二红外信号,通过第二红外信号分析范围内所包含的材料;当范围内包含N种材料时,第一驱动单元驱动角度限制单元运动,调节范围本申请通过第一驱动单元驱动角度限制单元运动,调节各种材料的范围,使得多种材料在面上完全重合,避免出现超薄层,从而提高器件性能和产品良率。
  • 一种真空系统方法
  • [实用新型]一种热预调材料回收装置与设备-CN202321386224.1有效
  • 尹伟杰;黄惠钰;赖俊志;李立嘉;刘明伟;李艳华 - 湖南科技大学
  • 2023-06-02 - 2023-10-13 - C23C14/24
  • 本实用新型公开了一种热预调材料回收装置与设备,热预调材料回收装置包括挡板与装置;其中挡板包括加热盖板和两片引流板,两片引流板位于加热盖板下方,分别斜向下向内设置;装置包括蒸发舟、底座和加热器,蒸发舟位于底座(42)上方,加热器位于底座下方,使加热器通过底座加热蒸发舟中的材料;挡板覆盖在装置的上方,两引流板的下端均位于蒸发舟内部的上方,使液态的材料通过引流板回到蒸发舟中从而在预调材料速率的过程当中,蒸发的材料被挡板收集,沉积在加热盖板上,通过加热使得凝固的材料融化,经过引流板回流至蒸发舟内,节约材料。
  • 一种热蒸镀预调材料回收装置设备
  • [发明专利]装置、设备及方法-CN201410247239.9无效
  • 张耀宇 - 上海和辉光电有限公司
  • 2014-06-05 - 2014-08-27 - C23C14/24
  • 本发明提供一装置、设备及方法,装置包括:至少一源;以及,一动力装置,接设于所述源,所述动力装置驱动所述源往复摇摆。本发明将现有线性源直线扫描生产方式,改为摇摆方式来达成成膜目的。利用源的摇摆,减少其中一个或多个喷口出气率不良时的影响,提高气体均匀性,从而提高成膜均匀性。
  • 装置设备方法
  • [实用新型]一种对位系统及装置-CN201621105664.5有效
  • 田川 - 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
  • 2016-10-08 - 2017-03-08 - C23C14/24
  • 本实用新型公开一种对位系统及装置,涉及技术领域,为解决待基板因静电被吸附在冷却板上而导致装置的工作受到不良影响的问题。所述对位系统,包括基板载具、掩膜版载具和冷却板,冷却板内设置有分离件;对待基板进行时,待基板安装在基板载具上,掩膜版安装在掩膜版载具上,待基板位于冷却板的下方,掩膜版位于待基板的下方;分离件可与基板载具一起相对冷却板向下移动,使待基板与冷却板分离。分离件与基板载具一起向下移动,分离件向待基板施加向下的力,使待基板与冷却板分离,防止装置的工作受到不良影响。本实用新型提供的对位系统应用于装置中。
  • 一种对位系统装置
  • [发明专利]真空装置-CN202210599823.5在审
  • 斋藤修司 - 株式会社爱发科
  • 2020-06-04 - 2022-08-02 - C23C14/24
  • 本发明提供一种真空装置源,其具有主筒体和副筒体,所述主筒体具有填充材料的坩埚部;所述副筒体具有释放开口;以及加热装置,其至少可加热坩埚部内填充的材料;副筒体改变释放开口的相位并可装卸自如地安装在主筒体上;设置有开合自如地封闭坩埚部的上表面开口的盖体;在真空气氛中在用盖体封闭坩埚部的上表面开口的状态下通过加热装置加热坩埚部内的材料使材料升华或气化,在打开盖体时,升华或气化了的材料一边保持其蒸气压力
  • 真空装置用蒸镀源
  • [发明专利]装置及其控制方法-CN201910142564.1在审
  • 林进志 - 陕西坤同半导体科技有限公司
  • 2019-02-26 - 2020-09-01 - C23C14/24
  • 本申请提供一种装置及其控制方法,涉及真空技术领域。该装置包括腔体,所述腔体的一个表面设有多个孔;第一源,通过第一管道与第二管道连通;第二源,通过第三管道与所述第二管道连通;所述第二管道与所述腔体连通,且所述第一管道、第二管道和第三管道连接处设有第一阀门本申请可以可在不停机的情况下切换源,使装置持续作业,提升装置的稼动率。
  • 装置及其控制方法

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