专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硅片背面清洗装置-CN201410366363.7在审
  • 吴均;王家毅;金一诺;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2014-07-29 - 2016-02-03 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种硅片背面清洗装置,可以从硅片的背面清洗和干燥硅片,而且可以在同一操作中同时实施对不同尺寸的硅片的清洗和干燥。其技术方案为:硅片背面清洗装置包括:圆环形喷头支架,位于放置了硅片的基板承载盘的外围;多个清洗喷头,对硅片背面进行清洗,分布于圆环形喷头支架的上方和下方,分为两组,其中一组安装在圆环形喷头支架的外圈,另一组安装在圆环形喷头支架的内圈;多个气体喷头,对清洗后的硅片背面进行干燥处理,分为两组,其中一组安装在圆环形喷头支架的外圈,另一组安装在圆环形喷头支架的内圈。
  • 硅片背面清洗装置
  • [发明专利]硅片背面清洗方法-CN202310936199.8在审
  • 冯异 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2023-07-27 - 2023-09-08 - H01L21/02
  • 本发明提供了一种硅片背面清洗方法,属于半导体工艺制造技术领域,具体包括步骤一,采用氨水、双氧水和纯水的混合液对待清洗的硅片清洗2~5分钟,所述氨水:双氧水:纯水的体积比为1~2:1~2:5~10;再用去离子水洗去所述混合液通过本申请的处理方案,可以有效去除硅片背面的有机沾污,并且不会影响硅片表面的性能和品质的硅片。
  • 硅片背面清洗方法
  • [发明专利]背面投影型屏幕-CN00104709.4无效
  • 小林秀树 - 可乐丽股份有限公司
  • 2000-03-23 - 2000-09-27 - G03B21/60
  • 设在菲涅尔透镜片1中的菲涅尔透镜的透镜间距在0.12mm以下,设在双凸透镜片2中的双凸透镜的透镜间距在0.6mm以下,在上述菲涅尔透镜的透镜间距和双凸透镜的透镜间距中,当将较小的透镜间距用P1(mm)、较大的透镜间距用P2(mm)表示时,对于3/P1以上的空间频率,由式(1)PM=1/|n/P1-m/P2|(这里,n和m分别是满足式(2)∶n≤15×P1/P2和式(3)∶m≤15×P2/P1的自然数)求得的在菲涅尔透镜和双凸透镜间发生的莫尔条纹间距PM(mm)在3mm以下。
  • 背面投影屏幕
  • [发明专利]背面投影机-CN200510135085.5无效
  • 加藤茂树;南云俊彦 - 精工爱普生株式会社
  • 2005-12-23 - 2006-08-02 - G03B21/14
  • 提供防止图像劣化并可以有效地冷却密闭空间内的冷却对象的背面投影机。背面投影机(1)具有包括光源、根据图像信息调制来自该光源的光束而形成图像的光调制装置和放大投射形成图像的投射光学装置的图像形成装置、反射从投射光学装置射出的光束的反射镜(2A)、投影反射的光束的屏幕(2B
  • 背面投影机
  • [实用新型]C型背面-CN201520265676.3有效
  • 李钰;危民喜;李宝东;穆新;赵江涛 - 辽宁渤海防腐工程有限公司
  • 2015-04-29 - 2015-10-07 - E04C2/34
  • 本实用新型涉及一种C型背面板,C型背面镀锌板与C型镀锌钢板组合连接成矩形,C型镀锌钢板的凹槽尺寸大于C型背面镀锌板的凹槽尺寸,C型背面镀锌板与C型镀锌钢板组合连接的矩形空腔内固定连接有芯材,芯材呈蛇形分布采用全折弯工序,通过芯材粘接胶、PVC膜和镀锌钢板固定连接成背面板,不但重量轻,隔音好,吸音效果及密封性能都得到提高。
  • 面板

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