专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硅纳米线的制作方法-CN201610613954.9在审
  • 王勇;王瑛;丁超 - 东莞华南设计创新院;广东工业大学
  • 2016-07-29 - 2016-12-14 - H01L21/205
  • 本发明公布了一种硅纳米线的方法。其步骤如下:(1)准备一基半导体衬底作为基片;(2)在该基片上生长40纳米的P型掺杂的硅半导体沟道层A;(3)在该基片上生长40纳米厚的P型掺杂的材料牺牲层B;(4)在该基片上生长的40纳米的P型掺杂的硅半导体沟道层C;(5)在该基片上生长40纳米厚的P型掺杂的材料牺牲层D;(6)在该基片上生长40纳米氮化硅介质层;(7)在该基片上采用电子束光刻与剥离的方法沉积40纳米宽的金属铂;(8)利用金属铂为掩膜,采用ICP刻蚀的方法,刻蚀氮化硅掩膜层、牺牲层B、硅沟道层B、牺牲层A、硅沟道层A和衬底;(9)去除金属铂;(10)采用选择性腐蚀的方法腐蚀牺牲层;(11)去除氮化硅掩膜层,形成双层硅纳米线。
  • 一种纳米制作方法
  • [发明专利]基于纳米片的甲酸气体传感器和应用-CN202011186165.4在审
  • 许翡翠 - 深圳瀚光科技有限公司
  • 2020-10-30 - 2021-02-02 - G01N27/30
  • 本发明提供了一种基于纳米片的甲酸气体传感器,包括绝缘基底以及设置于所述绝缘基底上的纳米片层和对电极,所述对电极设置于纳米片层的两端,且所述对电极设置成通过纳米片层电导通。本发明基于纳米片的甲酸气体传感器具有特异性强,仅能与甲酸气体相互作用并引起纳米片层的电阻值变化,对其它气体不起作用。本发明基于纳米片的甲酸气体传感器还具有检测限高的优点,对于ppm级别极低浓度甲酸气体即可引起纳米片层的电阻值变化。本发明基于纳米片的甲酸气体传感器还具有成本低、检测速度快等优点。本发明还提供了基于纳米片的甲酸气体传感器在甲酸气体检测上的应用。
  • 基于纳米甲酸气体传感器应用
  • [发明专利]一种酸钙纳米片的制备方法-CN201610300899.8有效
  • 赵九蓬;刘旭松;李垚 - 哈尔滨工业大学
  • 2016-05-09 - 2017-05-03 - C01G17/00
  • 一种酸钙纳米片的制备方法,本发明涉及酸钙纳米片的制备方法。本发明要解决目前酸钙纳米材料的制备工艺复杂,不可控制,产量少,产物纯度低且无法实现纳米片结构制备的技术问题。方法一、处理泡沫金属基板;二、制备水热前驱液;三、水热合成酸钙纳米片;四、处理酸钙纳米片。本发明用水热合成的方法,首次制备出比表面积比纳米线大的纳米片结构,将在纳米光学器件、电子器件、电化学传感器件、晶体管等方面具有很好的应用前景,酸钙纳米片结构,填补了国际上酸钙纳米片制备的空白,对实现工业化生产有着重要的指导性作用本发明用于制备一种酸钙纳米片。
  • 一种锗酸钙纳米制备方法
  • [发明专利]高密度纳米线的制备方法-CN201811245546.8有效
  • 狄增峰;杨悦昆;薛忠营;张苗 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2018-10-24 - 2020-10-20 - C23C16/26
  • 本发明提供一种高密度纳米线的制备方法,包括如下步骤:1)提供一衬底,衬底包括相对的第一表面及第二表面;2)于衬底的第一表面生长石墨烯;3)于衬底的第一表面形成铟催化剂层,且铟催化剂层至少覆盖石墨烯;4)于铟催化剂层远离衬底的表面生长纳米线。本发明无需采用电子束蒸发的方式沉积金属,大大简化了纳米线制备的工艺流程,并降低成本,非常适合于大规模低成本的纳米线的制备;本发明采用铟作为催化剂生长的纳米线具有较高的长宽比,同时具有较高的表面密度,这些特点使得该方法更便于纳米线的转移与应用,从而为基于四族纳米线的器件制备奠定工艺基础;同时,本发明制备的纳米线具有很好的稳定性和重复性。
  • 高密度纳米制备方法
  • [发明专利]纳米点/硅纳米线阵列结构薄膜及其制备方法-CN200910024599.1有效
  • 叶敏华;施毅;濮林;徐子敬;张荣;郑有炓 - 施毅
  • 2009-02-23 - 2009-07-22 - B82B1/00
  • 本发明的纳米点/硅纳米线阵列结构薄膜主要由硅纳米线阵列和纳米点组成,所述纳米点分布在硅纳米线阵列的硅纳米线上。其制备方法主要包括:利用P型或N型单晶硅,多晶硅做原始材料,利用刻蚀法制备大面积硅纳米线阵列。然后使用低压化学气相沉积技术,使用烷为气源,在大面积硅纳米线阵列衬底上制备点。是一种纳米点层数多、光效率高的大规模纳米点/硅纳米线阵列结构薄膜产品,特别有利于进一步生产高效的光电子器件。其生产方法还具有生产设备成本低、生产效率高,产品成本可大幅度降低等优点,易于和现有的硅薄膜器件工艺结合,是生产纳米点/硅纳米线阵列结构薄膜的一种优选方法。
  • 纳米阵列结构薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种电泳-电沉积制备碳/叠层复合负极材料的方法-CN201410226638.7有效
  • 赵九蓬;李垚;张译文;郝健 - 哈尔滨工业大学
  • 2014-05-27 - 2017-01-11 - H01M4/36
  • 本发明公开了一种电泳‑电沉积制备碳/叠层复合负极材料的方法。本发明的制备方法如下:先将乙炔黑或碳纳米管做前处理然后电泳在铜箔上形成碳薄膜,配制含有的离子液体电解液,在手套箱内完成在碳薄膜上沉积稳定性较好的纳米颗粒薄膜,然后吸去多余的离子液体,反复清洗沉积物并进行干燥处理碳/复合负极材料,然后重复交替沉积制备乙炔黑或碳纳米管碳薄膜和纳米颗粒薄膜即可以得到碳/叠层复合负极材料。本发明选用乙炔黑或碳纳米管与纳米颗粒薄膜复合,碳/叠层复合负极材料的制备成功的在室温下将碳薄膜材料与纳米颗粒薄膜复合在一起,制备出叠层结构且性能良好的碳/复合负极材料。
  • 一种电泳沉积制备锗叠层复合负极材料方法

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