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[发明专利]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头-CN202010361456.6在审
发明人：丁雪苗;赵芝强;赵公魄 -专利权人：珠海宝丰堂电子科技有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。
等离子镀膜设备喷头

[实用新型]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头-CN202020719004.6有效
发明人：丁雪苗;赵芝强;赵公魄 -专利权人：珠海宝丰堂电子科技有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。
等离子镀膜设备喷头

[实用新型]一种等离子镀膜机用装卸夹具-CN202022941151.0有效
发明人：韩红旗 -专利权人：禾信天成科技（天津）有限公司
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及等离子镀膜机技术领域，尤其为一种等离子镀膜机用装卸夹具，包括等离子镀膜机，所述等离子镀膜机的底端卡合有下卡块，所述等离子镀膜机的顶端卡合有上卡块，所述等离子镀膜机的左右两侧均固定连接有固定块，所述固定块的顶端固定连接有绳索，所述绳索的另一端固定连接有钩环，本实用新型中，通过设置的钩环、绳索、上卡块、固定架、支撑座、手轮、限位块和限位辊，通过上卡块以及下卡块可快速实现对等离子镀膜机的八个角进行快速固定，操作简单，提高了工作的效率，且工作人员可以根据等离子镀膜机的高度对上卡块的位置进行调节，从而提高了本装置的适用性，且通过限位块的作用可对上卡块的位置进行限定，保证工作时的稳定性。
一种等离子镀膜装卸夹具

[实用新型]一种镀膜等离子体处理装置-CN202220291952.3有效
发明人：刘琰 -专利权人：无锡展硕科技有限公司
申请日： 2022-02-14 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜等离子体处理装置，其技术方案要点是：包括等离子镀膜箱，所述等离子镀膜箱的一侧设有真空泵，所述等离子镀膜箱的内部设有镀膜室和调节室；所述镀膜室和所述调节室通过隔板进行隔离，所述镀膜室的两侧壁上固定设有屏蔽层，所述镀膜室的上端固定安装有正电极板，所述镀膜室的下端固定安装有负电极板；所述调节室的内部设有调节伺服电缸，所述调节伺服电缸的输出端连接有夹具。本实用新型通过将等离子镀膜箱分割成调节室和镀膜室，使得待镀工件可以在电镀的时候能够实现选择性和调节角度进行电镀。
一种镀膜等离子体处理装置

[实用新型]一种新型的阴极电弧离子镀膜装置-CN01219841.2无效
发明人：王殿儒;张金平;程云立;王百湘 -专利权人：北京长城钛金公司
申请日： 2001-04-20 - 公布日： 2002-12-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种新型的阴极电弧离子镀膜装置，属于等离子体加速器型离子镀膜技术，本装置是扫描式离子镀膜装置，由上料真空室、真空镀膜室、下料真空室、阴极电弧蒸发离化源、等离子体加速区，所述真空镀膜室置于上料真空室与下料真空室之间，中间由左真空锁、右真空锁相隔开，置于真空镀膜室中的阴极电弧蒸发离化源为圆形、矩形、圆柱形中的任何一种，等离子体加速区与真空镀膜室相通，阴极电弧蒸发离化源置于等离子体加速区的端部。
一种新型阴极电弧离子镀膜装置

[发明专利]等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置-CN202011156984.4在审
发明人：吕尚亿;丁雪苗;赵公魄;赵芝强 -专利权人：珠海宝丰堂电子科技有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置，包括：等离子喷头，等离子喷头的内部形成有电离腔，等离子喷头设有进液通道；等离子电极，等离子电极设置于电离腔的内壁上，且等离子电极开设有汽化通道，汽化通道分别与进液通道和电离腔连通；以及等离子喷嘴，等离子喷嘴安装于等离子喷头上。开启等离子激励电源为等离子电极供电，等离子电极开始放电电离并产生高温(一般可达90摄氏度以上)，产生的高温能够将流经汽化通道的镀膜药液充分且完全汽化(镀膜药液的汽化温度一般在70到80摄氏度之间)，保证最终从等离子喷嘴喷射出的等离子体中不会夹杂镀膜药液，从而确保了对镀膜对象的镀膜质量，以及产品的最终成品品质高。
等离子镀膜执行终端装置

[实用新型]等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置-CN202022401522.6有效
发明人：吕尚亿;丁雪苗;赵公魄;赵芝强 -专利权人：珠海宝丰堂电子科技有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置，包括：等离子喷头，等离子喷头的内部形成有电离腔，等离子喷头设有进液通道；等离子电极，等离子电极设置于电离腔的内壁上，且等离子电极开设有汽化通道，汽化通道分别与进液通道和电离腔连通；以及等离子喷嘴，等离子喷嘴安装于等离子喷头上。开启等离子激励电源为等离子电极供电，等离子电极开始放电电离并产生高温(一般可达90摄氏度以上)，产生的高温能够将流经汽化通道的镀膜药液充分且完全汽化(镀膜药液的汽化温度一般在70到80摄氏度之间)，保证最终从等离子喷嘴喷射出的等离子体中不会夹杂镀膜药液，从而确保了对镀膜对象的镀膜质量，以及产品的最终成品品质高。
等离子镀膜执行终端装置

[发明专利]用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置-CN201010244664.4有效
发明人：赵彦辉;肖金泉;杜昊;华伟刚;于宝海;宫骏;孙超 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2010-08-04 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于材料表面改性领域，涉及一种用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置。通过在电弧离子镀过程中采用磁场约束和控制等离子体束流运动轨迹，在电弧离子镀沉积装置中设置两套磁场发生装置，一套放在真空室外的等离子体传输通道上，即用磁场对等离子体束流进行聚焦，约束等离子体束流传输时的横截面直径和传输效率，另一套放置于真空室内的管状工件外侧，引导等离子体束流沿着管状工件中心轴向方向扩散；在电弧离子镀中利用电场增强是用电场对等离子体实现加速定向流动，在工件内部设置脉冲电场；利用磁场和电场对等离子体束流的约束和控制，实现等离子体在管内壁沉积薄膜，适用于作为服役表面的管状工件的内壁表面镀膜。
用于内壁镀膜磁场电场增强电弧离子装置

[实用新型]一种镀膜自动生产线-CN201721826616.X有效
发明人：卢中用 -专利权人：东莞市蒂造自动化科技有限公司
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本实用新型一种镀膜自动生产线，用于电子产品触摸屏玻璃镀膜生产，包括有等离子镀膜设备、烘烤设备、退镀设备及清洗设备，所述等离子镀膜设备、烘烤设备、退镀设备、清洗设备通过传送机构依次连接，所述等离子镀膜设备用于触摸屏玻璃的正面镀膜
退镀等离子镀膜自动生产线烘烤设备清洗设备镀膜触摸屏玻璃本实用新型玻璃表面传送机构镀膜生产高温固化生产效率依次连接玻璃膜油污电子产品去除

[发明专利]测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的方法-CN201710616084.5有效
发明人：赵栋烨;牟宗信;王奇;丁洪斌 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的方法。该方法基于激光诱导击穿光谱技术结合激光诱导荧光技术测量真空离子镀膜技术及等离子体喷涂镀膜技术的沉积膜厚膜厚与均匀性。该发明是一种微损接近无损的检测方法，能够实现对镀膜样品膜厚10nm量级测量，镀膜表面均匀性μm量级分辨测量。尤其是该方法还是一种可以实时、原位、在线、无接触与主动式的测量方法，且不会对镀膜过程有干扰，易于操作，实时分析。本发明主要用于真空离子镀，比如真空离子镀物理、化学气相沉积、等离子体喷涂等领域，不排除应用于其它的、具有相近技术特征的薄膜或者涂层沉积技术领域。
测量真空离子镀等离子体喷涂镀膜均匀方法

[实用新型]电弧离子镀膜装置-CN201020281150.1无效
发明人：赵彦辉;肖金泉;杜昊;华伟刚;于宝海;宫骏;孙超 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2010-08-04 - 公布日： 2011-03-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型属于材料表面改性领域，涉及一种用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置。通过在电弧离子镀过程中采用磁场约束和控制等离子体束流运动轨迹，在电弧离子镀沉积装置中设置两套磁场发生装置，一套放在真空室外的等离子体传输通道上，即用磁场对等离子体束流进行聚焦，约束等离子体束流传输时的横截面直径和传输效率，另一套放置于真空室内的管状工件外侧，引导等离子体束流沿着管状工件中心轴向方向扩散；在电弧离子镀中利用电场增强是用电场对等离子体实现加速定向流动，在工件内部设置脉冲电场；利用磁场和电场对等离子体束流的约束和控制，实现等离子体在管内壁沉积薄膜，适用于作为服役表面的管状工件的内壁表面镀膜。
电弧离子镀膜装置

[发明专利]常压等离子镀膜装置-CN201710161397.6有效
发明人：王齐中;徐逸明 -专利权人：馗鼎奈米科技股份有限公司
申请日： 2017-03-17 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下，且配置以喷射等离子。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴，且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物，以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计，搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力，可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度，提升镀膜品质，更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。
常压等离子镀膜装置

[发明专利]一种用于双极板材料表面的镀膜工艺-CN202210592490.3在审
发明人：李长栋;魏承亚;柴保冬 -专利权人：山东沐东真空科技有限公司
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及双极板表面镀膜技术领域，具体地说就是一种用于双极板材料表面的镀膜工艺。一种用于双极板材料表面的镀膜工艺，包括如下步骤：(1)双极板材料预处理：对双极板材料进行预热除气，然后进行等离子清洗；(2)双极板材料表面镀膜：采用电弧离子镀膜方法对双极板材料表面进行镀膜。本申请中电弧离子真空镀膜机上设置加热装置、电弧离子镀膜模块，使得双极板材料的预处理、电弧离子镀膜可以在同一真空腔体内依次进行，其一方面提高了生产效率，另一方面也提高了镀膜的质量。双极板材料经过预热和等离子清洗，可以增强电弧离子镀膜后其膜层与双极板材料基体的结合力。
一种用于极板材料表面镀膜工艺

[发明专利]电弧离子镀膜装置-CN202010922316.1在审
发明人：刘威;冯森;蹤雪梅 -专利权人：江苏徐工工程机械研究院有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及电弧离子镀技术领域，特别涉及一种电弧离子镀膜装置。本发明的电弧离子镀膜装置，包括：基体支架，用于支撑基体；电弧源，包括阴极靶，阴极靶用于释放等离子体，以为基体镀膜；和辅助阳极，设置于阴极靶与基体支架之间，辅助阳极内设有允许阴极靶所释放等离子体通过的通道
电弧离子镀膜装置

[实用新型]电弧离子镀膜装置-CN202021927238.6有效
发明人：刘威;冯森;蹤雪梅 -专利权人：江苏徐工工程机械研究院有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及电弧离子镀技术领域，特别涉及一种电弧离子镀膜装置。本实用新型的电弧离子镀膜装置，包括：基体支架，用于支撑基体；电弧源，包括阴极靶，阴极靶用于释放等离子体，以为基体镀膜；和辅助阳极，设置于阴极靶与基体支架之间，辅助阳极内设有允许阴极靶所释放等离子体通过的通道
电弧离子镀膜装置

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