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- [发明专利]去胶装置-CN202310712418.4在审
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丁雪苗;赵公魄;赵芝强
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珠海宝丰堂半导体股份有限公司
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2023-06-15
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2023-09-01
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H01L21/67
- 本申请涉及一种去胶装置，包括去胶工作台的内部形成有去胶工作腔，去胶工作腔内用于容置待去胶的芯片；控制器；去胶执行设备装设在去胶工作台上并能够向去胶工作腔内输出去胶光束，去胶执行设备与控制器电性连接；测厚发射设备装设在去胶工作台上，测厚发射设备用于向芯片发生测厚光线；以及测厚接收设备装设在去胶工作台上，测厚接收设备用于接收由芯片反射而来的测厚光线，测厚发射设备和测厚接收设备分别与控制器电性连接。本方案的去胶装置工作全程无需人力干预，能有效提升去胶作业效率和芯片厚度测量效率，且可保证测厚精准度，保证芯片安全的同时使光刻胶去除干净彻底，避免对芯片后续工序流程的加工质量造成影响。
- 装置
- [实用新型]等离子处理装置-CN202320416815.2有效
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丁雪苗;赵公魄;赵芝强
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珠海宝丰堂半导体股份有限公司
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2023-03-07
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2023-08-22
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H01J37/32
- 本实用新型提供一种等离子处理装置，包括等离子件、安装机构及驱动机构。其中，等离子件包括正电极、负电极及设有真空腔的装置本体，正电极与负电极间隔设置于真空腔的两侧，以使正电极与负电极能够配合形成等离子体发生结构；安装机构设置于真空腔内，且安装机构位于正电极与负电极之间；驱动机构与安装机构及等离子体发生结构中的至少一个传动连接，以使安装机构能够相对于等离子体发生结构沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。本申请中的等离子处理装置在等离子体对电路板进行除胶等处理时，安装机构上的电路板能够沿切割电场方向往复移动，使得等离子体在电路板上分布的更加均匀，提高了等离子处理装置处理的均匀性。
- 等离子处理装置
- [发明专利]等离子处理装置-CN202310214349.4在审
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丁雪苗;赵公魄;赵芝强
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珠海宝丰堂半导体股份有限公司
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2023-03-07
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2023-07-04
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H01J37/32
- 本发明提供一种等离子处理装置，包括等离子件、安装机构及驱动机构。其中，等离子件包括正电极、负电极及设有真空腔的装置本体，正电极与负电极间隔设置于真空腔的两侧，以使正电极与负电极能够配合形成等离子体发生结构；安装机构设置于真空腔内，且安装机构位于正电极与负电极之间；驱动机构与安装机构及等离子体发生结构中的至少一个传动连接，以使安装机构能够相对于等离子体发生结构沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。本申请中的等离子处理装置在等离子体对电路板进行除胶等处理时，安装机构上的电路板能够沿切割电场方向往复移动，使得等离子体在电路板上分布的更加均匀，提高了等离子处理装置处理的均匀性。
- 等离子处理装置
- [实用新型]等离子设备-CN202122533940.5有效
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吕尚亿;梁冠雄;丁雪苗;赵芝强;赵公魄
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2021-10-20
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2022-05-10
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B01D53/32
- 本实用新型涉及一种等离子设备，等离子设备包括等离子发生组件、气流引导结构及进气组件，等离子发生组件包括两个等离子电极。两个间隔设置的等离子电极形成等离子腔，以使等离子腔能够形成等离子场。当进气组件通过进气口进气至等离子腔内，实现气体在等离子腔内的电离，形成等离子气体。由于气流引导结构设置于进气口处，气流引导结构上的分流孔与等离子腔连通，进而进气组件通过气流引导结构进气至等离子腔内时，需要经过分流孔的引流。利用气流引导结构上的分流孔，实现对进气组件喷出的气流的引导引流作用，进而便于使得气流通过分流孔后能够更加均匀地分布于等离子腔内，提高等离子体的产生效率，进而提高等离子体处理的效率。
- 等离子设备
- [发明专利]等离子设备-CN202111220975.1在审
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吕尚亿;梁冠雄;丁雪苗;赵芝强;赵公魄
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2021-10-20
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2021-12-17
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B01D53/32
- 本发明涉及一种等离子设备，等离子设备包括等离子发生组件、气流引导结构及进气组件，等离子发生组件包括两个等离子电极。两个间隔设置的等离子电极形成等离子腔，以使等离子腔能够形成等离子场。当进气组件通过进气口进气至等离子腔内，实现气体在等离子腔内的电离，形成等离子气体。由于气流引导结构设置于进气口处，气流引导结构上的分流孔与等离子腔连通，进而进气组件通过气流引导结构进气至等离子腔内时，需要经过分流孔的引流。利用气流引导结构上的分流孔，实现对进气组件喷出的气流的引导引流作用，进而便于使得气流通过分流孔后能够更加均匀地分布于等离子腔内，提高等离子体的产生效率，进而提高等离子体处理的效率。
- 等离子设备
- [实用新型]等离子蚀刻装置及等离子蚀刻系统-CN202021897995.3有效
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丁雪苗;赵公魄;赵芝强
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2020-09-03
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2021-02-09
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H01L21/67
- 本实用新型涉及一种等离子蚀刻装置及等离子蚀刻系统，包括：等离子蚀刻箱，所述等离子蚀刻箱的内部形成有等离子蚀刻腔；加热保温组件，所述加热保温组件设置于所述等离子蚀刻腔的内壁上；及控制器，所述加热保温组件与所述控制器电性连接。因而即便当等离子蚀刻装置停机后的几个小时内，由于控制器可控制加热保温组件通电产热，可使等离子蚀刻腔处于保温状态(通常可维持腔内温度达到80°甚至更高)，如此一来就可以很好的避免因温度骤降，导致等离子反应气体中的氟化物和高分子胶发生沉积现象而堆积附着在腔体内壁上，进而吸收通入等离子蚀刻腔内的大部分等离子气体和能量，造成蚀刻量下降50％以上，并最终影响对产品的蚀刻加工效率。
- 等离子蚀刻装置系统
- [实用新型]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头-CN202020719004.6有效
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丁雪苗;赵芝强;赵公魄
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2020-04-30
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2021-01-15
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C23C14/32
- 本实用新型涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。
- 等离子镀膜设备喷头
- [实用新型]粉尘清理机构及等离子蚀刻装置-CN202020097948.4有效
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丁雪苗;赵公魄
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2020-01-16
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2020-11-10
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B29C59/14
- 本实用新型公开了一种粉尘清理机构，包括：除粉腔室，用于放置工件，工件在除粉腔室内静止放置或者相对除粉腔室沿第一水平方向移动；毛刷组件，安装于除粉腔室内，与工件的表面接触，可相对工件沿第一水平方向往复移动；吹气口，设置于除粉腔室内，朝向工件的表面吹气；吸尘器，与除粉腔室相连通。本实用新型还公开了一种等离子蚀刻装置，包括蚀刻腔室以及粉尘清理机构，活动闸板可分隔或连通蚀刻腔室和除粉腔室。本粉尘清理装置通过毛刷组件与工件的表面接触，并相对往复移动以将工件表面的粉尘清扫，结合吹气口朝向工件的表面吹气，从而将粉尘扬起，使脱离工件表面的粉尘能够被吸尘器吸走，从而有效地清理掉工件表面的残留粉尘，提高蚀刻效率。
- 粉尘清理机构等离子蚀刻装置
- [发明专利]等离子蚀刻装置及等离子蚀刻系统-CN202010914063.3在审
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丁雪苗;赵公魄;赵芝强
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2020-09-03
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2020-11-06
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H01L21/67
- 本发明涉及一种等离子蚀刻装置及等离子蚀刻系统，包括：等离子蚀刻箱，所述等离子蚀刻箱的内部形成有等离子蚀刻腔；加热保温组件，所述加热保温组件设置于所述等离子蚀刻腔的内壁上；及控制器，所述加热保温组件与所述控制器电性连接。因而即便当等离子蚀刻装置停机后的几个小时内，由于控制器可控制加热保温组件通电产热，可使等离子蚀刻腔处于保温状态(通常可维持腔内温度达到80°甚至更高)，如此一来就可以很好的避免因温度骤降，导致等离子反应气体中的氟化物和高分子胶发生沉积现象而堆积附着在腔体内壁上，进而吸收通入等离子蚀刻腔内的大部分等离子气体和能量，造成蚀刻量下降50％以上，并最终影响对产品的蚀刻加工效率。
- 等离子蚀刻装置系统
- [发明专利]等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头-CN202010361456.6在审
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丁雪苗;赵芝强;赵公魄
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2020-04-30
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2020-07-03
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C23C14/32
- 本发明涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。
- 等离子镀膜设备喷头
- [发明专利]等离子蚀刻的自动除粉装置及方法-CN202010045534.1在审
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丁雪苗;赵公魄
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珠海宝丰堂电子科技有限公司
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2020-01-16
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2020-05-12
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B29C59/14
- 本发明公开了一种等离子蚀刻的自动除粉装置，包括：蚀刻腔室，沿第一水平方向排列有多根用于输送基板的传动辊；除粉腔室，沿第一水平方向排列有多根用于输送基板的传动辊；活动闸板，设置于蚀刻腔室和除粉腔室之间，可隔离或连通蚀刻腔室和除粉腔室；毛刷组件，安装于除粉腔室内，与基板的表面接触，可相对基板沿第一水平方向往复移动；吹气口，设置于除粉腔室内，朝向基板的表面吹气；吸尘器，与除粉腔室相连通。本发明还公开了一种等离子蚀刻的自动除粉方法。在正常蚀刻作业时，打开活动闸板可连通蚀刻腔室和除粉腔室，将基板通过传动辊从蚀刻腔室输送到除粉腔室内，清理掉基板表面的残留粉尘，然后再将基板转移回蚀刻腔室，提高蚀刻效率。
- 等离子蚀刻自动装置方法
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