专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁控增强等离子抛光装置-CN202310713225.0有效
  • 袁刚俊;苏兆鸣 - 通威微电子有限公司
  • 2023-06-16 - 2023-08-25 - H01J37/30
  • 本发明提供一种磁控增强等离子抛光装置,涉及抛光设备技术领域。磁控增强等离子抛光装置包括真空腔体、进气管、导电管、喷头、载台和外部电源;真空腔体的顶壁上设置有进气管,进气管用于向真空腔体内通入刻蚀气体,真空腔体的底壁上设置有导电管;喷头设置在真空腔体内、且与进气管连通;载台设置在真空腔体内,载台上用于承载待抛光的基材,载台内设置有磁体;载台与导电管连接,导电管和喷头用于连接外部电源,载台与喷头之间形成具有电场的电离区,喷头喷出的刻蚀气体在电离区形成等离子等离子在电离区内受到方向不同的磁力与电磁力磁控增强等离子抛光装置能够高效、高质量、低成本地对基材进行抛光。
  • 增强等离子抛光装置
  • [实用新型]一种激光诱导等离子体光谱增强装置-CN201520620671.8有效
  • 阳建宏;曹康;徐金梧;杨德斌;黎敏;孟凡星;李晓萌 - 北京科技大学
  • 2015-08-17 - 2015-12-23 - G01N21/63
  • 本实用新型提供一种激光诱导等离子体光谱增强装置,属于激光等离子体光谱检测领域。该装置包括发散腔、聚焦透镜、汇聚腔、光纤探头、底座、可调样品台、等离子体、惰性气体接口和激光滤波片,发散腔、聚焦透镜、底座和激光滤波片构成封闭空间,惰性气体接口接在发散腔上,样品放在可调样品台上,可调样品台安装在底座上,聚焦透镜另一侧为汇聚腔,光纤探头在汇聚腔上,等离子体为激光激发样品产生。该装置与脉冲激光器、光路系统、光谱仪、惰性气体保护系统共同实现激光诱导击穿光谱技术的光谱增强。该装置增强等离子体光谱,减弱了背景光干扰,结构简单,成本低,无需消耗其他形式的能源,操作简便。
  • 一种激光诱导等离子体光谱增强装置
  • [发明专利]一种拉曼增强衬底的制作方法-CN201610533715.2有效
  • 魏大程;刘冬华;王振;李孟林 - 复旦大学
  • 2016-09-18 - 2019-10-15 - G01N21/65
  • 本发明为一种拉曼增强衬底的制作方法。本发明将基底(无机衬底)放入等离子体化学气相沉积系统中的生长区域,通入含有碳元素的反应源气体,控制反应源气体的气压值为0.01Torr‑760Torr;控制基底温度在300‑1200℃,开等离子体电源,设定等离子体功率为1‑1000W,使反应源气体分子裂解,活性基团在等离子体的作用下发生反应,在基底表面,生成石墨烯量子点,通过调控生长温度和生长时间,制备不同尺寸的石墨烯量子点拉曼增强衬底。在所制备的拉曼增强衬底表面滴需要检测分子的溶液,通过激光拉曼仪器,测得高灵敏的拉曼增强信号。本发明制备的拉曼增强衬底,无污染,灵敏度高,可大面积制备,制备步骤简单容易实现。
  • 一种增强衬底制作方法
  • [发明专利]等离子增强化学气相沉积设备-CN202310664937.8在审
  • 欧阳亮 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-06-06 - 2023-08-04 - C23C16/509
  • 本发明提供等离子增强化学气相沉积设备。所述等离子增强化学气相沉积设备包括腔体、位于腔体外且用于产生激发等离子体的射频信号的射频电源、位于腔体内且位于进气口下方且用于均匀从进气口进入腔体的反应气体的布气板组件、位于布气板组件的下方且其底面为朝上凹陷的曲面的上电极、悬挂于所述上电极的下方的电介质层以及位于腔体底部且接地并与上电极相对设置的下电极;电介质层的顶面中部针对上电极凹陷的曲面设置有凸起,所述凸起使得上电极与电介质层之间的间距小于能够产生次生等离子体的预定间距本发明能阻止在上电极与电介质层之间产生次生等离子体,从而保证等离子体在电介质层下方的等离子体腔体中产生。
  • 等离子体增强化学沉积设备
  • [实用新型]一种等离子喷涂沉积效率增强装置-CN202223163487.4有效
  • 葛建国 - 常州瑞赛激光技术有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-05-23 - C23C4/134
  • 本实用新型提供了一种等离子喷涂沉积效率增强装置,涉及等离子热喷涂技术领域,以解决现有技术中等离子喷涂喷头喷射的粉末在零件上沉积效率低的问题,该等离子喷涂沉积效率增强装置包括连接件(2)和加热筒(1),加热筒(1)由其一端向其另一端直径逐渐增加,连接件(1)的一端与加热筒(1)的小口径一端连接且另一端与等离子喷枪(3)的喷口连接,由等离子喷枪(3)的喷口喷出的喷涂材料穿过加热筒(1)至基体(4)表面上。等离子喷枪的喷口喷出的喷涂材料穿过加热筒至基体表面上,喷涂材料在穿过加热筒的过程中被加热筒加热,使喷涂材料喷出后保持熔融状态,在到达基体表面时喷涂材料仍保持较高的温度,提高粉末的沉积效率。
  • 一种等离子喷涂沉积效率增强装置

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