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[发明专利]一种基于等离子体吸收增强的激光与物质作用加强方法-CN202310221163.1在审
发明人：李欣;朱虹;卞进田;谢运涛;豆贤安;王玺;孔辉 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了激光技术领域的一种基于等离子体吸收增强的激光与物质作用加强方法，通过等离子体波导靶PW增强激光脉冲驱动离子加速；等离子体波导靶PW由后置塑料CH平板靶的空心圆柱形金属通道组成；激光脉冲与等离子体波导靶PW的相互作用包括以下步骤：步骤一，选择归一化振幅的激光脉冲；步骤二，激光与等离子通道壁相互作用，从等离子通道壁中拉出的电子组成螺旋电子束；步骤三，螺旋电子束被锁相到TM模式纵向电场的负电场区域，在CH利用激光能量的径向电磁场可利用电子束从通道壁中提取和加速电子，改善激光到目标的能量传递；实现最佳的离子加速度，由此增强激光驱动等离子加速的能量转换效率η，从而增强激光与物质作用。
一种基于等离子体吸收增强激光物质作用加强方法

[发明专利]一种增强激光诱导击穿光谱信号的方法及装置-CN201810159770.9在审
发明人：杨燕婷;温煦;段忆翔 -专利权人：成都艾立本科技有限公司
申请日： 2018-02-26 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： G01N21/71 文献下载
摘要：本发明公开一种增强激光诱导击穿光谱信号的方法及装置，包括：将脉冲激光垂直作用于样品表面，在所述样品表面产生激光聚焦点,并产生等离子体光谱信号；将微等离子体火焰直接作用于所述激光聚焦点，产生增强后的等离子体光谱信号；采集所述增强后的等离子体光谱信号，获取增强的激光诱导击穿光谱信号。本发明提供的技术方案简单实用、成本低，能够有效地增强LIBS的光谱信号以提高LIBS的检测灵敏度。
等离子体光谱信号激光诱导击穿光谱激光聚焦样品表面检测灵敏度微等离子体垂直作用光谱信号脉冲激光有效地采集

[发明专利]等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法-CN201510505383.2有效
发明人： P·马诗威茨 -专利权人：北美AGC平板玻璃公司;旭硝子株式会社;AGC玻璃欧洲公司
申请日： 2009-08-04 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法，即提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
等离子体增强化学沉积薄膜涂层方法

[发明专利]等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法-CN201510505381.3有效
发明人： P·马诗威茨 -专利权人：北美AGC平板玻璃公司;AGC株式会社;AGC玻璃欧洲公司
申请日： 2009-08-04 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法，即提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
等离子体增强化学沉积薄膜涂层方法

[发明专利]等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法-CN201510505370.5有效
发明人： P·马诗威茨 -专利权人：北美AGC平板玻璃公司;AGC株式会社;AGC玻璃欧洲公司
申请日： 2009-08-04 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法，即提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
等离子体增强化学沉积薄膜涂层方法

[发明专利]一种射频等离子体增强化学气相沉积方法及装置-CN201710208039.6有效
发明人：邵国胜 -专利权人：郑州新世纪材料基因组工程研究院有限公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： C23C16/507 文献下载
摘要：本发明涉及一种射频等离子体增强化学气相沉积方法及装置。该方法包括以下步骤：对镀膜室进行抽真空，由等离子体产生室通入反应气体，开启与射频天线连接的射频源以激发反应气体等离子化，在镀膜室上相对等离子体发生室的一侧设置有用于约束等离子体流沿径向扩散的终端磁体，设定终端磁体的磁感应强度大于源磁体的磁感应强度该射频等离子体增强化学气相沉积方法利用源磁体和终端磁体的协同作用，对进入镀膜室的等离子体束流进行限场和分布调控，使等离子束流达到远程稳定和分布可控，等离子束流的离子密度与等离子发生室内等离子源附近的离子密度相当，实现等离子体束流的长程稳定传播。
一种射频等离子体增强化学沉积方法装置

[发明专利]一种磁场增强等离子体射流的发生装置-CN202210580533.6在审
发明人：卢新培;晋绍珲;聂兰兰 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H05H7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁场增强等离子体射流的发生装置，属于低温等离子体领域，包括：等离子体射流发生单元，用于产生等离子体射流，并通过其气体输出管道输出等离子体射流；环形磁铁，环绕设置在气体输出管道的外侧，用于在气体输出管道内产生磁场，且磁场为等离子体射流提供的洛伦兹力的方向与等离子体射流的流动方向一致，以加快等离子体射流的流动速度。解决现有等离子体射流长度偏短、放电不均匀、活性成分浓度不高的问题，保证等离子体的弥散、空间分布的均匀性，增强等离子体中活性氧化物的浓度，提高这些产物在应用中与被处理物品的接触效率，进而提高整个装置的工作效率
一种磁场增强等离子体射流发生装置

[实用新型]等离子体源增强沉积设备-CN03211548.2无效
发明人：李国卿;关秉羽;李剑锋;牟宗信 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2003-02-20 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：等离子体源增强沉积设备属于等离子体表面物理气相沉积技术领域。等离子体源增强沉积设备由真空系统、加热系统、偏压电源、供气系统、工件传动系统以及等离子体源与真空弧、磁控溅射组成，由等离子体源提供气体离化的等离子体，在偏压作用下，载能离子清洗、活化和强化材料表面，并与真空弧、磁控溅射产生的金属离子合成薄膜，实现等离子体源强化－镀膜一体化技术。本实用新型设备设计适合工业应用的等离子体源，利于产业化技术。应用于机械，信息，建筑装璜等领域。尤其适用于深层强化和表面处理的工模具。
等离子体增强沉积设备

[实用新型]一种沿面放电等离子体土壤修复设备-CN201822192699.2有效
发明人：刘威;李军燕;罗晓平;赵世华;郭宇;张帆;张月梅;宋越;戴玲俐;王娜;陈伟;裴乐;李锋;云涛;刘秀丽;刘月;李玉荣;吴海清;宋爱军;王鹏龙;方变变;卢岩 -专利权人：广州市环境保护工程设计院有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： B09C1/08 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种沿面放电等离子体土壤修复设备，涉及环境保护的技术领域，沿面放电等离子体土壤修复设备包括等离子发生装置、搅拌装置以及驱动装置。土壤放置在容纳仓中，操作者启动等离子发生装置，等离子发生装置产生的等离子与土壤混合，同时，操作者启动驱动装置，令驱动装置驱动搅拌装置工作，则容纳仓中的土壤被搅拌。这种设置方式，经搅拌装置搅拌后，土壤的通透性增强，等离子能够更加充分地与土壤混合，增强了等离子对土壤的净化效果，提高了土壤修复的效率。
土壤沿面放电等离子体等离子发生装置土壤修复设备驱动装置等离子搅拌装置容纳仓驱动搅拌装置本实用新型通透性增强净化效果设置方式土壤修复环境保护

[发明专利]增强装置及其使用方法-CN201110096122.1有效
发明人：彼得·J·莫理斯罗 -专利权人：魄金莱默有限公司
申请日： 2006-06-15 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：这项发明揭示为给诸如火焰或等离子体之类的原子化来源提供补充能量而配置的增强装置。在特定的例子中，增强装置可能用于火焰或等离子体把补充能量提供给火焰或等离子体以增强去溶剂化、原子化和/或离子化。在其它的例子中，增强装置可能被配置成为激发某些物种提供补充能量。另外，还揭示了包括至少一个增强装置的仪器和装置。
增强装置及其使用方法

[发明专利]增强装置及其使用方法-CN200680021600.X有效
发明人：彼得·J·莫理斯罗 -专利权人：魄金莱默有限公司
申请日： 2006-06-15 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： G01J3/30 文献下载
摘要：这项发明揭示为给诸如火焰或等离子体之类的原子化来源提供补充能量而配置的增强装置。在特定的例子中，增强装置可能用于火焰或等离子体把补充能量提供给火焰或等离子体以增强去溶剂化、原子化和/或离子化。在其它的例子中，增强装置可能被配置成为激发某些物种提供补充能量。另外，还揭示了包括至少一个增强装置的仪器和装置。
增强装置及其使用方法

[发明专利]一种在线等离子处理玻璃纤维后直接制备增强塑料的方法及其装置-CN200510057280.0无效
发明人：邓代维 -专利权人：邓代维
申请日： 2005-09-18 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： B29C70/52 文献下载
摘要：本发明公开了一种玻纤增强塑料的制备方法尤其是通过在线等离子处理玻璃纤维制备增强塑料的方法及其装置，包含以下步骤：将玻璃纤维在95℃－110℃预烘10－120分钟；将预烘过的玻璃纤维在等离子体发生装置中进行处理，离子体在玻璃纤维表面滞留时间为2－10秒；在双螺杆挤出机挤出塑料，并在挤出机的玻纤导入口导入经过等离子处理的玻璃纤维，进行增强复合；将增强复合料进行牵引、水冷却、切粒、包装。本发明采用等离子处理玻纤直接活化玻纤，无机玻纤和有机塑料之间的结合强度高，同时本发明将等离子体发生装置、导带传送装置与双螺杆挤出机组成连动生产线，实现了在线等离子处理玻璃纤维制备增强塑料的方法。
一种在线等离子处理玻璃纤维直接制备增强塑料方法及其装置

[发明专利]一种增强表面等离子体光场激发强度的方法-CN201410174953.X无效
发明人：罗先刚;赵泽宇;王长涛;王彦钦;姚纳;胡承刚;蒲明薄;王炯;高国函;马晓亮 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G02B27/58 文献下载
摘要：本发明公开了一种增强表面等离子体光场激发强度的方法，采用器件包括透明基底、纳米结构层、金属/介质多层膜和激发增强层；透明基底上的纳米结构层将照明平面波衍射为各级次平面波。利用金属/介质多层膜的超衍射频谱操控光学特性，对于各级次平面波透射金属/介质多层膜后将产生特定单一级次的表面等离子体光场，激发增强层能够极大地增强金属/介质多层膜滤波产生的表面等离子体光场的激发强度，最终可以在激发增强层的上表面形成纵向5nm～50nm范围内倏逝的表面等离子体光场。本发明可以实现高度倏逝局域、高激发效率和高信噪比的表面等离子体光场。有望用于超分辨显微的结构照明、表面等离子体干涉光刻、表层显微、表面等离子体生物传感等领域。
一种增强表面等离子体激发强度方法

[发明专利]一种沉积金刚石涂层前硬质合金刀具预处理方法及装置-CN201910209901.4有效
发明人：魏秋平;马莉;周科朝;余志明 -专利权人：中南大学
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：一种沉积金刚石涂层前硬质合金刀具预处理方法及装置，所述装置包括炉体、炉膛、电加热体、等离子发生电源、样品台。所述预处理方法包括对硬质合金刀具表面进行化学微刻蚀、等离子活化、等离子增强气态硼化、等离子清洗步骤。本发明通过使用把等离子体设备加持在恒温管式炉上，同时又增加了偏压装置改造得到的设备，加上一套合适的工艺解决了现有技术的问题。本发明的设备结构简单、操作方便，对工件实现等离子活化、等离子增强气态硼化、等离子清洗，优化了现有微波等离子体气态渗硼工艺，大幅度降低工艺成本，渗硼效果好，适于规模化工业生产。
预处理硬质合金刀具沉积金刚石涂层等离子活化等离子清洗等离子增强硼化渗硼等离子发生电源等离子体设备微波等离子体炉膛电加热体工艺成本偏压装置设备结构规模化恒温管微刻蚀样品台炉体优化改造

[发明专利]用于等离子处理腔室的气体喷淋头及其涂层形成方法-CN201210421403.4有效
发明人：贺小明;倪图强;张翰廷;徐朝阳;王明方;万磊;杨平 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2012-10-29 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了用于等离子体处理腔室的气体喷淋头的增强型涂层。所述增强型涂层利用等离子体增强型物理气相沉积形成。所述涂层的形成包括一物理过程，其将源材料浓缩于气体喷淋头表面，还包括一化学过程，其中等离子体中的活性成份与该浓缩的源材料反应。并且，等离子体中的非反应成份轰击气体喷淋头表面以使所述涂层更紧密。
用于等离子处理气体喷淋及其涂层形成方法