专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种等离子减薄装置与方法-CN201710849920.4在审
  • 邓辉 - 南方科技大学
  • 2017-09-20 - 2018-02-23 - H01L21/67
  • 本发明涉及半导体晶片加工领域,公开了一种等离子减薄装置与方法,其中等离子减薄装置包括第一电极、第二电极、惰性气体供给装置与刻蚀气体供给装置,其中,第一电极与第二电极平行设置,二者之间具有间隙,惰性气体供给装置用于向间隙内通入惰性气体,以在间隙内形成等离子等离子向间隙外喷出形成等离子火焰,刻蚀气体供给装置用于向等离子火焰中通入刻蚀气体。本发明可以增加待加工工件与电极之间的距离,保证大尺寸晶片加工时的均匀性;同时,本发明的刻蚀气体在电极外的等离子火焰中通入,不会产生电弧放电,故可以保证等离子稳定,进而能够适应大尺寸晶片的加工。
  • 一种等离子装置方法
  • [发明专利]一种气体放电螺旋等离子-CN202210872669.4在审
  • 邹丹旦;涂忱胜;蔡智超;项成恩 - 华东交通大学
  • 2022-07-24 - 2022-10-14 - H01J65/04
  • 一种气体放电螺旋等离子灯,所述装置是利用毫米波发生器辅助下在石英管中激发驻波模式的技术,使得直流脉冲电源驱动气体放电产生的螺旋等离子羽流,产生的螺旋等离子羽流有很好的稳定、温度可以安全触摸并向外发出可见光辐射装置包括由驱动放电的电源与金属底座构成螺旋等离子灯的底部,放电电极和充有放电气体的电介质管与外围支柱构成螺旋等离子灯的中部以及顶端的毫米波发生器作为螺旋等离子灯的顶部。
  • 一种气体放电螺旋等离子体
  • [发明专利]一种等离子灭菌指示剂-CN201811005190.0有效
  • 汤百灿 - 广州市默孚材料科技有限公司
  • 2018-08-30 - 2020-09-15 - A61L2/28
  • 本专利涉及等离子灭菌指示领域,公开了一种等离子灭菌指示剂,至少包括一种以上能在过氧化氢等离子作用下产生颜色转变的染料,和一种在指示剂系统起固色作用的吡啶衍生物。本发明所述等离子灭菌指示剂在过氧化氢等离子灭菌前后发生明显的颜色变化,且经过灭菌后的颜色不会恢复到原来的颜色,色彩稳定优异,能够可靠地判别灭菌目标物是否经过灭菌工序;吡啶衍生物的引入能够控制染料在过氧化氢等离子中变色的速度
  • 一种等离子体灭菌指示剂
  • [发明专利]低温等离子原子荧光光谱仪-CN200610076451.9无效
  • 刘霁欣;那星;陈志新;裴晓华 - 北京吉天仪器有限公司
  • 2006-04-25 - 2006-09-13 - G01N21/64
  • 本发明涉及一种低温等离子原子荧光仪,包括蒸气发生进样系统和与其连接的低温等离子原子化系统,所述低温等离子原子化系统包括形成低温等离子区和自由原子区的放电装置,在自由原子区侧面设置有光源系统和光学检测系统该低温等离子原子荧光仪器采用蒸气发生进样方式,基于低温等离子的原子化系统的原子荧光仪器,实现进样系统、原子化系统和光学检测系统的最佳匹配,来提高原子荧光仪器的灵敏度和扩大其检测元素的种类。具有低能耗、高灵敏度和高稳定的特点,而且可以扩充现有原子荧光仪器的检测范围。
  • 低温等离子体原子荧光光谱仪
  • [实用新型]低温等离子原子荧光光谱仪-CN200620113115.2无效
  • 刘霁欣;那星;陈志新;裴晓华 - 北京吉天仪器有限公司
  • 2006-04-25 - 2007-08-29 - G01N21/64
  • 本实用新型涉及一种低温等离子原子荧光光谱仪,包括蒸气发生进样系统和与其连接的低温等离子原子化系统,所述低温等离子原子化系统包括形成低温等离子区和自由原子区的放电装置,在自由原子区侧面设置有光源系统和光学检测系统该低温等离子原子荧光仪器采用蒸气发生进样方式,基于低温等离子的原子化系统的原子荧光仪器,实现进样系统、原子化系统和光学检测系统的最佳匹配,来提高原子荧光仪器的灵敏度和扩大其检测元素的种类。具有低能耗、高灵敏度和高稳定的特点,而且可以扩充现有原子荧光仪器的检测范围。
  • 低温等离子体原子荧光光谱仪
  • [发明专利]用于基于UV抑制等离子稳定的系统和方法-CN202011189122.1在审
  • 尚卡·斯瓦米纳森 - 朗姆研究公司
  • 2017-09-11 - 2021-04-02 - H01L21/02
  • 本发明涉及用于基于UV抑制等离子稳定的系统和方法。将衬底定位成暴露于等离子处理室内的等离子产生区域。在所述等离子产生区域内产生第一等离子。所述第一等离子被配置为致使膜沉积在所述衬底上直到沉积在所述衬底上的所述膜达到阈值膜厚度。然后所述衬底暴露于紫外辐射以消除沉积在所述衬底上的所述膜内的缺陷。可以使用构造成产生紫外线辐射的第二等离子或者使用设置成暴露于等离子产生区域中的紫外辐射设备来原位提供紫外线辐射。也可以通过将衬底移动到与等离子处理室分离的紫外辐射设备来非原位地提供紫外辐射。
  • 用于基于uv抑制等离子体不稳定性系统方法
  • [发明专利]用于基于UV抑制等离子稳定的系统和方法-CN201710811367.5有效
  • 尚卡·斯瓦米纳森 - 朗姆研究公司
  • 2017-09-11 - 2020-11-20 - H01L21/48
  • 本发明涉及用于基于UV抑制等离子稳定的系统和方法。将衬底定位成暴露于等离子处理室内的等离子产生区域。在所述等离子产生区域内产生第一等离子。所述第一等离子被配置为致使膜沉积在所述衬底上直到沉积在所述衬底上的所述膜达到阈值膜厚度。然后所述衬底暴露于紫外辐射以消除沉积在所述衬底上的所述膜内的缺陷。可以使用构造成产生紫外线辐射的第二等离子或者使用设置成暴露于等离子产生区域中的紫外辐射设备来原位提供紫外线辐射。也可以通过将衬底移动到与等离子处理室分离的紫外辐射设备来非原位地提供紫外辐射。
  • 用于基于uv抑制等离子体不稳定性系统方法
  • [发明专利]大面积均匀等离子电子密度控制系统-CN201210006362.2无效
  • 李小平;谢楷;刘彦明;刘东林;石磊;杨敏;高平 - 西安电子科技大学
  • 2012-01-11 - 2012-07-11 - H05H1/00
  • 本发明公开了一种大面积均匀等离子电子密度控制系统,主要解决目前等离子电磁波传播实验装置中电子密度不可连续调节、长时间稳定差和控制精度低的问题。整个系统包括等离子产生腔体(1)、诊断装置(2)、电源装置(3)、真空装置(4)和控制装置(5),控制装置(5)通过读取诊断装置(2)测得的电子密度值,与预设的电子密度值比较,并根据比较的差值输出电压或气压控制信号,调节电源装置(3)的输出功率或真空装置(4)的设定气压值,使等离子电子密度稳定在预设值范围内。本发明利用反馈控制原理,实现了对大面积均匀等离子中电子密度的调节与稳定,可用于进行电磁波在不同电子密度等离子中的传播实验。
  • 大面积均匀等离子体电子密度控制系统

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