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[实用新型]真空离子镀氮化钛铝合金型材挤压模-CN200420090294.3无效
发明人：侯跃清 -专利权人：上海宏大铝业装饰有限公司
申请日： 2004-09-21 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： B21C25/02 文献下载
摘要：一种真空离子镀氮化钛铝合金型材挤压模，包含钢质基体和设置在该钢质基体上的型腔，其特征在于：在型腔的钢质基体上设置有真空离子镀氮化钛层。本实用新型解决模具型腔磨损快、寿命短的技术问题。
真空离子镀氮化铝合金挤压

[实用新型]一种镀铜铝包钢芯镀铜铝绞线-CN201520947872.9有效
发明人：李进城;崔兴保;孙立金;裴天明 -专利权人：中宥(平原)科技有限公司
申请日： 2015-11-17 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： H01B5/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀铜铝包钢芯镀铜铝绞线，包括多根铝包钢芯线与铝线绞制的线体，还包括通过离子镀制备于每一铝包钢芯线及铝线外侧的合金层；及通过离子镀制备于合金层外侧的铜镀层。本实用新型的镀铜铝包钢芯镀铜铝绞线，采用磁控溅射镀膜的方式对铝包钢芯线及铝线进行镀铜；其采用真空镀膜过程属干式镀膜，不使用有害气体、液体；也没有有害液体、气体产生，无三废排放，对环境无不利影响，离子镀制备的合金层与离子镀铜在一个炉内进行，并一次完成，生产效率高；镀膜附着性好，离子镀膜致密，耐蚀性好；并且结合电流的集肤效应，采用了镀铜处理的铝包钢芯铝绞线的导电通流能力更强。
一种镀铜包钢铝绞线

[发明专利]一种配置中心辅助阳极的电弧离子镀膜装置-CN201910798622.6在审
发明人：赵彦辉;刘忠海;王海;于宝海;王英智;刘洋 -专利权人：中国科学院金属研究所;沈阳乐贝真空技术有限公司
申请日： 2019-08-27 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于材料表面改性领域，涉及一种配置中心辅助阳极的电弧离子镀膜装置。在电弧离子镀设备上部中心的法兰位置处接一根或两根以上辅助阳极棒，辅助阳极棒通过绝缘块与法兰绝缘，辅助阳极棒由紫铜制作，采用空心水冷，辅助阳极棒接辅助阳极电源正极，辅助阳极电源负极接真空室外壁。在镀膜过程中，真空室内产生的电子在辅助阳极电场力的作用下发生迁徙，在迁徙过程中将气体分子电离，极大提高真空室内的等离子体密度，可有效提高镀膜沉积效率和薄膜致密度。本发明不仅适用于工业广泛应用的电弧离子镀设备，而且对于离化率较高的各种离子镀及高功率脉冲磁控溅射等技术同样适用，可有效提高其等离子体密度。
辅助阳极辅助阳极棒电弧离子镀膜装置等离子体电弧离子镀设备配置中心迁徙室内材料表面改性气体分子电离高功率脉冲真空室外壁紫铜磁控溅射电源负极电源正极镀膜沉积镀膜过程法兰位置空心水冷电场力绝缘块离子镀法兰离化薄膜绝缘制作应用

[实用新型]一种配置中心辅助阳极的电弧离子镀膜装置-CN201921405739.5有效
发明人：赵彦辉;刘忠海;王海;于宝海;王英智;刘洋 -专利权人：中国科学院金属研究所;沈阳乐贝真空技术有限公司
申请日： 2019-08-27 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型属于材料表面改性领域，涉及一种配置中心辅助阳极的电弧离子镀膜装置。在电弧离子镀设备上部中心的法兰位置处接一根或两根以上辅助阳极棒，辅助阳极棒通过绝缘块与法兰绝缘，辅助阳极棒由紫铜制作，采用空心水冷，辅助阳极棒接辅助阳极电源正极，辅助阳极电源负极接真空室外壁。在镀膜过程中，真空室内产生的电子在辅助阳极电场力的作用下发生迁徙，在迁徙过程中将气体分子电离，极大提高真空室内的等离子体密度，可有效提高镀膜沉积效率和薄膜致密度。本实用新型不仅适用于工业广泛应用的电弧离子镀设备，而且对于离化率较高的各种离子镀及高功率脉冲磁控溅射等技术同样适用，可有效提高其等离子体密度。
一种配置中心辅助阳极电弧离子镀膜装置

[发明专利]一种离子镀膜与电子束蒸发镀膜结合的镀膜装置及其镀膜方法-CN202010041461.9在审
发明人：程云立;马华;付久龙;武金魁 -专利权人：长钛工程技术研究院（北京）有限公司
申请日： 2020-01-15 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明提供一种离子镀膜与电子束蒸发镀膜结合的镀膜装置，包括：离子镀膜组件、电子束蒸发镀膜组件、被镀基材、坩埚和真空室，所述真空室左右两侧设置离子镀膜组件，所述真空室的上方设置电子束蒸发镀膜组件，所述被镀基材设置在所述真空室的中部，所述坩埚设置在所述被镀基材的下方。本发明还提供一种镀膜方法，通过离子镀膜方法在被镀基材表面上用金属离子轰击清洗打底沉积一层薄薄的金属膜层形成金属过渡层，再用大功率电子束蒸发镀膜的方法进行快速沉积形成膜层，由于金属过渡层的存在，增强了膜层组合的多元性以及增加了膜层用途的多功能性
一种离子镀膜电子束蒸发结合装置及其方法

[发明专利]一种多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法-CN201911126498.5在审
发明人：刘辉婵;刘召飞 -专利权人：河北召飞科技服务有限公司
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法，涉及多弧离子镀技术领域，包括超声波清洗，其特征在于：所述把被镀工件放入超声波清洗池中超洗去油去污渍，所述工件放入烘干机中烘干去除水分，所述工件放入多弧离子镀膜机中离子清洗该多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法，能够通过将被镀工件放入超声波清洗池中超洗去油去污渍，再将工件工件放入烘干机中烘干去除水分，最后将工件放入多弧离子镀膜机中离子清洗，镀层时需要充入的氮气为800SCCM
一种离子镀膜过程减少大液滴方法

[发明专利]离子镀用片料和其制造方法以及透明导电膜-CN201080034731.8有效
发明人：中山德行;阿部能之 -专利权人：住友金属矿山株式会社
申请日： 2010-07-29 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： C04B35/00 文献下载
摘要：本发明提供离子镀用片料、为了获得离子镀用片料的最适合的氧化物烧结体和其制造方法，该离子镀用片料可以实现适用于蓝色LED或太阳能电池的透明导电膜的高速成膜和不产生飞溅的结节少的成膜。一种离子镀用片料，该离子镀用片料通过将氧化物烧结体加工而得到，该氧化物烧结体含有作为氧化物形式的铟和铈，铈的含量以Ce/(In+Ce)原子数比计为0.3～9原子％，其特征在于，该氧化物烧结体以方铁锰矿型结构的
离子镀用片料制造方法以及透明导电

[发明专利]硬质滑动部件的制造方法-CN201510576497.6在审
发明人：广田悟史 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2015-09-11 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明的硬质滑动部件的制造方法包括：表面处理工序，将基材的表面进行表面处理；和碳膜形成工序，通过使用包含碳的靶进行电弧离子镀，在基材的表面上形成碳膜。在碳膜形成工序中，通过一边将碳氢化合物气体导入一边进行电弧离子镀而开始上述碳膜的形成，然后减少该碳氢化合物气体的导入量而继续进行该电弧离子镀，形成中间层，在表面上形成由ta-C构成的表层。
硬质滑动部件制造方法

[发明专利]一种在CuCr触头表面形成CuCr涂层的电弧离子镀方法-CN201510274170.3有效
发明人：王小军;王文斌;李刚;艾璇;刘凯;郭创立;杨平 -专利权人：陕西斯瑞工业有限责任公司
申请日： 2015-05-27 - 公布日： 2015-09-09 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种在CuCr触头表面形成CuCr涂层的电弧离子镀方法，属于表面工程领域。以CuCr材料作为靶材，采用电弧离子镀工艺，在CuCr触头表面获得均匀、致密的纳米CuCr涂层。由本发明方法的电弧离子镀获得的CuCr涂层，不仅可以提高触头材料的表面粗糙度，还可以避免机加工产生的毛刺对其开断性能的影响。
一种 cucr 表面形成涂层电弧离子镀方法

[发明专利]一种复合真空镀膜方法-CN201110286023.X有效
发明人：姚毅;汪强;王红伟;秦洁;鲁旭亮;吴丽丽 -专利权人：湖州金泰科技股份有限公司
申请日： 2011-09-23 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合真空镀膜方法，属于表面处理技术领域，依次包括基材表面预处理、表面喷涂及固化、真空镀膜、热固化涂料喷涂及固化的步骤，其中真空镀膜包括磁控溅射镀镍，磁控溅射离子镀混合镀镍铬，阴极电弧离子镀铬本发明省去了繁重的抛光工序，简化了工艺流程，提高了生产效率，减轻了工人的劳动强度；其次采用磁控溅射离子镀混合镀膜技术，所得制品膜层致密度高、金属感强；再次，由于金属层及金属混合镀层的制备在同一真空炉里进行
一种复合真空镀膜方法

[实用新型]直线矩形电磁复合机械过滤弧装置及沉积镀膜装置-CN202123161206.7有效
发明人：郎文昌;张振华;章珂;林琪澳;张祖航 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型属于真空离子镀膜技术领域，具体涉及一种直线矩形电磁复合机械过滤弧装置及沉积镀膜装置，包括具有矩形状空腔的离子镀壳体，矩形状空腔一端封闭且另一端为开口，封闭一端固定有阴极弧源组件，设有开口的一端为离子出口；矩形状空腔在阴极弧源组件与离子出口之间设有复合机械挡板，复合机械挡板与离子镀壳体内壁之间设有供沉积离子运动的通道；离子镀壳体上固定有双电磁线圈组。本实用新型提供的直线矩形电磁复合机械过滤弧装置，阴极弧源组件蒸发出的待沉积离子在双电磁线圈的作用下偏转并且在工件上的负偏压的吸引下沉积到工件上，而未离化的分子、原子及大颗粒则沉积到中间的机械挡板上，沉积速率将大幅度提升
直线矩形电磁复合机械过滤装置沉积镀膜

[实用新型]一种镀钛金属餐具-CN200920054741.2有效
发明人：陈力群;汪益民 -专利权人：珠海邦元企业有限公司
申请日： 2009-04-17 - 公布日： 2010-01-27 - 主分类号： A47G21/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀钛金属餐具，旨在提供一种不易滋生细菌、不会霉变、环保健康、清洗方便、具有自洁杀菌效果的镀钛金属餐具。该镀钛金属餐具包括金属基体(1)，所述金属基体(1)的表面附着有真空离子镀钛层(2)以及所述真空离子镀钛层(2)的外层生成有钛的透明氧化膜层(3)。本实用新型广泛应用于筷子、刀、叉、勺等餐饮器具领域。
一种金属餐具

[实用新型]电弧离子镀膜装置-CN201020281150.1无效
发明人：赵彦辉;肖金泉;杜昊;华伟刚;于宝海;宫骏;孙超 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2010-08-04 - 公布日： 2011-03-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型属于材料表面改性领域，涉及一种用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置。通过在电弧离子镀过程中采用磁场约束和控制等离子体束流运动轨迹，在电弧离子镀沉积装置中设置两套磁场发生装置，一套放在真空室外的等离子体传输通道上，即用磁场对等离子体束流进行聚焦，约束等离子体束流传输时的横截面直径和传输效率，另一套放置于真空室内的管状工件外侧，引导等离子体束流沿着管状工件中心轴向方向扩散；在电弧离子镀中利用电场增强是用电场对等离子体实现加速定向流动，在工件内部设置脉冲电场；利用磁场和电场对等离子体束流的约束和控制，实现等离子体在管内壁沉积薄膜，适用于作为服役表面的管状工件的内壁表面镀膜。
电弧离子镀膜装置

[发明专利]轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置及方法-CN201410372795.9在审
发明人：刘长明;陈玲芳 -专利权人：宁夏天马滚动体制造有限公司
申请日： 2014-07-31 - 公布日： 2015-02-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及轴承滚柱制造领域，目的是提供一种轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置及方法。一种轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置，包括真空室，位于真空室中的工件支承转台，交替置于工件支承转台外周的若干对铬靶和对数与铬靶的对数相同的若干对碳靶，偏压电源，加热器，与真空室连通的真空装置，工作气体瓶和加热器该轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置提供一种滚柱高速旋转时的摩擦系数和磨损率较小，振动精度和耐磨性较高，从而提高轴承的性能稳定性。轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀方法使磁控溅射的滚柱满足滚柱高速旋转时的摩擦系数和磨损率较小，振动精度和耐磨性较高，从而提高轴承的性能稳定性的要求。
轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置方法

[发明专利]光学多弧离子镀方法及其装置-CN201711351721.7在审
发明人：祝海生;孙桂红;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了光学多弧离子镀方法，包括步骤a)基片传送入真空室；步骤b)在真空室内采用一多弧靶对基片进行光学多弧离子镀；步骤c)基片进行光学多弧离子镀后传送出真空室；所述多弧靶包括阴极和引弧电极，所述阴极的一端与引弧电极的一端绝缘连接与现有技术相比，本发明提供的光学多弧离子镀方法在阴极中加装了磁性组件，可使金属离化率更高，镀膜刻蚀均匀，基片表面膜层均一性更佳，因此其应用前景十分广阔。
多弧离子镀阴极引弧电极磁棒磁性组件真空室背管电磁阀控制基片表面基片传送绝缘连接相邻设置阴极表面绝缘棒均一性靶材镀膜刻蚀离化膜层嵌有传送金属室内应用