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[发明专利]电控变色玻璃及其制备方法-CN202010063821.5在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：传奇视界有限公司
申请日： 2020-01-20 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： G02F1/15 文献下载
摘要：电控变色玻璃制备方法包括：提供基材玻璃层；在基材玻璃层上形成第一导电层；在第一导电层上形成第一变色层；在第一变色层上形成第一离子导体层；在第一离子导体层上形成第一辅助变色层；在第一辅助变色层上形成第二导电层；在第二导电层上形成第二变色层；在第二变色层上形成第二离子导体层；在第二离子导体层上形成第二辅助变色层；在第二辅助变色层上形成第三导电层；在第三导电层上形成第三变色层；在第三变色层上形成第三离子导体层；在第三离子导体层上形成第三辅助变色层；在第三辅助变色层上形成第四导电层；以及在第四导电层上形成外保护层。
变色玻璃及其制备方法

[发明专利]一种硼辅助冠醚化合物及其制备方法和应用-CN201610272811.6有效
发明人：黄祚刚;杨建平;王万军;姜标 -专利权人：中国科学院上海高等研究院
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种硼辅助冠醚化合物及其制备方法和应用。所述硼辅助冠醚化合物具有式1所示的结构通式；式中，各基团的定义如说明书中所述。本发明将硼引入冠醚，呈电中性的硼辅助冠醚与碱金属络合物能改善萃取的分配和分离系数；硼氧键关环的硼辅助冠醚化合物作为萃取剂可被质子开环，有可能实现选择性的碱金属离子络合开关，所述硼辅助冠醚化合物克服了传统冠醚作为碱金属离子提取分离的缺陷，在碱金属离子的提取分离，尤其是锂离子的分离上有广阔的应用前景。
一种辅助化合物及其制备方法应用

[发明专利]一种优化管内壁镀膜的镀膜装置及基于该装置的镀膜方法-CN202110655311.1在审
发明人：田修波;吴厚朴;巩春志 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种优化管内壁镀膜的镀膜装置及基于该装置的镀膜方法，属于管件内壁薄膜沉积技术领域，本发明为解决现有管筒件内壁镀膜工艺等离子体进入管筒件内部距离较短、等离子体密度低的问题。平面等离子体阴极靶头和辅助阳极装置分别置于管筒件的管头和管尾侧，并均与管筒件的端口正对，励磁线圈安装在平面等离子体阴极靶头后方；平面等离子体阴极靶头、励磁线圈、辅助阳极装置和管筒件的等轴；励磁线圈连接有线圈电源，通过励磁线圈产生的磁场对等离子体进行聚焦，推动等离子体进入管筒件内部；辅助阳极装置连接有电源，吸引电子向辅助阳极装置侧运动，使等离子体进入管筒件内部深处。
一种优化内壁镀膜装置基于方法

[实用新型]一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置-CN202023279035.3有效
发明人：解传佳;张永胜;刘浏 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，属于HIT电池制备技术领域。针对现有技术中存在的HIT电池的PVD镀膜时使用离子源辅助会牺牲阴极位，影响产能，且离子源与阴极在同一腔室容易导致工艺不稳定等问题，本实用新型提供一种连续镀膜PVD中离子源辅助装置，分子泵室与溅射室间隔设置，载板依次通过工艺室中各分子泵室和溅射室；离子源位于分子泵室中，旋转阴极设置在溅射室中，载板依次进入分子泵室和溅射室，分子泵室的离子源对基底表面的薄膜进行处理，溅射室的旋转阴极在基底沉积薄膜，离子源设置在分子泵室，实现无需占用阴极位置即可进行离子源辅助应有，生产工艺更稳定效率更高。
一种 hit 电池连续镀膜 pvd 离子源辅助装置

[实用新型]离子源辅助安装工具-CN202222174866.7有效
发明人：欧阳港荣;汪东 -专利权人：广州粤芯半导体技术有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01J27/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种离子源辅助安装工具，离子源辅助安装工具包括灯丝定位件和安装部，灯丝定位件与安装部连接，并凸出于安装部；安装部具有第一定位结构，第一定位结构用于与离子源的第二定位结构配合，用于限定离子源的支撑部的位置；灯丝定位件被配置为，当调整离子源的灯丝夹具与离子源的阴极电机夹具的相对位置时，灯丝定位件用于与灯丝夹具开设的凹槽相对，以定位灯丝夹具的位置。上述离子源辅助安装工具在辅助离子源安装灯丝时，保证了灯丝与阴极电极的开口的侧壁之间的距离符合使用需求，避免灯丝与阴极电极的开口的侧壁间距过小导致灯丝报废，或灯丝与阴极电极的开口的侧壁间距过大，无法满足使用需求的情况发生
离子源辅助安装工具

[发明专利]一种高抗氯离子侵蚀辅助胶凝材料及其制备方法-CN202011637999.2有效
发明人：赵汝英;祝雯;谭梓枫;陈晋栋 -专利权人：广州建设工程质量安全检测中心有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C04B28/14 文献下载
摘要：本发明提供一种高抗氯离子侵蚀辅助胶凝材料，涉及建筑材料技术领域。本发明的抗氯离子侵蚀辅助胶凝材料，包括以下重量份数的原料：基准水泥40‑60份，磷酸二氢钾5‑10份，镁砂5‑10份，硼砂0.5‑1份，石膏2份，偏高岭土10‑20份，激发剂2‑6份，分散剂0.2‑2份本发明的高抗氯离子侵蚀辅助胶凝材料，不仅能够降低混凝土内部游离氯离子含量，还能增强氯离子阻迁性，降低钢筋锈蚀破坏。
一种氯离子侵蚀辅助材料及其制备方法

[发明专利]一种等离子体消毒柜及消毒方法-CN201910702292.6有效
发明人：马少云;李枫;王涛;李小娇;刘定新;郗旺 -专利权人：青岛海尔智慧厨房电器有限公司;海尔智家股份有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体消毒柜及消毒方法，包括等离子体产生模块、电源模块、气流模块及辅助加热模块。等离子体产生模块包括气室，气室内设有放电组件，气室具有出气口和进气口。电源模块向放电组件提供高压电源，气流模块将气室内的等离子体输送至灭菌空间内，辅助加热模块用于分解气室内的臭氧。通过等离子体产生模块、气流模块及辅助加热模块的协同作用，降低臭氧浓度，提高灭菌效率。
一种等离子体消毒柜消毒方法

[实用新型]一种长寿命补偿式锂离子电容器-CN201320519098.2有效
发明人：崔光磊;姚建华;韩鹏献 -专利权人：中国科学院青岛生物能源与过程研究所
申请日： 2013-08-25 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： H01G11/06 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种长寿命补偿式锂离子电容器，包括锂辅助电极、正极、负极、隔膜、电解液，电容器单元可以采用叠层或卷绕结构，其特征在于锂单独构成一个辅助电极，该电极通过集流体和极耳引出。本实用新型锂离子电容器的锂辅助电极可以多次向负极补偿锂离子，有效解决负极在反复充放电过程中由于负极锂离子自放电或迁移出造成的容量衰减问题，解决锂离子电容器循环寿命短的问题。
一种寿命补偿锂离子电容器

[实用新型]一种等离子体消毒柜-CN201921226820.7有效
发明人：马少云;李枫;王涛;李小娇;刘定新;郗旺 -专利权人：青岛海尔智慧厨房电器有限公司;海尔智家股份有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体消毒柜，包括等离子体产生模块、电源模块、气流模块及辅助加热模块。等离子体产生模块包括气室，气室内设有放电组件，气室具有出气口和进气口。电源模块向放电组件提供高压电源，气流模块将气室内的等离子体输送至灭菌空间内，辅助加热模块用于分解气室内的臭氧。通过等离子体产生模块、气流模块及辅助加热模块的协同作用，降低臭氧浓度，提高灭菌效率。
一种等离子体消毒柜

[发明专利]用于化学机械抛光浆料的辅助剂-CN200580041069.8有效
发明人：李基罗;金种珌;李政熹;洪政填;洪瑛晙;金鲁马;李安娜 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2005-12-28 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于阳离子带电材料和阴离子带电材料同时抛光的辅助剂，其在阳离子带电材料上形成吸附层以提高阴离子带电材料对阳离子带电材料的抛光选择性，其中所述辅助剂包含聚合电解质盐，该聚合电解质盐包含：(本发明还公开了包含上述辅助剂和磨粒的CMP(化学机械抛光)浆料。
用于化学机械抛光浆料辅助剂

[发明专利]一种柔性细长微等离子体射流源及使用方法-CN202010684523.8有效
发明人：王涛;时礼平;吕栎;李蒙;童宝宏;张兴权 -专利权人：安徽工业大学
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开一种柔性细长微等离子体射流源及使用方法，包括工作气源、辅助气源、高压环电极、等离子体发生器主体、辅助软管、形状记忆合金丝、镇流电阻、高压电源；工作气源、辅助气源分别与等离子体发生器主体的一端连接，并在等离子体发生器主体的另一端形成微等离子体射流；辅助软管沿等离子体发生器主体的延伸方向贴合连接，形状记忆合金丝设置在辅助软管内，高压环电极设置在等离子体发生器主体上，高压环电极通过镇流电阻与高压电源的高压端相连接，形状记忆合金丝与高压电源的接地端相连接；本发明具有结构简单、柔韧性好等优势；借助形状记忆合金丝实现了位姿可控，大大提高了该微等离子体射流源的灵活性与使用范围。
一种柔性细长等离子体射流使用方法

[发明专利]光学均匀的氧化锆薄膜的制备方法-CN200410067901.9无效
发明人：张大伟;邵建达;范正修;王英剑;黄建兵;张东平;尚淑珍 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2004-11-05 - 公布日： 2005-04-06 - 主分类号： G02B1/12 文献下载
摘要：一种光学均匀的氧化锆薄膜的制备方法的关键是：采用物理真空电子枪蒸发沉积方式；选取低能量、高束流的霍尔型辅助离子源；基底不施加烘烤；沉积时，所述霍尔型辅助离子源的离子的具体参数根据薄膜所需的折射率和薄膜不结晶而确定本发明所制备的氧化锆薄膜具备常温沉积的非晶优点和离子辅助技术的高射率、高附着力的优点，薄膜光学均匀。
光学均匀氧化锆薄膜制备方法

[发明专利]一种数控研磨修抛辅助的大气等离子体加工装置-CN201711190721.3在审
发明人：刘卫国;惠迎雪;张进;周顺;秦文罡;刘雨昭;侯仓仓;夏天 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2017-11-24 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种数控研磨修抛辅助的大气等离子体加工装置。解决现有大气等离子体加工时，表面次生附着物二次吸附，光学元件表面质量下降，加工效率低的问题。本发明采用的技术方案包括等电弧等离子体炬射流喷枪，等电弧等离子体炬射流喷枪和数控柔性研磨头设置于多维度运动控制台上的对称旋转工装上，位于待加工光学元件上表面；等电弧等离子体炬射流喷枪包括上下相连接的等离子体源喷枪和辅助气流环，辅助气流环内设置有分气盒，分气盒与辅助气流环下端的气环出气孔和上端的高压惰性气体入口连接，辅助气流环下端面的气环出气孔上设置有等离子体喷嘴；数控柔性研磨头包括依次连接的摆动轴、连接轴和研抛盘，摆动轴上设置有自传电机和偏转电机
辅助气流电弧等离子体炬大气等离子体射流喷枪柔性研磨头加工装置数控研磨摆动轴出气孔分气盒辅助的气环数控高压惰性气体入口等离子体喷嘴光学元件表面加工光学元件等离子体源多维度运动附着物对称旋转二次吸附加工效率偏转电机依次连接质量下降上端连接轴上表面工装抛盘喷枪下端自传电机加工

[发明专利]真空磁控溅射镀膜机、镀膜方法、镀膜产品-CN202310692248.8在审
发明人：张迅;易伟华;李景艳;阳威;彭顺明 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空镀膜室、基材承载辊轴、离子源、靶材、主气路和辅助气路，所述基材承载辊轴设于所述真空镀膜室内部，所述离子源和所述靶材环绕所述真空镀膜室的内侧壁设置，且所述离子源和所述靶材的长度方向与所述基材承载辊轴的长度方向平行；所述主气路和所述辅助气路各自独立地自所述真空镀膜室外延伸至所述真空镀膜室内，所述主气路的出气孔靠近所述离子源，所述辅助气路的出气孔靠近所述靶材，所述辅助气路为多段式，且各所述辅助气路沿所述靶材的长度方向逐段排列，各段所述辅助气路的气流能够独立控制。
真空磁控溅射镀膜方法产品

[发明专利]一种超声萃取雾化辅助碳纤维离子化装置及使用该装置实现离子化的方法-CN201910779907.5在审
发明人：郭寅龙;王政永;曹宇奇;陆颖洁;朱苏珍;张立;张菁 -专利权人：中国科学院上海有机化学研究所
申请日： 2019-08-22 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明公开了一种超声萃取雾化辅助碳纤维离子化装置及使用该装置实现离子化的方法，所述装置包括碳纤维离子源和质谱进样通道，碳纤维离子源的采样和离子化端位于质谱进样通道的端口前方，在碳纤维离子源的采样和离子化端的附近设有超声萃取雾化装置使用本发明所述的超声萃取雾化辅助碳纤维离子化装置实现离子化的方法，包括如下操作：将含有萃取溶剂的样品放置于超声萃取雾化装置上，然后超声萃取雾化装置对样品先后进行萃取、雾化，接着雾化后的样品被碳纤维离子源离子化本发明提供的超声萃取雾化辅助碳纤维离子化装置，对多肽类化合物具有良好的离子化效果，且待测样品无需进行前处理，即可对复杂样品进行定性定量分析。
碳纤维超声萃取离子化雾化离子化装置雾化装置离子源进样通道装置实现采样质谱离子源离子定量分析待测样品复杂样品类化合物样品放置萃取溶剂前处理多肽萃取定性