专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种对多晶CVD反应器辐射损失的预估方法-CN201110308457.5有效
  • 刘迎文;何雅玲;胡露露;徐升华;刘冈云 - 西安交通大学
  • 2011-10-12 - 2012-02-15 - G06F19/00
  • 一种对多晶CVD反应器辐射损失的预估方法,基于蒙特卡洛来准确获得辐射换的关键技术参数——角系数,进而准确地求得CVD反应炉内的辐射损失。本发明可以快速、准确地预估多晶CVD反应器的辐射损失,其适用范围很广,尤其适用于任意芯对数和复杂结构的反应器。采用本发明提出的辐射损失预估方法,可以为多晶CVD反应器的操作人员提供更加准确的辐射漏数据,从而实现对工作电流的准确调控甚至为自动化控制提供必要的反馈信息,确保还原炉内芯的温度控制在更加准确有效的范围内,大大节约了反应耗能,并提高多晶产品的质量和生产的成品率,为企业带来极大的经济效益和社会价值。该方法同样适用于其它复杂结构的反应器的辐射漏预估。
  • 一种多晶cvd反应器辐射热损失预估方法
  • [发明专利]一种具有拉晶状态监测装置的拉晶设备-CN202210798117.3在审
  • 陈立民;郭旭东;刘威;陈磊;唐柏祥;王岩 - 曲靖阳光新能源股份有限公司
  • 2022-07-06 - 2022-09-20 - C30B15/00
  • 本发明提供了一种具有拉晶状态监测装置的拉晶设备,包括设备外壳,设备外壳的上侧周向均布设有若干观察窗,若干观察窗与若干监测设备一一对应设置,设备外壳的内部工作腔中设有场一和场二,场一包括保温层一,保温层一中设有坩埚一,场二包括保温层二,保温层二设置在坩埚二的侧壁,将料送入场二的坩埚二中,对坩埚二中的料进行加热熔化,形成液,然后进入场一的坩埚一中,液相较于料在进入坩埚一的过程中冲击较小,避免了坩埚一直接添加固体料导致的溅液问题,解决了在连续直拉生产工艺中,在添加新的料时,不可避免的会出现溅料,导致晶棒生长界面的温度波动较大,从而会影响单晶的品质的技术问题。
  • 一种具有状态监测装置设备
  • [发明专利]一种联合法混合脱工艺-CN200710012144.9无效
  • 李志国;金亚利;周凤禄;王剑 - 沈阳铝镁设计研究院
  • 2007-07-17 - 2009-01-21 - C01F7/02
  • 本发明涉及一种脱工艺,特别是一种联合法混合脱工艺。它包括下述步骤:将全部或部分烧结法粗液加入到拜耳法系统中,利用拜耳溶出后浆液中大量新鲜的赤泥作为脱种子,浆液中蕴含的大量的热量作为热源,混合完成脱反应。本发明方法与原有生产流程相比,简化了生产流程,提高了拜耳溶出系统的利用效率,简化了工艺流程,节能降耗,降低了种分精液αK,提高了种分分解率。
  • 一种联合混合工艺
  • [发明专利]微机械热电堆红外探测器-CN200910074776.7有效
  • 薛晨阳;梁庭;张文栋;刘俊;熊继军;石云波;王楷群 - 中北大学
  • 2009-06-15 - 2009-11-11 - B81C1/00
  • 简化了制作工艺,提高了性能、成品率,制作步骤:①用LPCVD衬底双面淀积氮化硅薄膜;②光刻、刻蚀掉衬底正面的外围氮化硅薄膜;③用LPCVD、光刻工艺制作若干两端分别位于氮化硅薄膜和衬底上的多晶条;④用溅射、光刻工艺制作若干同多晶条构成热电偶的铝条;⑤用PECVD衬底正面上淀积氧化硅薄膜;⑥用光刻工艺制作覆盖热电堆结区的红外吸收层-碳化的光刻胶层;⑦用剥离工艺制作覆盖热电堆冷结区的金属反射层-金层;⑧将衬底背面腐蚀形成正四棱台状凹槽。
  • 微机热电红外探测器
  • [发明专利]一种新型纳米晶的制备方法-CN200610118916.2无效
  • 张荣君;陈良尧;郑玉祥;李晶;王松有;陆明 - 复旦大学
  • 2006-11-30 - 2007-06-06 - C30B29/06
  • 本发明属于纳米光电材料技术领域,具体为一种电子束蒸发制备纳米晶的方法。传统的纳米晶的制备方法包括电化学腐蚀、离子注入、溅射法、化学气相沉积,以及蒸发等。SiO2层将分别蒸发SiO粉末源材料和SiO2源材料而得到,然后在高温氮气环境中退火,从而获得SiO2基体中尺寸大小可控、且均匀分布的纳米晶薄膜中纳米晶的尺寸大小、尺寸分布和纳米晶的密度可以独立控制,而且纳米晶在薄膜样品中的位置以及样品的超晶格周期也可以任意设计。
  • 一种新型纳米制备方法

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