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[实用新型]树脂结合剂立方氮化硼贯穿式双端面砂轮-CN200820231745.9无效
发明人：陈德超 -专利权人：沈阳达亿超硬材料制品有限公司
申请日： 2008-12-17 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： B24D7/14 文献下载
摘要：一种树脂结合剂立方氮化硼贯穿式双端面砂轮，包括有以合金铝或钢铁为材质的砂轮基体，砂轮基体的研磨一侧的表面上粘结有CBN磨面层，其特点是所述的砂轮基体表面CBN磨面层上按磨料的粒度设有磨区7个，分别为：研磨区a、研磨区b、研磨区c、研磨区d、研磨区e、研磨区f、研磨区g，其中研磨区a、研磨区b、研磨区c为粗研磨区，研磨区d、研磨区e为中研磨区，研磨区f、研磨区g为细研磨区。本实用新型采用七个研磨工作区，在磨削中一次完成从粗研磨到精研磨的加工过程，使工件一次加工达到三次加工的效果，节省两次磨削及上、下料的时间，提高单位工件加工效率400％以上。
树脂结合立方氮化贯穿端面砂轮

[发明专利]一种CMP研磨垫及CMP研磨装置-CN202011257722.7有效
发明人：金泰源;张月;杨涛;卢一泓;刘青 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种CMP研磨垫及CMP研磨装置，该CMP研磨垫包括一个圆盘状的研磨垫。还包括设置在研磨表面上的多个圆环形沟槽，多个圆环形沟槽呈同心圆状由研磨垫的中心向研磨垫的边缘依次排布。研磨表面划分为N个研磨区。该N个研磨区包括位于研磨垫中心处且呈圆形第一研磨区，还包括呈同心圆状由研磨垫的中心向边缘依次排布的第二研磨区至第N研磨区。第二研磨区至第N研磨区中的每个研磨区上均穿设有连通该研磨区上任意相邻的两个圆环形沟槽的通孔。通过在第二研磨区至第N研磨区中的每个研磨区上均穿设有通孔，调节不同研磨区中研磨液的量，改善CMP工序中晶圆表面成膜图形的均匀性，提高良率。
一种 cmp 研磨装置

[实用新型]一种金刚石研磨垫以及研磨装置-CN202120875230.8有效
发明人：王绪国;杨春明 -专利权人：东莞市蓝宇金刚石磨具有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种研磨片，尤其涉及一种金刚石研磨垫。其包括研磨垫本体，研磨垫本体呈圆形设置，研磨垫本体的中部设有内研磨区，研磨垫本体在内研磨区向上延伸有多个内研磨块，研磨本体的外围设有若干个环形的外研磨区，研磨本体在外研磨区向上延伸有多个外研磨块，内研磨区与临近的外研磨区之间设有间隔区；相邻的两个外研磨区之间也设有间隔区；内研磨块的横截面积大于所有外研磨块的横截面积；相邻两个外研磨区中，位于内侧的外研磨块横截面积大于位于外侧的外研磨块横截面积。本实用新型通过设置多个研磨区，使得研磨时，可以逐步提高研磨等级，无需进行工序转移，降低成本。
一种金刚石研磨以及装置

[实用新型]一种交错驱动的研磨抛光机-CN202221514854.8有效
发明人：杨燕君;孙作平;李国华;刘轩 -专利权人：深圳市金正江大五金塑胶制品有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种交错驱动的研磨抛光机，包括：机台、设置于机台内的控制系统、设置于机台一侧的第一研磨区、以及设置于机台另一侧的第二研磨区，第一研磨区与第二研磨区均设置有若干研磨盘，第一研磨区及第二研磨区的研磨盘排列顺序相同，第一研磨区与第二研磨区分别设置有相互独立的动力系统，动力系统与控制系统电性连接，动力系统与研磨盘连接。本实用新型通过在机台上设置独立工作的第一研磨区以及第二研磨区，并且每次加工只启动其中一个研磨区，从而在一个研磨区上的研磨盘磨损严重时，停止该研磨区的工作，并启动另一研磨区，从而实现不停机的状态下进行研磨盘的更换工作
一种交错驱动研磨抛光机

[实用新型]一种SEM磨样砂纸-CN201520505456.3有效
发明人：李琰琪;王栩生;邢国强 -专利权人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
申请日： 2015-07-14 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： B24D11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种SEM磨样砂纸，包括圆形的原纸，所述原纸上从内到外依次设有第一研磨区、第二研磨区和第三研磨区，所述第一研磨区为圆形，所述第二研磨区和第三研磨区均为环形，且所述三个研磨区为同心圆结构；所述第一研磨区的目数小于第二研磨区的目数，第二研磨区的目数小于第三研磨区的目数。本实用新型设有多个研磨区，研磨的时候避免了多次更换砂纸，有效地提高了砂纸的利用率，提高了工作效率，降低了材料成本。
一种 sem 砂纸

[发明专利]一种肉羊饲料研磨搅拌装置-CN202110795805.X在审
发明人：王佩亚;朱凯;谢方 -专利权人：安徽瑞江农牧科技有限公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： B02C21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种肉羊饲料研磨搅拌装置，包括研磨桶，研磨桶内设置有驱动电机驱动的驱动轴，研磨桶的顶部还设置有进料通道，研磨桶的内表面自上而下依次分为粉碎区、初步研磨区和精细研磨区，驱动轴的外表面位于粉碎区的位置设置有轴套，轴套的外表面与研磨桶内表面位于粉碎区的位置均设置有数个切割刀，驱动轴的外表面的位于初步研磨区的位置设置初步研磨装置，初步研磨装置包括支架和研磨辊；本发明通过料进入粉碎区进行粉碎以后，落入初步研磨区经过研磨辊的研磨再落入精细研磨区进行充分的研磨，以保证其研磨后的精细程度，以满足生产需求。
一种饲料研磨搅拌装置

[实用新型]一种低温耐磨陶瓷涂料用原材料加工装置-CN202021471319.X有效
发明人：周献伟;贾幸福 -专利权人：河南凌阳耐磨材料有限公司
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： B02C4/10 文献下载
摘要：一种低温耐磨陶瓷涂料用原材料加工装置，涉及原材料研磨技术领域，包括粉碎区和单片机，所述粉碎区的一端安装有反冲区，所述反冲区的端面安装有收集区，所述收集区的底端安装有分离区，所述分离区的底端安装有掉落区，所述粉碎区、反冲区、收集区、分离区和掉落区的内部连通设置，所述粉碎区的顶端安装有进料管，所述掉落区的底端两侧安装均安装有排料管，所述单片机安装在收集区的外侧；在研磨时通过初级研磨区进行初级的研磨，然后叜经过终极研磨区进行再次的研磨，最后再由反冲区把未飘走的物料再次的送入到终极研磨区的内部进行研磨，由此保证了研磨的精细度，提高了研磨的效率。
一种低温耐磨陶瓷涂料原材料加工装置

[发明专利]研磨动子-CN201210400151.7有效
发明人：兰翠芹;朱云涛;黄运勇;陈超 -专利权人：北京中家智铭设计有限公司
申请日： 2012-10-20 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： A47J43/07 文献下载
摘要：本发明公开一种用于与研磨定子配合研磨物料的研磨动子，包括研磨本体和动轴，所述研磨本体的外周表面形成至少两个螺旋状环绕的研磨棱，每两个研磨棱之间的凹陷区形成研磨槽，研磨本体的上端外轮廓大于下端外轮廓，所述研磨本体包括粗研磨区、汇集增压区和细研磨区，物料进入粗研磨区研磨成粗颗粒物料，并通过汇集增压区进入细研磨区研磨形成细颗粒的物料浆。因此，本发明所设置的粗研磨区和细研磨区分别对物料研磨，提高了物料研磨的细腻度，物料的利用率得到提高，而研磨动子的上端外轮廓大于下端外轮廓也便于拆卸和清洗，大大提高了研磨机构的使用便捷性，便于推广利用。
研磨

[实用新型]研磨垫及采用该研磨垫的研磨装置-CN201420397395.9有效
发明人：陈枫 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2014-07-17 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本实用新型提供一种研磨垫，至少包括：主研磨区及均匀环设于所述主研磨区周围的至少两个边缘研磨区；所述主研磨区与各边缘研磨区之间通过一圆环形沟槽隔离；相邻边缘研磨区之间具有间隙。本实用新型还提供一种采用上述研磨垫的研磨装置，包括研磨平台、设置于所述研磨平台上方的研磨头及用于向所述主研磨区供应液体的第一研磨液供应装置；所述研磨垫铺设于所述研磨平台表面；所述研磨装置还包括用于向所述边缘研磨区供应液体的第二研磨液供应装置本实用新型既可以对晶圆整体部分进行研磨，也可以单独对晶圆边缘部分进行研磨，从而提高研磨均匀性，解决晶圆边缘的残留物问题，提高生产良率。
研磨采用装置

[实用新型]研磨动子-CN201220537611.6有效
发明人：兰翠芹;朱云涛;黄运勇;陈超 -专利权人：北京中家智铭设计有限公司
申请日： 2012-10-20 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： A47J43/07 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于与研磨定子配合研磨物料的研磨动子，包括研磨本体和动轴，所述研磨本体的外周表面形成至少两个螺旋状环绕的研磨棱，每两个研磨棱之间的凹陷区形成研磨槽，研磨本体的上端外轮廓大于下端外轮廓，所述研磨本体包括粗研磨区、汇集增压区和细研磨区，物料进入粗研磨区研磨成粗颗粒物料，并通过汇集增压区进入细研磨区研磨形成细颗粒的物料浆。因此，本实用新型所设置的粗研磨区和细研磨区分别对物料研磨，提高了物料研磨的细腻度，物料的利用率得到提高，而研磨动子的上端外轮廓大于下端外轮廓也便于拆卸和清洗，大大提高了研磨机构的使用便捷性，便于推广利用
研磨

[发明专利]化学机械平坦化工具-CN202010851423.X在审
发明人：颜宏;廖高锋;何信颖;萧钧文;庄胜超;张庭熏;黄富明;林均洁;张简鹏崇;崔骥;陈亮光;陈志宏;陈科维 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种化学机械平坦化工具，其包括平台以及附接至前述平台的研磨垫。研磨垫远离平台的第一表面包括第一研磨区和第二研磨区，其中前述第一研磨区是位在前述研磨垫的第一表面中心处的圆形区域，而前述第二研磨区是在前述第一研磨区周围的环形区域。前述第一研磨区和第二研磨区具有不同的表面性质。
化学机械平坦化工

[发明专利]晶圆研磨设备-CN201310641959.9有效
发明人：中村由夫;大塚美雄;大久保贵史;澁谷和孝;布施贵之;原史朗;耸嘛玩;池田伸一 -专利权人：不二越机械工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2013-12-03 - 公布日： 2017-09-22 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：晶圆研磨设备包括研磨板、能够保持晶圆的研磨头和研磨液供给部。该研磨板包括多个同心的研磨区，各研磨区均具有用于研磨晶圆的规定宽度并且在各研磨区上均贴附研磨布；以及用于排出研磨液的槽，该槽形成在研磨区之间。用于清洁研磨头的头清洁部或用于清洁研磨后的晶圆的晶圆清洁部设置到研磨板的中心部分并且位于最内侧研磨区的内侧。
研磨设备

[发明专利]研磨垫、使用该研磨垫的研磨装置及研磨方法-CN201110453496.4有效
发明人：陈枫 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-12-29 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：研磨垫、使用该研磨垫的研磨装置及研磨方法。一种研磨垫，包括，第一研磨区，设置于研磨垫边缘，用于研磨晶圆边缘；第二研磨区，所述第二研磨区至少能容纳整个晶圆表面，用于研磨整个晶圆；其中，所述研磨垫的第一研磨区与第二研磨区之间具有沟槽。一种使用该研磨垫的研磨装置，包括研磨台、研磨头及第一输送装置，将所述晶圆放置在研磨垫上，并使晶圆边缘与第一研磨区接触，保持所述研磨台静止，旋转研磨头以研磨晶圆边缘，第一输送装置喷射的液体仅停留在第一研磨区本发明既可研磨整个晶圆表面，又可单独研磨晶圆边缘区域，提高了晶圆研磨的中心区域与边缘区域的均匀性，大大提高半导体器件生产良率。
研磨使用装置方法

[实用新型]一种研磨头-CN202222808977.9有效
发明人：张超 -专利权人：宁波厨聚厨房科技有限公司
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： A47J42/10 文献下载
摘要：本公开提供了一种研磨头，涉及研磨器技术领域，包括研磨座和磨芯，所述磨芯转动配合在研磨座内，所述研磨座的内壁上设置有内研磨层，所述磨芯的外壁上设置有与之相对应的外研磨层，所述内研磨层与外研磨层之间的间隙构成研磨通道，所述研磨通道的大小由进料处至出料处依次递减，并且依次分为粉碎区、粗磨区、中磨区、细磨区，所述粉碎区、粗磨区、中磨区、细磨区沿磨芯的母线分布。该研磨头在保证其研磨精细度的同时，提高了出料速度，并且研磨顺畅，研磨通道不易造成堵塞，结构简单，生产成本较低，实用性较强。
一种研磨

[发明专利]基于环保砖原材料制作的多通道粉碎装置-CN202310087542.6在审
发明人：郭永强 -专利权人：长兴欧胜环保设备有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： B02C17/16 文献下载
摘要：本发明涉及基于环保砖原材料制作的多通道粉装置，通过在箱体内部设置研磨机构,所述箱体顶部设置有用于放置电机的盖板，所述箱体内部由内向外依次设置有第一研磨区、第二研磨区、第三研磨区，所述研磨机构包括分别设置在第一研磨区、第二研磨区、第三研磨区的第一研磨组件、第二研磨组件、第三研磨组件，研磨组件的外壁面设置有研磨面a，研磨区的外壁面设置有研磨面b，研磨组件与研磨面之间设置有研磨通道，研磨区的内壁面上设置有用于将原材料吹入研磨通道的气孔，所述研磨组在电机的带动下与研磨区外壁面的研磨面相配合将吹入研磨通道内的原材料进行研磨，所述研磨区下端面设置有用于过滤原材料的过滤网，所述过滤网下端面设置有用于敲打过滤网的敲打机构，研磨区下方设置有用于放置研磨后原材料的输送框解决了输送通道单一
基于环保原材料制作通道粉碎装置

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