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- [发明专利]直拉法生长单晶硅中利用氮-氩混合气体除杂-CN201010292543.7有效
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江国庆
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江国庆
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2010-09-26
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2012-04-11
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C30B27/02
- 直拉法生长单晶硅中利用氮-氩混合气体除杂。屈半导体分离技术领域,单晶炉直拉式生产单晶硅棒(碇)过程中会存有多种杂质,其中氧是直拉法生长单晶硅中的主要杂质,由于氧的存在严重影响单晶硅的品质,本发明采用在高纯度的氩气中加入微量的氮气,用它们的混合气体来作保护气体,以去除直拉法生长单晶硅过程中的氧,氮-氩混合气体使炉内保持低压、惰性气氛,促使SiO的蒸发,随着SiO的蒸发量增大而降低硅熔体中的氧含量,加大混合气体的流速,能使反应气体、反应粉末和反应液体迅速排出单晶炉;本发明主要应用于直拉法生长单晶硅中的除杂,它效果好,提高了硅单晶的品质,达到高质量的单晶的生长。
- 直拉法生长单晶硅利用混合气体
- [实用新型]一种硅掺杂砷化镓单晶直拉炉-CN201420358308.9有效
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陈淑仙
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陈淑仙
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2014-07-01
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2014-11-05
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C30B15/00
- 本实用新型公开了一种砷化镓单晶直拉炉,特别是一种硅掺杂砷化镓单晶直拉炉,属于砷化镓单晶拉制装置技术领域;所述硅掺杂砷化镓单晶直拉炉包括炉体和设置于炉体内的提拉杆,所述提拉杆的下方设置有内坩埚,内坩埚下方还设置有可升降的外坩埚,所述外坩埚直径大于内坩埚直径,且内坩埚设置有穿透埚体并延伸至外坩埚的连通管道,所述连通管道将内坩埚和外坩埚连通;本实用新型的硅掺杂砷化镓单晶直拉炉设计巧妙,结构合理,在砷化镓单晶拉制过程中外坩埚能够有效的向内坩埚补充低掺杂浓度的熔体
- 一种掺杂砷化镓单晶直拉炉
- [发明专利]一种提高直拉硅单晶生产效率的方法-CN201110199363.9有效
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周建华
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西安华晶电子技术股份有限公司
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2011-07-15
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2011-10-19
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C30B15/20
- 本发明公开了一种提高直拉硅单晶生产效率的方法,包括以下步骤:一、硅原料及掺杂剂准备;二、装料;三、单晶炉炉内处理:按直拉法常规处理工艺,依次完成合炉、抽真空、熔料、引晶、放肩、转肩和等径生长过程;四、后期处理,过程如下:首先、关闭单晶炉的石墨热场系统,使单晶炉的加热功率降至零;之后,石英坩埚内剩余硅熔体表面开始结晶,且待结晶快接触硅单晶晶体时,将晶体快速提离硅熔体液面;最后,进行晶体提升及取晶,获得硅单晶成品本发明设计合理、方法步骤简单、实现方便且易于掌握、使用效果好,省略了晶体拉制的收尾过程,提高了生产效率,能解决硅单晶生产过程中因必须进行收尾工序使得直拉硅单晶生产效率受到限制的问题。
- 一种提高直拉硅单晶生产效率方法
- [实用新型]一种直拉单晶炉用石墨支撑环-CN202020191904.8有效
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申连喜;赵永敬
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嘉祥洪润电碳有限公司
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2020-02-21
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2020-10-30
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C30B15/00
- 本实用新型提供一种直拉单晶炉用石墨支撑环,包括支撑环,所述支撑环的表面设置有防护层,所述防护层包括弹力层、防腐层和耐磨层,所述弹力层位于支撑环的外侧,所述防腐层位于弹力层的外侧,所述耐磨层位于防腐层的外侧支撑环受力,从而对弹簧进行挤压,通过弹簧的弹性回弹,继而对支撑环所受的力进行缓冲,通过弹力层的配合,从而对支撑环所受的力进行缓冲,防止支撑环容易受压变形,使用者需要多次对石墨支撑环进行更换,同时会严重影响直拉单晶炉的工作效率,解决了传统直拉单晶炉用石墨支撑环弹性效果差的问题,通过陶瓷化硅橡胶层和聚氨酯层的配合,增加了支撑环的弹性效果。
- 一种直拉单晶炉用石墨支撑
- [发明专利]直拉式单晶炉的副炉-CN201110455233.7无效
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汤仁兴
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汤仁兴
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2011-12-31
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2013-07-03
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C30B15/00
- 本发明涉及直拉式单晶炉的副炉,属于单晶硅的生产制造设备领域。一种直拉式单晶炉的副炉,其特征在于:它包括副炉本体(1),所述副炉本体(1)包括内壁(2)和外壁(3),所述内壁(2)和外壁(3)之间设有水夹层(4),所述内壁(2)和外壁(3)的上下两端分别连有上法兰这种直拉式单晶炉的副炉在外壁上开设了镁棒接口,镁棒接口与内壁与外壁之间的水夹层相连通,镁棒接口中插入镁棒后,将代替内壁和外壁上的铁与自来水中的氯离子发生反应,使得氯离子不会对炉壁产生腐蚀。
- 直拉式单晶炉
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