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[发明专利]IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法-CN201210396347.3有效
发明人：许丹 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-10-17 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法，所述IP核检测版图，包括：IP核版图，所述IP核版图中位于中间位置的版图被去除，只保留IP核版图中位于边缘区域的版图，使得所述IP核检测版图的形状为环形，且所述IP核检测版图内圈边缘到IP核检测版图外圈边缘的间距范围大于或等于当前不同电路结构之间的最大间距设计规则。利用所述IP核检测版图和周围电路版图相结合进行设计规则检测，如果发现IP核检测版图和周围电路版图有冲突，可以立即对周围电路版图进行修改，节省了片上系统的设计时间，且IP核用户只能获得边缘区域的版图，无法通过所述IP核检测版图获得整个IP核的电路或版图，依然利于保护IP核的知识产权。
ip 检测版图设计系统方法

[发明专利]版图设计方法以及版图设计单元集合-CN201510005136.6有效
发明人：张弓 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2015-01-06 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明提供一种版图设计方法和版图设计单元集合，所述版图设计单元集合包括:第一、第二、第三、第四、第五单元，所述第一单元至第五单元依次排列构成用于形成SRAM单元的初始版图，所述SRAM单元包括由多个鳍部图形和第一总栅条图形、第二总栅条图形形成的第一、第二上拉晶体管、第一、第二下拉晶体管和第一、第二栅传输晶体管，本发明版图设计单元集合还包括第一插入单元，所述第一至第五单元以及第一插入单元能够组成SRAM单元版图，通过调节SRAM单元版图中设置的第一插入单元数量，能够调节所形成的SRAM单元版图中上拉晶体管、下拉晶体管和传输栅晶体管的沟道区宽长比之间的比例，从而能够便地进行多种不同性能的SRAM单元设计，简化SRAM单元的设计步骤
版图设计方法以及单元集合

[发明专利]一种版图设计方法和版图设计系统-CN201410276868.4有效
发明人：樊强;李雪 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-06-19 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供一种版图设计方法和版图设计系统，涉及集成电路设计及制造技术领域。本发明的版图设计方法，包括冗余通孔填充、版图合并、调用PDK中的DRC编码进行DRC验证、去除DRC验证错误等步骤，可以降低建立冗余通孔填充方案的工作负载、提高版图设计的效率，提高产品良率，从而从多方面降低成本本发明的版图设计系统，包括冗余通孔填充模块、版图合并模块、DRC验证模块以及版图操作模块等独立的模块，该模块化的冗余通孔填充方案直接调用PDK中的DRC编码进行DRC验证而不需为了和冗余通孔填充整合成一个文件而大量修改
一种版图设计方法系统

[发明专利]一种版图设计方法和装置-CN200810057543.1无效
发明人：罗晋;马亮;郭奕 -专利权人：北京芯慧同用微电子技术有限责任公司
申请日： 2008-02-02 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供一种版图设计方法和装置，所述方法包括以下步骤：根据第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则；将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则；根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图；对所述子版图进行设计规则检查。通过使用本发明，可以在单个子版图的设计阶段，进行版图拼接设计规则检查，节约了对版图进行组合拼接检查的过程，大大提高了版图设计的效率；同时，也有效地避免了由版图拼接引起的设计规则错误，彻底保证了版图的可靠性
一种版图设计方法装置

[发明专利]光学邻近修正方法、系统、电子设备及存储介质-CN202211481980.2在审
发明人：赵西金;李秋良;胡滨 -专利权人：珠海市睿晶聚源科技有限公司
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学邻近修正方法、系统及计算机可读存储介质，包括：获取第一设计版图、第二设计版图以及第一设计版图的第一掩膜版图，其中，第一掩膜版图由对第一设计版图数据转换得到；将第一设计版图与第二设计版图进行异或比较，生成待修正区域信息，其中，所述待修正区域信息包括区域坐标信息；根据待修正区域信息以及第一掩膜版图对第二设计版图进行光学邻近修正，得到修正结果；根据区域坐标信息以及修正结果对第一掩膜版图进行替换处理，得到第二掩膜版图本发明实施例中，能够自动比较第二设计版图与第一设计版图的差异，提高光学修正效率。
光学邻近修正方法系统电子设备存储介质

[发明专利]一种多人合作的顶层版图布线方法-CN202310823164.3在审
发明人：来佳艳;连瑞;张世康;朱琪;肖培磊 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十八研究所
申请日： 2023-07-06 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G06F30/394 文献下载
摘要：本发明涉及半导体芯片版图设计技术领域，具体涉及一种多人合作的顶层版图布线方法。包括以下步骤：步骤1)：顶层版图设计师创建顶层版图；步骤2)：顶层版图设计师根据布线人数将顶层版图模块按区域分成多个部分；步骤3)：所有版图设计师进行各自分配区域的版图布线；步骤4)：以上布线完成后，释放各自版图权限交由顶层版图设计师进行整体顶层版图的查漏补缺和布线优化本发明通过多人合作布线方法并利用EDA工具版图设计软件中的LAYOUTXL功能，成倍的缩短了大规模顶层版图的布线周期，大幅度提高了大规模顶层版图设计师的工作效率。
一种合作顶层版图布线方法

[发明专利]版图的设计方法、设计设备以及计算机可读存储介质-CN202211123599.9在审
发明人：曹品;赵康;王元龙 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种版图的设计方法、设计设备以及计算机可读存储介质，所述设计方法包括：获取初始版图；根据所述初始版图生成第一单元版图，所述第一单元版图包括第一电源版图、第二电源版图和位于所述第一电源版图和所述第二电源版图之间的第一电容版图；根据所述第一电容版图确定待添加的第二电容版图的目标参数；根据所述目标参数在所述第一单元版图中添加所述第二电容版图，并将所述第二电容版图与所述第一电容版图连接。
版图设计方法设备以及计算机可读存储介质

[发明专利]版图中光刻坏点的检测修复方法、系统及计算机介质-CN202310030409.7在审
发明人：王小虎;王小威 -专利权人：华芯巨数（杭州）微电子有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明涉及计算光刻与物理设计中的绕线的交叉领域，特别涉及一种版图中光刻坏点的检测修复方法、系统及计算机介质，本发明的版图中光刻坏点的检测修复方法包括以下步骤：获取初始版图；基于初始版图得到初始物理设计版图；对初始物理设计版图进行光刻坏点检测；若存在光刻坏点，调整初始物理设计版图，清除光刻坏点得到初始优化物理设计版图；重复上述步骤检测初始优化物理设计版图是否还存在光刻坏点，若仍存在光刻坏点，则通过绕线工具对初始优化物理设计版图进行调整清除剩余光刻坏点；若不存在光刻坏点或光刻坏点完全清除，输出对应的优化物理设计版图作为最终物理设计版图。同时进行光刻坏点的检测及修复，提高版图的工艺流程效率及质量。
版图光刻检测修复方法系统计算机介质

[发明专利]一种集成电路版图设计教学辅助系统-CN202211028641.9在审
发明人：柏娜;屈睿峥;王翊;许耀华;林泽远;董任钦 -专利权人：安徽大学
申请日： 2022-08-25 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G06F30/32 文献下载
摘要：本发明公开一种集成电路版图设计教学辅助系统，包括：电路图设计单元，版图设计单元及错误检查单元，所述电路图设计单元被配置为根据电路图创建指令创建电路原理图，并将生成的所述电路原理图发送给所述版图设计单元；所述版图设计单元被配置为根据接收到的所述电路原理图在版图设计界面生成初始版图，并根据版图设计指令来对所述初始版图进行版图设计，以生成集成电路版图；所述错误检查单元被配置为对版图设计过程中的版图对象进行实时的错误检查本发明，通过对版图设计过程中的版图对象进行实时的错误检查并反馈，方便使用者查看和修改错误，减少错误率，提高使用者的学习效率，减少学习周期。
一种集成电路版图设计教学辅助系统

[发明专利]一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备-CN202210090007.1在审
发明人：巫志城;陈钊 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：本发明涉及图形修复技术领域，一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备，包括以下步骤，提供设计版图，并通过设计版图获取掩模版图；获取所述设计版图上的缺陷信息；根据所述缺陷信息及预设的修复规则对所述掩模版图进行修复得到已修复的掩模版图本发明提供的一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备解决了现有的设计版图修复技术消耗时间多这一问题。
一种设计版图缺陷修复方法存储介质设备

[发明专利]产生标准单元库版图的方法-CN202110571843.7在审
发明人：杨景丞 -专利权人：杨家奇
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G06F30/398 文献下载
摘要：本发明提供一种产生标准单元库版图的方法，包括：首先，将版图设计规则和电路设计参数输入至版图算法资料库，以利用所述版图算法资料库检测标准单元的各版图布局是否符合晶圆厂设计规则，并检测标准单元的各版图布局的电性规格是否符合使用要求；或者，将版图设计规则输入至版图算法资料库，以利用所述版图算法资料库检测标准单元的各版图布局是否符合晶圆厂设计规则；利用电路仿真软件获取晶圆厂提供的元器件模型,得到仿真的结果以判断标准单元的各版图布局是否符合电性规格；而后将符合晶圆厂设计规则以及电性规格符合使用要求的版图布局存储至标准单元库版图中。与传统方法相比，产生版图快,节省了人力，且不需要EDA辅助设计的工具。
产生标准单元版图方法

[发明专利]一种埋入式电感版图的优化设计方法-CN201410194599.7有效
发明人：刘勇;曹锐;张德智;李庄 -专利权人：中国电子科技集团公司第三十八研究所
申请日： 2014-05-09 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明涉及一种埋入式电感版图的优化设计方法，包括在初始设计的电感版图上串联一个电感值可调的理想电感；以设计指标为优化目标，对含有理想电感的电路版图进行优化仿真，计算出理想电感的电感值lt；根据求出的理想电感的电感值lt来修正电感版图，修正后再次对电路版图进行优化仿真；重复上一步，直至理想电感的电感值lt接近于零；去除理想电感，得到优化后的电感版图。本发明通过在初始设计的电感版图上添加理想电感，并以串联的理想电感作为电感版图修正的依据，在优化设计过程中衡量电感版图的设计偏差，可以快速对电感版图进行调整，缩短了电感版图的设计周期，提升了电感版图的设计准确度
一种埋入电感版图优化设计方法

[发明专利]芯片版图设计方法-CN201510853934.4有效
发明人：周喆 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2015-11-30 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种芯片版图设计方法，包括如下步骤：步骤一、进行逻辑综合形成门级网表文件，逻辑综合包括如下分步骤：进行功能模块的划分；根据功能模块的不同选择对应的标准单元库；进行逻辑综合形成各功能模块对应的模块网表；对各模块网表进行集成形成逻辑集成项目网表；步骤二、根据各模块网表分别制作出对应的模块版图，产生各功能模块对应的Liberty模型和LEF文件；步骤三、由各功能模块对应的Liberty模型和LEF文件以及标准单元库作为项目版图设计的输入文件，根据逻辑集成项目网表制作出整个芯片数字电路的版图。
网表标准单元库逻辑综合逻辑集成芯片版图门级网表文件版图设计单一芯片输入文件数字电路单芯片芯片

[发明专利]芯片版图设计规则检查方法-CN201910061589.9在审
发明人：周喆 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种芯片版图设计规则检查方法，包含：第1步，根据设计规则确定模块边缘版图的大小；第2步，提取包含全部有效层的模块边缘版图数据；第3步，检查并修复边缘版图中违反设计规则的版图数据；第4步，完成边缘版图制作，合并到芯片版图中运行DRC。本发明所述的芯片版图设计规则检查方法，仅保留模块版图四周的版图数据，可以大大减少参与DRC演算的数据量，达到减少DRC运行时间。
芯片版图设计规则检查版图数据模块边缘设计规则演算数据量有效层修复合并保留制作违反检查

[发明专利]集成专业版图设计经验的集成电路(IC)版图迁移的方法和系统-CN202080000147.4有效
发明人：雷源;马晨月 -专利权人：香港应用科技研究院有限公司
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G06F30/30 文献下载
摘要：集成电路(IC)的现有版图被迁移到两个或多个目标版图，用于不同设计规则的不同半导体工艺。解析现有版图文件中的数据项如边界、路径、文本和单元实例，以生成文本格式的版图数据库文件。版图工程师从版图设计工具包中选择功能，并使用这些功能编写可重用代码。放置功能可以指定与其他数据项的相对位置，取决于设计规则。布线功能允许在根据各种目标设计规则调整版图后重新布线互连。模拟版图专业知识集成器使用可重用代码替换版图数据库文件中的某些数据项，以生成可重用版图数据库。版图生成器编译可重用版图数据库，并将其转换为多个设计规则的多个目标版图。
集成专业版图设计经验集成电路 ic 迁移方法系统

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