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[发明专利]溅射镀膜设备-CN202210136775.6在审
发明人：高佳 -专利权人：东莞市峰谷纳米科技有限公司
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了溅射镀膜设备，包括送料机构与溅射镀膜机构，溅射镀膜机构包括周转室、第一溅射腔室、第二溅射腔室、第三溅射腔室以及第四溅射腔室，周转室设于溅射镀膜机构的中间，而第一溅射腔室、第二溅射腔室、第三溅射腔室以及第四溅射腔室依次围绕周转室设置，第一溅射腔室的外部设有低压溅射装置，第二溅射腔室的外部设有第一磁控溅射装置、第二磁控溅射装置以及第三磁控溅射装置，第三溅射腔室的外部设有第四磁控溅射装置、电感耦合等离子光谱发生仪以及第五磁控溅射装置，第四溅射腔室的外部设有第一RF离子源清洗装置、第六磁控溅射装置以及第七磁控溅射装置。
溅射镀膜设备

[实用新型]塑胶溅射镀膜设备-CN202220299999.4有效
发明人：高佳 -专利权人：东莞市峰谷纳米科技有限公司
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了塑胶溅射镀膜设备，包括结构主体，所述结构主体包括送料装置与溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括周转室、第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室，所述周转室设于溅射镀膜装置的中间，所述第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室依次围绕周转室而设置，所述第一溅射室的外部设有低压溅射机构，所述第二溅射室的外部设有第一磁控溅射机构、第二磁控溅射机构以及第三磁控溅射机构，所述第三溅射室的外部设有第四磁控溅射机构、电感耦合等离子光谱发生仪以及第五磁控溅射机构，所述第四溅射室的外部设有第一RF离子源清洗机构、第六磁控溅射机构以及第七磁控溅射机构。
塑胶溅射镀膜设备

[发明专利]磁控溅射镀膜设备-CN201610915587.8有效
发明人：易伟华;张迅;张伯伦 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁控溅射镀膜设备，包括基板运载装置、镀膜工艺室和主控制器，所述镀膜工艺室包括依次连接的进片室、进过渡室、进缓冲室、溅射区、出缓冲室、出过渡室和出片室，所述溅射区包括至少两组溅射室，每组溅射室之间设置有缓冲区，每组溅射室包括相邻设置的两个溅射室；通过设置多组溅射区，每组溅射区包括两个溅射室，大大的增加了溅射材料的存储容量，同时可以在不同的溅射区放置不同的溅射材料实现多层膜的喷涂，并通过缓冲区实现溅射区的隔离，不同的溅射材料不会彼此渗入产生污染；可以有效的延长溅射材料的使用时间，并且可以喷涂多种材料，提高了生产效率，减少了人工操作，喷涂效果好。
磁控溅射镀膜设备

[发明专利]磁控溅射镀膜系统-CN201410057887.8有效
发明人：张迅;阳威;欧阳小园;易伟华 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2014-02-20 - 公布日： 2014-05-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁控溅射镀膜系统，包括成直线式排列的进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射镀膜室、第二过渡室、第二缓冲室和出片室，溅射镀膜腔室包括依次连接的第一直流溅射室、第二直流溅射室、第三直流溅射室和第四直流溅射室，第一直流溅射室与第一过渡室连接，第四直流溅射室与第二过渡室连接，第一直流溅射室中设置有两个第一阴极靶，第二直流溅射室中设置有两个第二阴极靶，第三直流溅射室中设置有两个第三阴极靶，第四直流溅射室中设置有两个第四阴极靶使用该磁控溅射镀膜系统进行镀膜，能够有效降低破片率并有利于镀制方阻较低的薄膜，满足on-cell镀膜工艺要求，提高生产良率。
磁控溅射镀膜系统

[实用新型]一种镀膜玻璃生产设备-CN201821116057.8有效
发明人：钟永照 -专利权人：广州祥亿玻璃制品有限公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种镀膜玻璃生产设备，包括清洗室、进口室、溅射室以及出口室，清洗室与进口室之间设有第一输送辊道，进口室至出口室之间的所有设备直接连接并内置第二输送辊道；清洗室上设有玻璃基片进口、玻璃基片出口、洗涤水进口以及污水出口；溅射室包括第一溅射室、第二溅射室以及第三溅射室，第一溅射室和第三溅射室的内部设有气体隔离装置，第一溅射室和第三溅射室的盖板上设有抽真空装置，第二溅射室的内部设有阴极靶材以及冷却装置基于上述结构，该镀膜玻璃生产设备具有结构合理、隔离系数高、真空环境好、冷却效果佳等优点，并且由于设有清洗室，从而能够保证镀膜效果，提升产品质量，提高厂商的经济效益。
溅射室清洗室镀膜玻璃生产设备进口室玻璃基片输送辊道出口室气体隔离装置本实用新型抽真空装置洗涤水进口镀膜效果隔离系数冷却效果冷却装置污水出口阴极靶材真空环境盖板内置厂商进口出口保证

[发明专利]一种磁控溅射镀膜机-CN202211366586.4在审
发明人：周征华;李龙哲;朱显君;夏伟;李花;张亚芹 -专利权人：上海哈呐技术装备有限公司
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明属于镀膜设备领域，公开了一种磁控溅射镀膜机，蒸发镀膜室、溅射镀膜室和设置于蒸发镀膜室与溅射镀膜室之间可启闭地的翻板阀，翻板阀开启时蒸发镀膜室与溅射镀膜室连通，翻板阀关闭时将蒸发镀膜室与溅射镀膜室分隔为两个独立的腔室；蒸发镀膜室上设有可启闭的腔室门，蒸发镀膜室内设有前处理机构、AF蒸发机构和移载机构，溅射镀膜室内设有溅射机构；移载机构沿所述蒸发镀膜室至溅射镀膜室的方向可往复移动，用于将放置有待处理产品的工装板放入溅射镀膜室并从溅射镀膜室内拾取放置有已处理产品的工装板本发明溅射镀膜室可始终保持真空状态，无需重新抽真空，可实现产品的连续性不间断溅射镀膜，大大提高生产效率。
一种磁控溅射镀膜

[发明专利]多功能离子束溅射与刻蚀及原位物性分析系统-CN201010574358.7有效
发明人：龙世兵;刘明;谢常青;陈宝钦;徐连生;胡媛 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2010-12-06 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： G01N23/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多功能离子束溅射与刻蚀及原位物性分析系统，包括：离子束溅射与刻蚀室、物性分析室、样品交换真空腔室；一溅射沉积与刻蚀工件台，设置于溅射与刻蚀室的顶部正中位置；一刻蚀离子源，设置于溅射与刻蚀室的底部正中位置；二溅射靶台，设置于溅射与刻蚀室的下部；二溅射离子源，设置于溅射与刻蚀室的中部；一辅助清洗离子源，设置于溅射与刻蚀室的中部；一套X射线光电子能谱分析系统，设置于物性分析室中；样品交换真空腔室用于实现样品在溅射与刻蚀室和物性分析室之间的交换与传输该设备兼备各种功能，可用于高质量多层超薄介质和金属薄膜材料的溅射沉积、刻蚀、抛光减薄、热处理及样品的原位物性分析。
多功能离子束溅射刻蚀原位物性分析系统

[发明专利]一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法-CN201711267226.8在审
发明人：毛华云;梁礼渭 -专利权人：江西金力永磁科技股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于述磁控溅射炉的出口处。本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，具有连续的三个腔室，按工作顺序分别为真空腔室、磁控溅射腔室、冷却腔室。三个腔室之间以可活动装置隔开，各自工作，互不干扰，从而实现了生产连续性，减少抽真空和冷却的等待时间，提高生产效率。
一种连续磁控溅射装置方法

[实用新型]一种连续式磁控溅射装置-CN201721674593.5有效
发明人：毛华云;梁礼渭 -专利权人：江西金力永磁科技股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连续式磁控溅射装置，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于述磁控溅射炉的出口处。本实用新型提供了一种连续式磁控溅射装置，具有连续的三个腔室，按工作顺序分别为真空腔室、磁控溅射腔室、冷却腔室。三个腔室之间以可活动装置隔开，各自工作，互不干扰，从而实现了生产连续性，减少抽真空和冷却的等待时间，提高生产效率。
磁控溅射腔室冷却腔室真空腔室磁控溅射装置磁控溅射炉可活动装置连续式隔开本实用新型三个腔室互不干扰生产效率抽真空入口处冷却生产

[发明专利]连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统-CN201010298327.3无效
发明人：金烈 -专利权人：深圳市金凯新瑞光电有限公司
申请日： 2010-09-30 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及真空镀膜技术，尤其涉及一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；还包括过度室，过度室设置于第一溅射室和第二溅射室之间；第一溅射室与过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，过度室与第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；过度室连接真空发生装置，过度室的真空度大于第一溅射室的真空度，过度室的真空度也大于第二溅射室的真空度；过度室还具有进气孔和排气孔，进气孔和排气孔均设置于第一通道与第二通道之间本发明提供一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，以便实现连续式多室多气氛镀膜。
连续式多室溅射镀膜气氛隔离系统

[实用新型]一种生产Low-E镀膜玻璃的机械装置-CN201520635145.9有效
发明人：原建军;乔亚;赵媛媛;尤本柱 -专利权人：江苏北玻节能玻璃科技有限公司
申请日： 2015-08-22 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种生产Low-E镀膜玻璃的机械装置，该装置属于特种玻璃生产领域；包括：玻璃基片清洗机、进口室、进口缓冲室、进口传送室、第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室、第四溅射室、第五溅射室、出口缓冲室、出口室、成品检测室；玻璃基片清洗机上设有玻璃基片进口、洗涤水进口，污水出口，玻璃基片清洗机和进口室间设有第一输送机，进口室至出口室之间的所有设备直接连接并内置输送辊道，第一溅射室上设有特种化合物和氮气进口，第二溅射室上设有金属和氩气进口，第三溅射室上设有特种化合物和氮气进口，第四溅射室上设有金属和氩气进口，第五溅射室上设有特种化合物和氮气进口，出口室和成品检测室间设有第二输送机，成品检测室上设有成品出口
一种生产 low 镀膜玻璃机械装置

[发明专利]太阳能集热管连续自动溅射镀膜方法及装置-CN200710118524.0无效
发明人：殷志强;李云松;吕振华;李云程;秦克强 -专利权人：殷志强;李云程;吕振华;李云松
申请日： 2007-07-09 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种太阳能集热管连续自动溅射镀膜方法及装置，包括设置预真空室和末端真空室，在预真空室和末端真空室之间设置可以相对封闭不接触大气的溅射真空室，通过可变轨迹的传送轨道将各真空室相连接；当工件车进入预真空室后，对预真空室抽真空，使其真空度达到与溅射真空室的真空度相同；在相同的真空度下，工件车由预真空室进入溅射真空室，并对太阳能集热管的表面进行太阳能选择性吸收涂层的溅射沉积；完成全部溅射作业后，工件车进入与溅射室具有相近真空度的末端真空室；关闭溅射真空室后，使所述末端真空室达到常压状态，工件车移至末端真空室外部。本发明大大减少了因溅射室暴露大气污染溅射环境，提高了生产效率，提高了作业效率及镀膜质量。
太阳能热管连续自动溅射镀膜方法装置

[发明专利]一种离子束溅射镀膜设备-CN202011315012.5在审
发明人：范江华;胡凡;陈特超;毛朝斌;罗超;程文进 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子束溅射镀膜设备，包括预真空腔室、溅射腔室、基片台、溅射离子源、清洗离子源和溅射靶台，预真空腔室与溅射腔室对接且二者之间设置一控制通断的隔离阀，基片台位于溅射腔室内并可从溅射腔室移动至预真空腔室内，清洗离子源设于溅射腔室内并与基片台相对布置，溅射靶台可旋转的设于溅射腔室内，溅射离子源可旋转的设于溅射腔室内，溅射离子源朝向溅射靶台，溅射靶台朝向基片台。本发明具有优化溅射工艺膜层均匀性以及沉膜速率、防止溅射离子束超出溅射靶材范围导致所沉积膜层引入杂质、利于缩小溅射靶材尺寸，提高溅射靶材有效利用率、降低溅射靶材使用成本的优点。
一种离子束溅射镀膜设备

[发明专利]一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线-CN201510237296.3在审
发明人：魏永祥;魏长龙;马东 -专利权人：枣庄市锦华镀膜玻璃有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有三套溅射源的磁控溅射镀膜生产线，包括真空预抽室、真空镀膜室、第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源、过渡室，所述真空预抽室和真空镀膜室及过渡室依次连接，所述真空镀膜室内安装第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源，所述第一溅射源、第二溅射源、第三溅射源依次平行设置。该生产线使产品膜层更均匀牢固，成膜书读快，生产效率高合格率高，生产出更丰富多样的产品种类，溅射源使用寿命长，膜层厚度易于控制，节约功耗，单位时间及电量能生产更多的优质产品。
一种具有溅射磁控溅射镀膜生产线

[实用新型]磁控阴极溅射镀膜工艺室-CN201320412833.X有效
发明人：陆仁立 -专利权人：重庆春江镀膜玻璃有限公司
申请日： 2013-07-11 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及玻璃镀膜生产技术领域，公开一种磁控阴极溅射镀膜工艺室，包括依次连通的入口气锁室、入口真空缓冲腔室、磁控阴极溅射镀膜真空腔室、出口真空缓冲腔室和出口气锁室，所述入口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室，磁控阴极溅射镀膜真空腔室包括至少16个溅射单元腔室，所述出口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室；本实用新型的磁控阴极溅射镀膜工艺室，在磁控阴极溅射镀膜真空腔室两端设置真空缓冲室和锁定室，可有效降低玻璃基片进出磁控阴极溅射镀膜真空腔室造成的气体泄漏，提高磁控阴极溅射镀膜真空腔室的真空度，并使其维持在稳定的水平，从而提高镀膜质量。
阴极溅射镀膜工艺

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