专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种治理重金属污染的土壤修复剂及其制备方法-CN202211034987.X在审
  • 任敬敬 - 任敬敬
  • 2022-08-26 - 2023-01-13 - C09K17/40
  • 本发明公开了一种治理重金属污染的土壤修复剂及其制备方法,涉及土壤修复剂技术领域。本发明在制备治理重金属污染的土壤修复剂时,先将4‑羧基‑噻唑‑2‑甲醛和4‑羟基‑3,5‑双(3‑甲基‑2‑丁烯‑1‑基)苯甲醛腙功能化活性炭,形成噻唑席夫碱,制备得到土壤修复剂;再依次利用乙二酸端羟基聚丙烯酰胺和三氯氧磷对土壤修复剂循环浸渍两次,形成含磷酸三脂的树状结构的土壤修复剂和咪唑盐,制备得到治理重金属污染的土壤修复剂。本发明制备的治理重金属污染的土壤修复剂对重金属污染和板结土壤的修复效果较好。
  • 一种治理重金属污染土壤修复及其制备方法
  • [发明专利]一种印制线路板及其制备方法-CN202110989052.6在审
  • 唐昌胜 - 深南电路股份有限公司
  • 2021-08-26 - 2023-03-03 - H05K3/42
  • 本发明公开了一种印制线路板及其制备方法,其中,印制线路板的制备方法包括:对散热件进行钻孔,以在散热件上制备出至少一个导热孔;在散热件的至少一侧依次层叠放置绝缘层和导电层,并进行压合,得到压合板件;对压合板件依次进行控深以及金属化,以在压合板件上分别制备出至少一个导电孔;对压合板件的导电层进行图形转移,以制备印制线路板;其中,至少一个导电孔与至少一个导热孔对应,且分别位于对应的至少一个导热孔内。
  • 一种印制线路板及其制备方法
  • [发明专利]一种耐高温益生菌发酵茶的制备方法及其产品-CN202211369895.7在审
  • 陈皓玮;陈怀瑾;罗燕 - 上海胜永元生物科技有限公司
  • 2022-11-03 - 2023-03-03 - A23F3/10
  • 本发明提供一种耐高温益生菌发酵茶的制备方法及其产品,所述方法步骤如下:步骤1、采摘前处理:将新鲜采摘的茶叶嫩芽进行杀青或萎凋;步骤2、揉捻:将步骤1处理过的茶叶进行揉捻;步骤3、植入菌株:往揉捻后的茶叶中植入7种菌株菌液;步骤4、发酵:植菌后进行常温发酵,当用于制备绿茶时发酵20‑24小时,当用于制备红茶时发酵72‑84小时;步骤5、干燥:发酵后的茶叶在40‑45℃下进行干燥,至茶叶含水量为10‑13%即可本发明制备的茶叶风味与口感好、苦涩味降低、保存期长,同时没食子酸与茶多糖含量大大提高,可减少现有制备方式得到的茶叶对人体健康造成的无形伤害。
  • 一种耐高温益生菌发酵制备方法及其产品
  • [发明专利]一种美术用油画颜料及其制备方法-CN202111006489.X在审
  • 林景忠 - 福建波普画材科技有限公司
  • 2021-08-30 - 2023-03-03 - C09D5/06
  • 本发明涉及一种美术用油画颜料及其制备方法,包括以下步骤:步骤(1),干燥;步骤(2),分散;步骤(3),混合,本发明提供的一种美术用油画颜料及其制备方法,通过先将原料和填料进行干燥,然后对干燥后的原料和填料进行粉碎,过分样筛,将经过处理后的原料和填料加入研钵,并加入环氧树脂和无水乙醇进行研磨,最后与其他各种助剂进行混合制备得到颜料,相对于现有技术中,油画颜料大多制造工艺流程较为复杂,成本高,且存在安全隐患的问题,本发明的制备工艺简便,操作流程简洁,成本低,且安全性高,显著地改善了油画颜料的制备工艺,且制得的颜料色彩均匀,性能优越,具有广阔的应用前景。
  • 一种美术油画颜料及其制备方法
  • [发明专利]一种浅槽隔离结构制备方法-CN202310005219.X在审
  • 周菲菲;詹衎;曾婵 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2023-01-04 - 2023-03-07 - H01L21/762
  • 本发明提供一种浅槽隔离结构制备方法,所述制备方法包括:提供一中间结构,于所述中间结构上表面形成掩膜层;于所述掩膜层上表面形成研磨停止层,所述研磨停止层包括氮氧化硅层;于所述研磨停止层上表面形成具有开口图形的光刻胶层;基于所述开口图形在所述中间结构中形成沟槽,并填充所述沟槽形成隔离层;基于所述研磨停止层采用化学机械研磨工艺平坦化所述隔离层;刻蚀去除所述研磨停止层及所述掩膜层,制备得到所述浅槽隔离结构。本发明提供的浅槽隔离结构制备方法能够解决现有浅槽隔离结构制备工艺中执行化学机械研磨工艺会产生蝶形缺陷,造成器件短路的问题。
  • 一种隔离结构制备方法

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