专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高频薄膜本体滤波器的制法及其装置-CN01131052.9有效
  • 李传英 - 华邦电子股份有限公司
  • 2001-09-10 - 2003-03-19 - H03H3/00
  • 为提供一种减低制程的复杂度、提高产能、降低成本的集成电路基本组件的制法及其装置,提出本发明,本发明高频薄膜本体滤波器的制法包括于基底的上表面形成氧化层、于氧化层上依序形成第一金属层、压电材料层、第二金属层;定义上电极板及压电层于第一金属层形成孔洞及于氧化层形成凹室;本发明高频薄膜本体滤波器装置包括基底、设于基底上方形成凹室的部分区域呈不连续的氧化层、设于部分区域呈不连续氧化层上方以呈略悬空状的下电极板
  • 高频薄膜本体滤波器制法及其装置
  • [实用新型]一种新型EI矽钢片-CN201720609078.2有效
  • 王惠祥 - 东莞市闽广电子有限公司
  • 2017-05-27 - 2018-01-26 - H01F7/02
  • 本实用新型公开了一种新型EI矽钢片,包括E型片体和I型片体,所述E型片体一侧设有I型片体,所述E型片体一侧设有咬合边,所述E型片体内部设有抗氧化镀膜层和矽钢层,且矽钢层位于两侧抗氧化镀膜层之间,所述抗氧化镀膜层一侧设有抗磨损镀膜层,所述E型片体和I型片体表面均设有固定孔。本实用新型通过采用EI型设计,片体整体成型,在咬合边表面进行打磨处理,将其表面粗糙化,有利于两片之间的接合,粗糙咬合边能够有效的防止打滑,通过设有的固定孔,能够使整体稳定固定,表面抗磨损镀膜层防止整体抗氧化镀膜层较快的被磨损
  • 一种新型ei矽钢片
  • [发明专利]SOI金氧半场效电晶体-CN02106276.5有效
  • 苏哿暐;何肇康;杨富量;詹宜陵 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2002-04-08 - 2003-10-22 - H01L29/78
  • 本发明揭露一种SOI金氧半场效电晶体,其包含一半导体基板、一层埋层氧化层、一层,并包含复数个浅渠沟隔绝区域、一母体、一源极、一汲极、与一母体接触窗区域,其皆位于所述层中,其中所述母体接触窗区域位于所述源极的同一侧并且与所述通道区域分离本发明的电晶体更包含一层闸极氧化层、一复晶闸极与一分支复晶层,所述分支复晶层系与所述复晶闸极呈T形连接,其延伸经过所述源极并超过所述母体接触窗区域。本发明的电晶体更包含一闸极接触窗,所述闸极接触窗系位于所述复晶闸极的延伸线上并连接至所述复晶闸极。
  • soi半场电晶体
  • [实用新型]一种稳压调压器的矽钢片-CN201720132213.9有效
  • 吴晓东 - 东莞市雄顺五金制品有限公司
  • 2017-02-14 - 2017-09-01 - H01F7/02
  • 本实用新型公开了一种稳压调压器的矽钢片,包括片体和固定孔,所述片体表面设有固定孔,所述片体一侧设有咬合边,所述片体表面设有抗氧化镀膜层和矽钢层,且矽钢层位于抗氧化镀膜层之间,所述抗氧化镀膜层一侧设有抗磨损镀膜层本实用新型通过它采用F型设计,片体整体成型,在咬合边表面进行打磨处理,将其表面粗糙化,有利于两片直接的接合,固定孔的设计方便整体能够稳定固定,表面抗磨损镀膜层防止整体抗氧化镀膜层较快的被磨损,导致工件整体锈蚀
  • 一种稳压调压器矽钢片
  • [发明专利]一种制作氧层的方法-CN02124711.0有效
  • 黄正杰;刘泽炜;余堂 - 联华电子股份有限公司
  • 2002-06-21 - 2003-02-12 - H01L21/316
  • 本发明系提供一种于一半导体晶片上制作一氧层的方法,以增加该氧层之沉积速率与均匀度,并减少氯化氢(hydrochloricacid,HCl)之生成,以避免进行高温氧化(hightemperatureoxidation本发明制作方法是使用反应摩尔(mole)数比约为1∶2,流速比大于2∶1之二氯烷(dichlorosilane,DCS,SiH2Cl2)以及氧化亚氮(nitrousoxide,N2O)作为反应气体,进行一HTO制程,以于该半导体晶片表面形成该由二氧化(silicondioxide)构成之氧层。
  • 一种制作矽氧层方法
  • [发明专利]一种用于将该双闸极与双多晶电容器制程整合-CN201110122854.3无效
  • 费金华 - 吴江华诚复合材料科技有限公司
  • 2011-05-13 - 2012-11-14 - H01L21/82
  • 本发明提供一种用于将该双闸极与双多晶电容器制程整合,以制造一类比电容器积体电路装置的方法系被说明。设置一个隔离区,以将半导体基板中的一第一主动区与一第二主动区隔离。一个第一闸极氧化物层被形成于二个主动区中的半导体基板上。一个第一多晶层被沈积于该第一闸极氧化物层与隔离层上。包含一个氧化物层与一个氮化物层的一电容器介电质层被沈积于该第一多晶层上。未为遮罩所覆盖的该电容器介电质层与第一多晶层被蚀刻移除,而形成一个第一多晶闸极电极于该第一区中,以及在隔离区上方形成一多晶下电容板与位于下电容板上的电容器介电质。在第二区中的该第一闸极氧化物被移除,以及一个较薄的第二闸极氧化物层被形成于该第二区中。一个第二多晶层被沈积于该第二闸极氧化物层、下电容板与电容器介电质以及该第一多晶闸电极上方。未为遮罩所覆盖的该第二多晶层被蚀刻移除,而形成一个第二多晶闸极电极于该第二区中,以及形成一个上电容板在该下电容板上方,其中该电容器介电质位于该上、下电容板之间。
  • 一种用于双闸极多晶电容器整合
  • [发明专利]一种复合壳体-CN201310570835.6在审
  • 朱亮 - 朱亮
  • 2013-11-17 - 2014-03-05 - C09K3/18
  • 该壳体包括一基体、以及依次形成于基体表面的一二氧化薄膜及一氧化锌薄膜,所述二氧化薄膜具有微米量级的结构,所述氧化锌薄膜具有奈米量级的结构,该氧化锌薄膜具有奈米量级的结构,属于卫浴清洁材料。
  • 一种复合壳体

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