专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氢氟酸清洗机的制造方法-CN201410227528.2在审
  • 翟正平;张胜芳;张秋霞 - 镇江跃进机械厂有限公司
  • 2014-05-27 - 2016-01-27 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种氢氟酸清洗机的制造方法:选择适合氢氟酸耐腐蚀要求的板材,且要求不影响超声波的效果;按照尺寸要求制作清洗槽;将清洗槽在清洗机上安装到位,调试清洗超声波强度,达到使用标准;加入氢氟酸溶剂,确认耐腐蚀效果本发明的优点是能够较好的适应氢氟酸溶剂的腐蚀要求,并且达到超声波的强度测试要求,可以减少因金属结构清洗槽不能满足氢氟酸溶剂使用工艺要求而造成的不必要的损失,满足清洗新工艺要求,并且更好的延长清洗机使用寿命
  • 一种氢氟酸清洗制造方法
  • [实用新型]一种专用于口腔临床牙科修复体的氢氟酸智能自动处理仪-CN202221061408.6有效
  • 李春燕;陈科名;李祥伟 - 中山大学附属第五医院
  • 2022-05-05 - 2023-04-28 - A61C13/38
  • 本实用新型公开了一种专用于口腔临床牙科修复体的氢氟酸智能自动处理仪,包括箱体;箱体内设有层板,层板设有漏水孔,层板将箱体分隔出操作层和收集层;漏水孔连通操作层和收集层;操作层内绕漏水孔安装有夹持机构、氢氟酸涂抹机构和水气清洗机构;收集层的一侧开放,收集层滑动安装有废液收集器;箱体外侧还安装有控制面板,控制面板用于控制夹持机构、氢氟酸涂抹机构和水气清洗机构;夹持机构用于夹持待使用的修复体移动至氢氟酸涂抹机构和水气清洗机构;水气清洗机构用于给被夹持的修复体清洗和吹干;通过夹持机构夹持修复体,在箱体内进行氢氟酸的涂抹腐蚀和清洗风干处理,箱体的阻挡,可避免人工操作时氢氟酸的飞溅和氢氟酸气化。
  • 一种专用口腔临床牙科修复氢氟酸智能自动处理
  • [发明专利]一种用于势垒前的氢氟酸清洗工艺-CN201910486732.9有效
  • 杨亚峰;赵顺;郭现听;王毅;张玉明 - 扬州扬杰电子科技股份有限公司
  • 2019-06-05 - 2021-07-09 - H01L21/02
  • 一种用于势垒前的氢氟酸清洗工艺。涉及半导体器件制造领域,尤其涉及一种用于势垒前的氢氟酸清洗工艺。提供了一种通过控制氢氟酸雾的量,保证腐蚀稳定,提高产品质量的用于势垒前的氢氟酸清洗工艺。本发明在工作中,通过对FSI清洗机改造后增加氢氟酸雾可以有效地去除表面的水渍残留和氧化层;同时氢氟酸雾的量需要控制,太少无法保证表面残留能去除干净,过多会导致晶圆外观缺陷;在保证腐蚀量的同时,还需要避免氢氟酸雾不能长时间的吹扫晶圆表面,故增加冷甩时间,降低通氢氟酸雾时的腔体温度,减少氢氟酸雾的扩散,稳定腐蚀量。
  • 一种用于势垒前氢氟酸清洗工艺
  • [发明专利]硅片清洗液及其清洗方法-CN200810067515.8有效
  • 李杰 - 深圳深爱半导体有限公司
  • 2008-05-29 - 2009-08-12 - C11D7/26
  • 本发明公开了一种硅片清洗液,主要由乙醇和氢氟酸经混合配成,所述乙醇与氢氟酸的体积比为35~45∶1,所述乙醇的质量百分比浓度为18%~100%,所述氢氟酸由氟化氢和去离子水配成,其质量百分比浓度为48%本发明还公开了一种清洗硅片的方法,包括步骤:用去离子水清洗硅片;采用上述硅片清洗清洗硅片。本发明的硅片清洗液及其清洗方法,能有效去除有机物沾污,提高氢氟酸清洗液的背面清洗效果。
  • 硅片清洗及其方法
  • [发明专利]一种氢氟酸循环利用洗石墨舟的方法-CN202010133589.8有效
  • 姚骞;张忠文;谢毅 - 通威太阳能(眉山)有限公司
  • 2020-02-28 - 2023-07-25 - H01L21/311
  • 本发明涉及太阳能电池生产制造技术领域,具体是一种氢氟酸循环利用洗石墨舟的方法,用于解决现有技术中在电池片的清洗过程中对氢氟酸浪费较大的问题。本发明包括以下步骤:步骤1:将使用过的旧氢氟酸收集并储存在废酸储存池中;步骤2:将废酸储存池中的旧氢氟酸抽入自配存放池中;步骤3:测量自配存放池中的旧氢氟酸浓度;步骤4:根据测量自配存放池中旧氢氟酸的浓度,向自配存放池中加入新氢氟酸或者清水,直到自配存放池中旧氢氟酸的浓度达到要求为止;步骤5:将自配存放池中的旧氢氟酸加入石墨舟清洗槽中,并将带返工片的花篮放入石墨舟清洗槽中浸泡。本发明中通过上述方法可以节省大量的氢氟酸
  • 一种氢氟酸循环利用石墨方法
  • [发明专利]一种石墨舟自动清洗装置及方法-CN201610107206.3在审
  • 刘红明;顿海龙;张红伟;王海涛 - 天津英利新能源有限公司
  • 2016-02-26 - 2016-05-04 - B08B3/08
  • 本发明提供了一种石墨舟自动清洗装置及基于该装置的清洗方法,通过隔膜循环泵将氢氟酸经由管路补充至设备内,加液过程中安全门完全闭合,氢氟酸与外界隔绝,且当安全门被打开时加液自动停止,不会发生液体飞溅,保障了操作人员安全;所用的氢氟酸用量,鼓泡清洗时间、水浴去酸时间等参数可以通过触摸屏进行设置,直观方便,不需要人工监视和操作,节约了人工成本,本发明具有急停装置,在发生意外情况时,可以及时关闭所有工作阀门,防止意外情况扩大本发明可以通过流量计保证氢氟酸用量稳定,同时可以通过触摸屏更改氢氟酸的加液量,比人工加酸更稳定。清洗去酸过程中通过设置在清洗槽内部的氢氟酸浓度传感器确定清洗程度,更加安全可靠。
  • 一种石墨自动清洗装置方法
  • [发明专利]一种多晶硅化学机械研磨后的清洗方法-CN201711191628.4在审
  • 周小红;闵源;周小云;蒋阳波 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2017-11-24 - 2018-05-04 - H01L21/02
  • 本发明提供了一种化学机械研磨后的清洗方法,其特征在于包括以下步骤颗粒物清洗;第一道刷洗(Brush1),采用氨水作为清洗剂配合刷子对晶圆表面进行刷洗;第二道刷洗(Brush2),采用氢氟酸溶液作为清洗剂配合刷子对晶圆表面进行刷洗通过调整了常规清洗工艺中两道刷洗的工艺顺序,将对氧化硅具有明显破坏作用的氢氟酸溶液刷洗工序置后,如此通过工序的调整,使得多晶硅表面在进行氨水刷洗时,能够得到颗粒物清洗时产生的氧化硅层的保护,从而避免了氨水对于多晶硅表面的腐蚀而产生粗糙化的破坏;同时减少了氢氟酸溶液刷洗时的氢氟酸溶液流量,既减少了氢氟酸溶液从而节省了成本,又能够减少氢氟酸溶液对于多晶硅表面的损伤。
  • 一种多晶化学机械研磨清洗方法
  • [实用新型]一种石墨舟自动清洗装置-CN201620146094.8有效
  • 刘红明;顿海龙;张红伟;王海涛 - 天津英利新能源有限公司
  • 2016-02-26 - 2016-08-17 - B08B3/08
  • 本实用新型提供了一种石墨舟自动清洗装置,通过隔膜循环泵将氢氟酸经由管路补充至设备内,加液过程中安全门完全闭合,氢氟酸与外界隔绝,且当安全门被打开时加液自动停止,不会发生液体飞溅,保障了操作人员安全;所用的氢氟酸用量,鼓泡清洗时间、水浴去酸时间等参数可以通过触摸屏进行设置,直观方便,不需要人工监视和操作,节约了人工成本,本实用新型具有急停装置,在发生意外情况时,可以及时关闭所有工作阀门,防止意外情况扩大。本实用新型可以通过流量计保证氢氟酸用量稳定,同时可以通过触摸屏更改氢氟酸的加液量,比人工加酸更稳定。清洗去酸过程中通过设置在清洗槽内部的氢氟酸浓度传感器确定清洗程度,更加安全可靠。
  • 一种石墨自动清洗装置

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