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[发明专利]进气歧管-CN201710574895.3有效
发明人：中村健英;大薮大悟 -专利权人：爱三工业株式会社
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： F02M35/104 文献下载
摘要：使气体集合腔室中的压力变动减少，抑制从气体分配部向各分支管分配的辅助气体浓度的波动。进气歧管(1)具备稳压箱(2)、多个分支管(3C)以及分配辅助气体的气体分配部(8)。气体分配部(8)具备辅助气体用的气体导入管、使来自气体导入管的辅助气体集合的气体集合腔室(12)、从该气体集合腔室(12)分支并与各分支管(3C)连接的多个气体分配通路(13C)。各气体分配通路(13C)成为分别扩大容积而成的气体分配腔室(14C)。在各气体分配腔室(14C)与气体集合腔室(12)之间设有辅助气体用的气体导入孔(15C)，在各气体分配腔室(14C)与各分支管(3C)之间设有向各分支管(3C)导出辅助气体的气体导出孔(16C)。
辅助气体分支管气体集合腔室气体分配腔室气体分配部气体导入管进气歧管气体分配气体导入孔压力变动导出孔稳压箱导出分配集合

[发明专利]反应腔室-CN201410655635.5有效
发明人：聂淼 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-11-18 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室，其包括腔室侧壁和设置在腔室侧壁顶部的气体分配板，腔室侧壁的上表面与气体分配板的下表面相互间隔，且在二者之间设置有密封圈，该密封圈采用线接触的方式分别与腔室侧壁的上表面和气体分配板的下表面相接触本发明提供的反应腔室，其可以减小气体分配板和腔室侧壁之间的热传递，从而可以提高气体分配板和腔室侧壁的温控精度。
反应

[发明专利]用于处理系统的动态多区流动控制-CN202080040111.9在审
发明人： D·R·本杰明拉吉;G·E·奇可卡诺夫;S·斯里瓦斯塔瓦;S·S·阿迪帕利;N·S·乔拉普尔;A·凯什里;A·邱 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：在一个实例中，一种工艺腔室包括：盖组件、第一气体供应、第二气体供应、腔室主体、以及基板支撑件。所述盖组件包括气体箱、穿过所述气体箱的气体导管、挡板、以及喷头。所述气体箱包括气体分配气室和分配板，所述分配板包括多个孔洞，所述多个孔洞与所述气体分配气室对齐。所述挡板耦接所述气体箱而形成第一气室。所述喷头耦接所述挡板而形成第二气室。所述第一气体供应耦接所述气体分配气室，且所述第二气体供应系统耦接气体导管。所述腔室主体耦接所述喷头，并且所述基板支撑组件设置在所述腔室主体的内部空间内，并且经配置在处理期间支撑基板。
用于处理系统动态流动控制

[发明专利]进气歧管-CN201810164105.9在审
发明人：中村健英;西川康弘 -专利权人：爱三工业株式会社
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： F02M35/10 文献下载
摘要：针对从气体分配部向多个分支管分配的辅助气体减少各分支管之间的浓度波动。进气歧管(1)具备分配辅助气体的气体分配部(8)。气体分配部具备：气体导入管(11)；气体腔室(12)，其使来自气体导入管的辅助气体集合；多个分配管(13A‑13C)，其从气体腔室分支，与各分支管连接；预备腔室(14)，其使导入到气体导入管的辅助气体在向气体腔室集合之前集合；多个扩散孔(15A、15B)，其设置于两腔室(12、14)之间，使辅助气体从预备腔室向气体腔室扩散。各扩散孔和各分配管彼此配置于隔着气体腔室的相反侧，各扩散孔(15A、15B)以与各分配管(13A‑13C)中的相邻的两个分配管(13A、13B)或(13B、13C)之间相对的方式配置。
辅助气体气体腔室分配管气体导入管气体分配部进气歧管分支管扩散孔集合预备腔方式配置浓度波动相反侧分配腔室扩散配置

[发明专利]EGR气体分配器-CN201811312231.0在审
发明人：曹海翔;吉冈衛;安江昭成 -专利权人：爱三工业株式会社
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： F02M26/35 文献下载
摘要：本发明提供一种EGR气体分配器，其抑制在EGR气体分配器的气体室中产生的凝结水自气体分配管经由进气歧管的分支管向发动机吸入。该EGR气体分配器(1)向进气歧管的多个分支管(4)的各分支管分配EGR气体，其包括：腔室壳体(32)，其具有气体室(31)，并向横跨多个分支管(4)的方向延伸；气体导入管(11)，其设置于腔室壳体(32)，用于向气体室(31)导入EGR气体；多个气体分配管(12A～12D)，其自腔室壳体(32)分支，并且为了自气体室(31)向各分支管(4)分配EGR气体而沿着所述壳体(32)的长度方向隔开间隔地配置；以及凝结水流抑制手段(12e、33、34)，其用于抑制在气体室(31)中产生的凝结水向气体分配管(12A～12D)中流入。
分支管气体室分配器气体分配管腔室壳体进气歧管凝结水气体导入管方向延伸隔开间隔分配壳体吸入横跨发动机凝结配置

[发明专利]一种碳化硅纤维裂解室和碳化硅纤维裂解系统-CN201711308956.8有效
发明人：胡高健;胡祥龙;戴煜 -专利权人：湖南顶立科技有限公司
申请日： 2017-12-11 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： D01F9/10 文献下载
摘要：本申请公开一种碳化硅纤维裂解室，包括：排气主通道；设于排气主通道两侧、且与排气主通道连通的分腔室体；设于排气主通道一端的尾气排气口；分腔室体内设有：工艺气体分配室、可与工艺气体分配室连通的分腔热裂解室，位于工艺气体分配室、分腔热裂解室之间的工艺气体分配板；工艺气体分配室开设有用于工艺气体输入的工艺进气口；分腔热裂解室内设有用于放置工件的裂解室主体；工艺气体分配板上开设有工艺气体分配口。本申请提供的碳化硅纤维裂解室，与现有技术相比，其能够克服裂解过程中由于进气端和排气端裂解气的差异导致的碳化硅纤维表面质量差的问题，显著地提高碳化硅纤维表面质量，本申请还提供一种碳化硅纤维裂解系统，同样具有上述有益效果
一种碳化硅纤维裂解系统

[发明专利]高温真空密封-CN202180033050.8在审
发明人：穆罕纳德·穆斯塔法;穆罕默德·M·拉希德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：描述了气体分配组件和包括气体分配组件的处理腔室。气体分配组件包括气体分配板、盖、和主要O形环。将主要O形环放置于气体分配板的第一接触表面的净化通道和第二接触表面之间。描述了使用公开的气体分配组件密封处理腔室的方法。
高温真空密封

[发明专利]富氧燃烧循环流化床反应器及其操作和升级方法-CN200980149066.4无效
发明人： T.埃里克森 -专利权人：福斯特韦勒能源股份公司
申请日： 2009-12-04 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： F23C10/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种富氧燃烧循环流化床反应器，该反应器包括反应器腔室（15）和设置在反应器腔室的底部区段中用于将气体引导到反应器腔室内的气体分配装置（50），该气体分配装置包括具有气体引导喷嘴的风箱腔室以及用于将气体引导到风箱腔室内的第一气体输送系统（70），该气体引导喷嘴被布置成用于将气体从风箱腔室引导到反应器腔室内并具有通向风箱腔室的入口。该气体分配装置（50）还包括用于在至少一个喷嘴入口（62）附近将气体引导到风箱腔室的第二气体输送系统（80）。
燃烧循环流化床反应器及其操作升级方法

[发明专利]等离子体处理设备、气体分配装置以及气体输送方法-CN200810118805.0有效
发明人：于大洋 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2008-08-22 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种气体分配装置及其所应用的等离子体处理设备，所述气体分配装置包括上中下三层分配板，三层分配板之间形成两条相互隔离的气体输送路径，该两条气体输送路径完全隔离，容易反应的气体因此可以通过不同的输送路径进入等离子体处理设备的反应腔室，有效避免了容易反应的气体在气体分配装置中的接触，进而完全消除了气体在进入反应腔室之前发生反应的可能。同时，由于上述两条气体输送路径相交错，自不同输送路径进入反应腔室的两路气体可以实现较为充分的混合。本发明还提供一种用于向等离子体处理设备的反应腔室中输送气体的方法，将容易反应的气体自不同的路径输入反应腔室中，消除了气体进入反应腔室之前发生反应的可能。
等离子体处理设备气体分配装置以及输送方法

[发明专利]供给系统和使用供给系统的方法-CN201780020748.X有效
发明人： R·A·格里桑;L·E·达斯托尔夫;D·卢西;M·瑞派彼 -专利权人：美铝美国公司
申请日： 2017-03-30 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： B65G53/66 文献下载
摘要：在一个实施方案中，一种用于分配流化进料的供给系统包括：分配单元，该分配单元被配置为使进料流化；以及控制单元，该控制单元流体地联接到该分配单元，其中该控制单元包括：腔室，该腔室被配置为盛放从该分配单元提供的进料；以及流体地联接到该腔室的供给器单元；以及第二气体入口，该第二气体入口被配置为向该腔室提供气体；以及出料管，该出料管流体地联接到该腔室和该第二气体入口。
供给系统使用方法

[发明专利]基板处理设备和用于气体分配板的温度控制方法-CN201911188186.7有效
发明人：周允植;徐相宝;孔炳铉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种基板处理设备，其包括：腔室，在所述腔室中具有处理空间，基板在所述处理空间中被处理；基板支撑组件，所述基板支撑组件位于所述腔室中并且包括支撑所述基板的支撑板；气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应到所述腔室中；气体分配板，所述气体分配板分配所述气体并且将所述气体供应到所述处理空间中；以及温度控制单元，所述温度控制单元控制所述气体分配板的温度。所述温度控制单元包括：加热构件，所述加热构件加热所述气体分配板；冷却构件，所述冷却构件冷却所述气体分配板；以及控制构件，所述控制构件基于关于所述加热构件和所述冷却构件的相互作用的相关系数和关于外部影响的干扰系数来控制所述加热构件和所述冷却构件
处理设备用于气体分配温度控制方法

[发明专利]基板加工装置及基板加工方法-CN201810166418.8有效
发明人：韩政勋;黃喆周;徐承勋;李相敦 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2013-05-28 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了一种加工基板的装置和方法，其中，所述装置包括：加工腔室；用于支撑至少一个基板的基板支撑体，其中，所述基板支撑体设置在所述加工腔室中，并朝预定方向旋转；与所述基板支撑体相对的腔室盖，所述腔室盖用于覆盖所述加工腔室；以及具有用于将气体分配给所述基板的多个气体分配模块的气体分配器，其中，每个所述气体分配模块连接到所述腔室盖，其中，每个所述气体分配模块包括彼此相对的电源电极和接地电极，在所述电源电极和所述接地电极之间形成等离子体放电空间
加工装置方法

[发明专利]基板加工装置及基板加工方法-CN201380029010.1有效
发明人：韩政勋;黃喆周;徐承勋;李相敦 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2013-05-28 - 公布日： 2018-04-06 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：公开了一种加工基板的装置和方法，其中，所述装置包括加工腔室；用于支撑至少一个基板的基板支撑体，其中，所述基板支撑体设置在所述加工腔室中，并朝预定方向旋转；与所述基板支撑体相对的腔室盖，所述腔室盖用于覆盖所述加工腔室；以及具有用于将气体分配给所述基板的多个气体分配模块的气体分配器，其中，每个所述气体分配模块连接到所述腔室盖，其中，每个所述气体分配模块包括彼此相对的电源电极和接地电极，在所述电源电极和所述接地电极之间形成等离子体放电空间
加工装置方法

[发明专利]带有布置于平面中的前腔室的气体分配器-CN200680003148.4有效
发明人：马库斯·莱因霍尔德;彼得·鲍曼;格哈特·K·斯特劳奇 -专利权人：艾克斯特朗股份公司
申请日： 2006-01-05 - 公布日： 2008-01-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种用于CVD或OPVD反应器的气体分配器，包括两个或更多的气体空间(1、2)，在每个空间中开有用于过程气体的供应管线(3、4)，每个气体空间(1、2)都连接到用于各个过程气体的多个出口开口(6、7)上，所述开口出口开在气体分配器的底部(5)中。为了增加气体成分的均质性，两个气体空间(1、2)具有位于共用第一平面(8)的前腔室(10、10’、11)，分别与一个气体空间相关联的多个气体分配腔室(12、13)设置在第二平面(9)中，临近气体分配器的底部，每个气体空间(1、2)的前腔室(10、10’、11)和气体分配腔室(12、13)通过连接通道(14、15)连接。
带有布置平面中的前腔室气体分配器

[发明专利]垂直分配式蓄热燃烧设备-CN201680063966.7有效
发明人：权纯穆 -专利权人： (株)详原机械
申请日： 2016-11-03 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： F23G7/06 文献下载
摘要：本发明涉及垂直分配式蓄热燃烧设备，即，在设备本体的内部，未处理的气体从侧方向吸入，向垂直上方的蓄热层供给及分配气体，处理的气体再次向蓄热层的垂直下方移动及分配，从而可向设备本体的侧方向排出，可在分配层内设置分配转子，可沿着垂直且水平方向使用，当相互组合多个设备本体时，设备本体之间没有空隙，而是以紧贴的状态垂直或水平组合，本发明包括：燃烧室，在上侧形成至少一个燃烧器；蓄热层，形成于上述燃烧室的下部，通过隔板，划分成多个蓄热腔室；分配层，与上述蓄热层及蓄热腔室的形态相对应地形成于蓄热层的下部，与上述蓄热层各自的蓄热腔室相对应地具有多个分配腔室；以及分配装置，分配转子垂直埋入设置，以向上述分配层的底部中央部上侧突出，通过上述分配转子的驱动，向分配层的各自分配腔室供给未处理气体或者向分配转子的外部排出。
蓄热层垂直转子设备本体分配层分配蓄热腔燃烧室分配腔室蓄热燃烧侧方向分配式未处理排出隔板垂直下方底部中央分配装置水平组合燃烧器埋入吸入紧贴驱动外部移动

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