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- [发明专利]燃烧除害装置-CN201280004451.1有效
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渡边信昭;涩谷和信;新冈正继;大石祐辅
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大阳日酸株式会社
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2012-08-09
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2013-09-11
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F23G7/06
- 本发明提供一种燃烧除害装置，该燃烧除害装置能够高效地对含有作为有害气体成分的可燃性气体成分的废气等被处理气体中的有害气体成分进行除害处理，其中，燃烧除害装置（10）包括：被处理气体导入管嘴（12），其用于导入含有有害气体成分的被处理气体；氧化剂导入管嘴（13），其用于从被处理气体导入管嘴的外周侧导入氧化剂；点火燃烧器（14），其用于在燃烧腔室（11）内形成火种；氢气导入部（16），其用于向供给到被处理气体导入管嘴的被处理气体中导入作为燃烧用燃料的氢气，并且氧化剂导入管嘴的管嘴轴线（13a）配置在朝向被处理气体导入管嘴的管嘴轴线（12a）的延长线上的方向上。
- 燃烧除害装置
- [发明专利]立式热处理装置及热处理方法-CN200980131526.0有效
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小林武史
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信越半导体股份有限公司
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2009-07-21
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2011-07-13
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H01L21/324
- 本发明是一种立式热处理装置，至少具备：反应管；用以保持基板的热处理用晶舟；用以加热基板的加热器；用以将环境气体导入反应管内的气体导入管；与气体导入管连接的气体供给管；形成在反应管下方所设置的凸缘体或反应管上且被气体导入管插通的进气口部；其特征在于：气体导入管与气体供给管的连接是在反应管外经由接头而进行的，该接头具有至少配备有凸缘部的金属制短管，该金属制短管的凸缘部经由O型环与设置于进气口部的凸缘部连接，由此连接形成的贯穿孔，其被气体导入管插通，并利用接头来连接气体供给管。由此，能提供一种不会在基板上产生模糊不清，能防止气体导入管的破损且能容易地将气体导入管与气体供给管连接的立式热处理装置。
- 立式热处理装置方法
- [实用新型]一种消防设施维保用可燃气体检测仪-CN202022512855.6有效
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王红波;邓艳苹;王地
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广东华粤湾建设有限公司
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2020-11-03
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2021-09-21
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G01N33/22
- 本实用新型涉及一种消防设施维保用可燃气体检测仪，包括检测仪主体以及样品气体导入管组件，样品气体导入管组件包括样品气体导入管、螺纹套以及取样头，螺纹套和取样头均与样品气体导入管连通，取样头的外侧带有外螺纹，取样头的端部螺纹连接进气套，进气套内安装微型气泵，进气套的端面上设有多个进气孔，微型气泵的气体输出端朝向样品气体导入管，样品气体导入管通过螺纹套方便现场组装在检测仪主体上，样品气体导入管组件方便拆装；样品气体导入管端部安装的微型气泵和进气套方便将外界的可燃气体高速导入到检测仪主体内进行实时浓度检测，在泄漏点不明显的情况下，可以快速吸入泄漏的可燃气体，提高了可燃气体检测效率和精度。
- 一种消防设施维保用可燃气体检测
- [发明专利]气相生长装置-CN02808797.6有效
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长谷部一秀;山本博之;梅原隆人;川上雅人
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东京毅力科创株式会社
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2002-03-13
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2004-09-01
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H01L21/31
- 本发明的气相生长装置具有在内部配置有基板的反应容器和第1气体导入部及第2气体导入部，其中第1气体导入部具有在上述反应容器内开口的、形成有气体喷出口的第1气体导入管，该第1气体导入部用于将由含有机金属的气体构成的第1气体供给上述反应容器内，第2气体导入部具有在上述反应容器内开口的、形成有气体喷出口的第2气体导入管，该第2气体导入部用于将与上述含有机金属的气体发生反应、并且比上述含有机金属的气体的密度小的第2气体，第1气体导入管的气体喷出口和第2气体导入管的气体喷出口沿着配置在上述反应容器内的基板的外周进行配置。
- 相生装置
- [实用新型]一种复合气体检测仪-CN201920548194.7有效
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佐久间启一
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新考思莫施电子（上海）有限公司
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2019-04-20
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2020-02-18
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G01N33/00
- 本实用新型公开了一种复合气体检测仪，涉及气体检测设备，包括检测器本体，检测器本体上连通有气体导入管，气体导入管远离检测器本体的一端连通有采集头，气体导入管靠近采集头的一端设有架高件，架高件上设有与气体导入管适配的卡接槽，气体导入管卡紧于卡接槽中，将气体导入管带有采集头的一端伸入管道中，将架高件直接放置在管道中，从而使得采集头悬空在管道中，避免管道中的水流或者是管壁上的水珠流进采集头中，导致气体导入管被污染，从而导致检测数据的误差，另外，操作人员也无需始终用手扶持气体导入管进行检测，从而简化操作。
- 一种复合气体检测
- [发明专利]离子源以及离子注入装置-CN201780039506.5有效
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汤瀬琢巳;寺泽寿浩;佐佐木德康
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株式会社爱发科
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2017-12-27
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2020-05-15
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H01J27/02
- 本发明提供一种令在离子源的离子生成容器中令离子化气体与离子原料反应而生成离子时产生的中间生成物附着到气体供给管的供给侧末端部及内壁面的量尽可能减少的技术。本发明的离子源具有令经由筒状的气体导入管（13）导入到容器中的离子化气体与释放到容器中的离子原料反应以生成离子的离子生成容器（11）。气体导入管（13）构成为通过气体供给管（14）将离子化气体导入至气体导入管（13）的内部空间（13b）。在气体导入管（13）的内部空间（13b）中设置具有冷却并捕集在离子生成容器（11）中产生的中间生成物的冷却捕集部（33）的拆装自如的冷却捕集构件（30）。冷却捕集部（33）在气体导入管（13）的内部空间（13b）的气体供给管（14）的供给侧末端部（14a）附近，配置为不接触气体导入管（13）的内壁面。
- 离子源以及离子注入装置
- [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201310173326.X有效
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仙波昌平;吹野康彦
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东京毅力科创株式会社
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2013-05-10
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2017-06-09
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H01L21/3065
- 本发明提供基板处理方法和基板处理装置，能够缩短在使用多种处理气体对基板连续地实施多个处理时所需要的时间。在具有腔室（11）和向该腔室导入处理气体的处理气体导入管路（12）的导入管（19）的基板处理装置（10）中，在对自上方以第1层、第2层以及第3层的顺序层叠有第1层、第2层以及第3层的基板（S）连续地实施蚀刻处理时，在蚀刻第1层后，使置换气体流入到导入管中而将残留在导入管、腔室中的第1蚀刻气体挤出而排出，在蚀刻第2层后，使置换气体流入到导入管中而将残留在导入管、腔室中的第2蚀刻气体挤出而排出，在蚀刻第3层后，使置换气体流入到导入管中而将残留在导入管、腔室的第3蚀刻气体挤出而排出。
- 处理方法装置
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