专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]气体分流装置-CN202222978258.1有效
  • 朱太荣;刘磊;张武;林佳继 - 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
  • 2022-11-09 - 2023-04-11 - F16K11/074
  • 本实用新型属于气体输送技术领域,公开了一种气体分流装置,该装置包括变径接头,变径接头一端与气源相连,变径接头的另一端的连接有分流盘,分流盘上设置有若干第一通行孔,气体分流装置还包括分流管,分流管的第一端与分流盘上的第一通行孔相连通过变径接头、分流盘和分流管能够使分流管的进气端与进气口的位置相同,从而使气体进入到分流管时的流量均匀,避免进气端距离进气口不同造成的气体流量不同,从而降低生产产品的不良率,提高生产效率。
  • 气体分流装置
  • [实用新型]气体分流装置-CN202223361499.8有效
  • 傅林坚;刘毅;曹建伟;朱亮;周建灿;吴正闪 - 浙江求是半导体设备有限公司
  • 2022-12-12 - 2023-07-04 - C30B25/14
  • 本实用新型公开一种气体分流装置,气体分流装置包括进气部、分流部和导流部,所述进气部包括多路金属波纹卡套管,所述分流部具有四个分流腔室,所述分流腔室与所述金属波纹卡套管相连通,在所述分流部的中心向所述分流部的边缘方向上所述分流腔室的体积减小,所述分流部背离所述金属波纹卡套管的一侧具有狭缝,所述狭缝与所述分流腔室连通,所述导流部与所述分流部具有狭缝的一侧相连通,所述导流部具有三个导流腔室,所述导流腔室与一个或多个所述狭缝对应,位于所述导流部中央的所述导流腔室的体积大于位于所述导流部边缘的所述导流腔室的体积本实用新型提供的气体分流装置具备气体流动均匀的优点。
  • 气体分流装置
  • [实用新型]气体分流装置-CN202223161636.3有效
  • 王莉君;何晓;汪谦 - 杭州贝斯特气体有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-03-17 - F17C13/00
  • 本实用新型提供了一种气体分流装置,属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着稳定性差的问题。本气体分流装置包括呈圆盘状的分流盘,所述分流盘内部为空腔且分流盘边沿处周向均布有若干分流孔,分流盘顶部具有进口,上述进口和分流孔均与分流盘内腔相通,还包括底座和连杆,所述底座呈筒状,上述连杆和底座内腔相匹配,连杆上端与分流盘下部固连,连杆下端嵌于底座内且在连杆和底座之间具有锁定结构,通过锁定结构能使连杆与底座之间定位连接。本气体分流装置稳定性高。
  • 气体分流装置
  • [发明专利]一种干法刻蚀装置-CN202010050682.2在审
  • 张光轩;豆海清;曾最新 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2020-01-17 - 2020-05-08 - H01L21/67
  • 本申请实施例公开一种干法刻蚀装置,所述装置包括:反应腔室以及分流部件;其中,所述分流部件用于将从所述反应腔室外流入的刻蚀气体分流成多路刻蚀气体后输入至所述反应腔室内;所述分流部件包括至少两级分流阀;其中,所述至少两级分流阀中的最上级分流阀,用于将流入的所述刻蚀气体按照第一流量比例分流成两路以上刻蚀气体,并将分流后的所述刻蚀气体输出至所述最上级分流阀的下一级分流阀;所述至少两级分流阀中的最下级分流阀,用于将所述最下级分流阀的上一级分流阀输出的一路刻蚀气体按照第二流量比例分流成两路以上刻蚀气体,并将分流后的所述刻蚀气体分别输入至所述反应腔室内。
  • 一种刻蚀装置
  • [实用新型]一种制氮机设备气体分流装置-CN202122711191.0有效
  • 康玉雷;陈中鸣;张立红 - 怀来华昌气分化工设备有限公司
  • 2021-11-08 - 2022-03-22 - B01D53/04
  • 本实用新型涉及氮气生产技术领域,且公开了一种制氮机设备气体分流装置,包括吸附塔,吸附塔内底壁搭接有支撑垫,支撑垫上活动连接有气体分流管,气体分流管外侧均匀地开设有多个切槽,支撑垫底部开设有连接管,吸附塔底部固定连接有进气管,切槽的直径为1mm,切槽沿气体分流管轴向延伸至,气体分流管下部设置有四分之三的无切槽区域。该一种制氮机设备气体分流装置,气体通过进气管与连接管,进入气体分流管的内壁中,通过气体分流管上开设有多个1mm的切槽,可以使得空气被分流,且有效的阻挡分子筛,气体分流管的下表面预留的四分之三的无切槽部分,提高了气体分流管的结构的牢固性,提高气流分流管的使用寿命。
  • 一种制氮机设备气体分流装置
  • [发明专利]一种在晶片上生长含碳薄膜的方法-CN201010615163.2有效
  • 徐强 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2010-12-30 - 2012-07-11 - C23C16/30
  • 本发明提供一种在晶片上生长含碳薄膜的方法,所述方法使用带有气体分流盘的反应室,且气体分流盘的气体分流面朝向反应室内,气体分流面具有气体分流孔,包括:a)经由气体分流孔向反应室内通入反应气体,以在气体分流面上生长牺牲薄膜,其中,生长牺牲薄膜的方法为等离子体增强化学气相沉积法;b)将晶片放入反应室内,经由气体分流孔向反应室内通入含碳气体以在晶片上生长含碳薄膜;c)移出晶片,并去除牺牲薄膜。本发明的方法能够防止高能量的等离子体对气体分流盘造成损伤,从而在既能彻底去除有机残留物的同时,又能避免损伤气体分流盘,从而既防止晶片遭受污染,又能提高生产含碳薄膜机器的使用寿命,从而提高生产效率、降低生产成本
  • 一种晶片生长薄膜方法
  • [发明专利]一种多孔气体分流板镀膜系统-CN202110884531.1有效
  • 张海飞;张洪国;王浩增;焦恒刚 - 江苏鹏举半导体设备技术有限公司
  • 2021-08-03 - 2022-08-09 - C23C26/00
  • 本申请公开了一种多孔气体分流板镀膜系统,包括进样机构、镀膜机构和退火机构,进样机构能够将多孔气体分流板逐个输送至镀膜机构,镀膜机构对多孔气体分流板进行镀膜,退火机构对镀好膜的多孔气体分流板进行退火。由此,进样机构能够将多孔气体分流板连续的一个一个推送出去,进行进样,镀膜机构可以对多孔气体分流板进行均匀的镀膜,镀好膜的多孔气体分流板最后通过退火机构进行退火冷却,最终完成多孔气体分流板的镀膜。制备得到的多孔气体分流板可以广泛用于ALD,CVD,PECVD,MOCVD等半导体工艺设备中,不仅可以延长多孔气体分流板的使用寿命,而且可以改善所生长薄膜的质量,如均匀性,致密度等,降低制造商的生产成本
  • 一种多孔气体分流镀膜系统
  • [发明专利]一种工业制造用激光焊接装置及其焊接方法-CN202011114145.6在审
  • 不公告发明人 - 肇庆中彩机电技术研发有限公司
  • 2020-10-18 - 2021-01-26 - B23K26/21
  • 本发明涉及激光焊接技术领域,且公开了一种工业制造用激光焊接装置及其焊接方法,包括聚光腔,聚光腔的内部固定连接有激光棒,聚光腔的内部固定连接有冷却水管道,聚光腔的内部一侧固定连接有位于激光棒外侧的保护气体管道通过保护气体从保护气体管道端通入,通过气体分流管的分流作用通入的保护气体分别进入气体分流管和导流管的外侧,导流管外侧的气体随着气体分流管的内侧边缘吹入,给气体分流管的内侧进行干燥和热交换,同时气体分流管外侧的气体通入,给气体分流管的外侧内壁进行干燥和热交换,使气体分流管内侧的内壁和气体分流管外侧的聚光腔内壁不会产生水蒸气,并且聚光腔的内壁同时进行水冷和风冷增加了降温效果。
  • 一种工业制造激光焊接装置及其方法
  • [实用新型]一种快速均匀布气装置-CN201220521926.1有效
  • 董宇光 - 四川海盾石油新技术开发有限公司
  • 2012-10-12 - 2013-04-03 - B01F3/04
  • 本实用新型公开了一种快速均匀布气装置,包括砂头、气体主流管和气体分流管,气体主流管与气体分流管连通,所述气体分流管为闭合管路,气体分流管至少有两根,以同一中心点均匀布置,相邻气体分流管之间管路连通,每根气体分流管上均匀设置若干砂头本实用新型能将气体迅速、均匀的分布至液体中,有效提高了单位体积内液体、气体的混合程度,提高气液混合反应速率,大幅提高液体使用效率。
  • 一种快速均匀装置
  • [发明专利]一种上电极装置-CN201310229521.X无效
  • 许修齐 - 上海和辉光电有限公司
  • 2013-06-08 - 2013-09-18 - C23C16/455
  • 该上电极装置包括分流腔和至少三个气体分流板;所述分流腔上设置有进气孔;所述至少三个气体分流板固定设置在所述分流腔的内壁上,以将通过所述进气孔导入所述分流腔的气体均匀分流后导出该分流腔。采用本发明的上电极装置能够使镀膜过程中的镀膜气体的流通更为均匀,特别是流经气体分流板的边缘区域和中心区域的气体的流通更为平均,进而改善镀膜的整个膜层厚度的均匀性。
  • 一种电极装置

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