专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种复合金属材料及制备方法-CN201710415140.9有效
  • 张瑞 - 合肥聪亨新型建材科技有限公司
  • 2017-06-05 - 2017-07-21 - B32B27/38
  • 本发明属于复合金属材料技术领域,提供了一种复合金属材料,所述复合金属材料包括材料一、材料二、材料三,材料一为稀有金属材料材料二为轻金属材料材料三为半金属材料,所述稀有金属材料是碳化铌合金,所述轻金属材料是铝钾合金,所述半金属材料是金红石合金,所述铝钾合金占复合金属材料主体重量的33‑37%,所述铝钾合金占复合金属材料主体重量的30‑35%,所述金红石合金占复合金属材料主体重量的32
  • 一种复合金属材料制备方法
  • [发明专利]显示模组和显示装置-CN202310795377.X在审
  • 石德平;袁海江 - 惠科股份有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-09-22 - G02F1/13357
  • 本申请公开了一种显示模组和显示装置;显示模组还包括滤光结构,滤光结构设置在显示面板靠近反射片的一侧,滤光结构包括第一介质、第二介质和金属,第一介质靠近显示面板设置,第二介质靠近反射片设置,金属层位于第一介质和第二介质之间;第一介质包括第一材料和第二材料,第一材料靠近金属设置,第二材料设置在第一材料远离金属的一侧,第一材料的折射率小于第二材料的折射率;第二介质包括第三材料和第四材料,第三材料靠近所述金属设置,第四材料设置在第三材料远离金属的一侧,第三材料的折射率大于第四材料的折射率。
  • 显示模组显示装置
  • [发明专利]相变化记忆体的制造方法与相变化记忆体-CN202010477856.3有效
  • 林仲汉;朱煜;罗国峰 - 北京时代全芯存储技术股份有限公司;江苏时代芯存半导体有限公司
  • 2020-05-29 - 2023-05-30 - H10N70/20
  • 一种相变化记忆体的制造方法与相变化记忆体,方法包括:形成堆叠结构,其包括:导电;下电极,位于导电上方;上电极,位于下电极上方;相变化材料,位于下电极与上电极之间;以及选择器材料,位于导电与下电极之间;根据第一遮罩蚀刻上电极,以形成上电极线;根据上电极线蚀刻相变化材料,以形成相变化材料于上电极线的下方,并暴露出下电极的一部分,其中相变化材料具有暴露的侧表面;在蚀刻相变化材料之后,对相变化材料的侧表面进行氮化处理,以形成氮化的相变化材料覆盖相变化材料的侧表面;以及根据相变化材料及氮化的相变化材料蚀刻下电极、选择器材料及导电,以形成下电极线、选择器材料及其下方的导线。此方法透过在相变化材料的暴露表面上形成可保护相变化材料的氮化的相变化材料,以避免相变化材料在后续蚀刻制程中严重受损。
  • 相变记忆体制造方法
  • [实用新型]磁疗变色地板-CN200620138807.2无效
  • 陈建 - 陈建
  • 2006-09-21 - 2007-10-24 - E04F15/02
  • 本实用新型涉及一种地板,尤其是一种将感光材料、感温材料或感湿材料置于地板之中的磁疗变色地板。它自上至下包括有耐磨、装饰、基材和平衡,或最上层与次,所述的装饰和基材之间设有混合磁粉,所述的耐磨和装饰之间设有感光材料、感温材料、感湿材料,或其中之一,所述的最上层与次之间设有混合磁粉,所述的最上层的表面设有感光材料、感温材料、感湿材料,或其中之一。将感光材料、感温材料或感湿材料置于地板之中的磁疗变色地板,使其可以随温度、湿度、光线的变化而变化,使地板不会开裂。
  • 磁疗变色地板
  • [发明专利]平面相变存储器的制备方法-CN201010283557.2无效
  • 张加勇;王晓峰;马慧莉;程凯芳;王晓东;杨富华 - 中国科学院半导体研究所
  • 2010-09-15 - 2011-04-06 - H01L45/00
  • 一种平面相变存储器的制备方法,包括:在衬底上依次生长一电热绝缘材料,相变材料和基底材料;去除基底材料的四边,形成基底;在相变材料的上面和基底材料的表面及侧面淀积侧墙材料;去除基底材料上表面的和相变材料表面的侧墙材料,在基底材料的侧面将形成高和宽均为纳米尺寸的侧墙;去除基底材料,只保留纳米尺寸的侧墙;去掉除了侧墙底部以外的所有相变材料,从而形成由侧墙和相变材料构成的叠侧墙;在该侧墙的一条边上搭上一条制作电极的金属;去除侧墙以及侧墙表面上的金属,从而形成中间夹有相变材料的nano-gap电极;最后淀积一绝缘材料,再在nano-gap电极两边的金属上开孔并引出电极,完成平面相变存储器的制作。
  • 平面相变存储器制备方法
  • [发明专利]薄膜组件的制造方法-CN201610863472.9有效
  • 陈炫辰;王宣懿;林云跃;林志诚;李信昌 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2016-09-29 - 2021-01-22 - G03F1/62
  • 本揭露提供一种薄膜组件的制造方法,包括在一晶圆上形成一第一材料,第一材料为一透光薄膜。在第一材料上形成一第二材料。在第二材料内形成一开口,开口露出第一材料的一中心部分。在第二材料内形成一沟槽,沟槽环绕开口。在第二材料上形成一保护,保护填入开口,以覆盖第一材料的中心部分。沿着沟槽进行一激光工艺,使得沟槽延伸穿过第二材料及第一材料,以去除沟槽外侧的第二材料及第一材料。在进行激光工艺之后,去除保护及晶圆,以形成一薄膜组件。
  • 薄膜组件制造方法

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