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[实用新型]一种圆管钢材圆面抛光装置-CN202220262222.0有效
发明人：刘译铃 -专利权人：微山县安固钢结构有限公司
申请日： 2022-02-09 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种圆管钢材圆面抛光装置。技术问题：提供一种对圆管钢材进行夹紧限位，达到更好的抛光效果的圆管钢材圆面抛光装置。技术方案：一种圆管钢材圆面抛光装置，包括有底座、支撑架、马达、抛光盘和固定机构，底座上部的左右两侧均滑动式设置有支撑架，支撑架上均设置有马达，马达的输出轴内侧均设置有抛光盘，底座上设置有固定机构。本实用新型通过启动圆管钢材圆面抛光装置，当齿轮与第一齿条、第二齿条啮合移动时能够带动马达和抛光盘进行移动，从而能够使得左右两侧的抛光盘对圆管钢材圆面进行或者停止抛光作业。
一种圆管钢材抛光装置

[实用新型]再生晶圆低磨耗的均质化研磨系统-CN202022751346.9有效
发明人：汪戬 -专利权人：中盛兴业科技发展有限公司
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型提供一种再生晶圆低磨耗的均质化研磨系统，供以针对再生晶圆进行平坦化研磨，包含前段研磨机，具有雾面磨光垫，供以将所述再生晶圆表面与所述雾面磨光垫进行旋转接触并执行雾面磨光；及后段研磨机，设于所述前段研磨机的一侧并具有亮面抛光垫，将雾面磨光后的所述再生晶圆传送至所述后段研磨机，并再次与所述亮面抛光垫进行旋转接触并执行亮面抛光。或使用研磨机台并电性连接驱动电源，所述研磨机台具有雾面磨光模式及亮面抛光模式，所述雾面磨光模式执行于所述亮面抛光模式之前，供所述再生晶圆先执行雾面磨光，后执行亮面抛光。藉此达到大幅降低晶圆研磨耗损厚度即可去除刮痕的功效。
再生晶圆低磨耗均质化研磨系统

[发明专利]一种半导体晶圆的抛光方法-CN201610898646.5在审
发明人：赵厚莹;李章熙 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司
申请日： 2016-10-14 - 公布日： 2018-04-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体晶圆的抛光方法，依次包括如下步骤S1同时对半导体晶圆的正反两面进行初步抛光；S2对所述半导体晶圆进行第一湿法清洗，同时在所述半导体晶圆的正反两面形成氧化层；S3对所述半导体晶圆的边缘部分进行镜面抛光；S4对所述半导体晶圆进行第二湿法清洗，同时去除覆盖在所述半导体晶圆上的氧化层；S5对所述半导体晶圆的正面或正反两面进行镜面抛光。本发明可避免半导体晶圆表面靠近边缘的区域在边缘抛光步骤中的过度抛光，并且可提高最终镜面抛光的效率和平整度，方法简单、经济实用。
一种半导体抛光方法

[实用新型]一种用于电机轴承抛光机的外圆面抛光机构-CN201820120751.0有效
发明人：顾涛;龚雨章;石皋莲;李春雷 -专利权人：苏州工业职业技术学院
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：实用新型公开了一种用于电机轴承抛光机的外圆面抛光机构，包括轴承支撑机构和外圆面抛光头旋转升降机构；轴承支撑机构包括抵推头安装座、圆锥面定位头安装座、抵推头移动液压缸、抵推头、圆锥面定位头、可旋转支撑轴、支撑轴从动轮、支撑轴旋转电机、支撑轴主动轮、支撑轴旋转传动皮带；外圆面抛光头旋转升降机构包括抛光头升降驱动液压缸安装板、抛光头升降驱动液压缸、移动导柱导套、移动导柱、移动导柱安装板连接、支撑框架、抛光头旋转驱动电机安装板、抛光头旋转驱动电机、抛光头主动轮、抛光头、抛光头从动轮、抛光旋转传动皮带。实用新型可快速对电机轴承进行外圆面抛光，不仅抛光效率高，精度高，质量好，而且劳动强度大大降低。
抛光头外圆面支撑轴电机轴承移动导柱安装板推头升降驱动液压缸旋转驱动电机旋转升降机构轴承支撑机构抛光机构旋转传动安装座从动轮定位头抛光机圆锥面主动轮抛光皮带可旋转支撑移动液压缸抛光效率旋转电机支撑框架导套

[发明专利]半导体晶圆的抛光方法-CN201610899466.9在审
发明人：赵厚莹 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司
申请日： 2016-10-14 - 公布日： 2018-04-24 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体晶圆的抛光方法，依次包括如下步骤S1同时对半导体晶圆的正反两面进行初步抛光；S2在所述半导体晶圆的正反两面上分别形成环形氧化层，所述环形氧化层覆盖所述半导体晶圆正反两面靠近边缘的外圆周区域；S3对所述半导体晶圆的边缘进行镜面抛光，同时去除所述环形氧化层；S4对所述半导体晶圆的正面或正反两面进行镜面抛光。本发明可避免半导体晶圆表面靠近边缘的区域在边缘抛光步骤中的过度抛光，并且在半导体晶圆边缘抛光之后，环形氧化层会被完全去除，不会对后续的抛光步骤造成影响，方法简单、经济实用。
半导体抛光方法

[发明专利]一种预清洗装置-CN202010417594.1有效
发明人：鲁容硕;张月;杨涛;卢一泓;刘青 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种预清洗装置，该预清洗装置用于去除晶圆表面的颗粒，其包括支撑结构、装配在支撑结构上的夹持组件、设置在支撑结构上且用于对晶圆的第一面抛光的第一抛光组件。夹持组件包括用于吸附晶圆的第二面并带动晶圆绕定点转动的吸盘，且晶圆的第二面的面积大于吸盘的面积。还包括设置在支撑结构上且用于对晶圆的第二面上未被吸盘覆盖的表面以及边缘面抛光的第二抛光组件。通过设置对晶圆的第二面上未被吸盘覆盖的表面及晶圆的边缘面抛光的第二抛光组件，以更有效的去除晶圆的背面以及边缘面上的颗粒，从而降低晶圆背面及边缘面的颗粒含量，改善在晶圆的后续光刻工序中的局部失焦现象，提高半导体器件生产的良率以及生产效率
一种清洗装置

[发明专利]一种大型容器U型管管端除锈抛光装置及抛光方法-CN201910440886.4在审
发明人：王彦波;杨杰;金军;郭志平;高安津;夏春雷;陈广路 -专利权人：哈电集团（秦皇岛）重型装备有限公司
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： B24B9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种U型管管端除锈抛光装置及抛光方法，该装置包括：往复行走系统、主轴抛光系统和抛光轮组件；其中，所述往复行走系统设定方向和距离往复运动，带动主轴抛光系统和抛光轮组件往复运动，对U型换热管管端外圆面循环除锈抛光该U型管管端除锈抛光装置可以进行半自动除锈抛光处理，相比于人工手动操作柔性砂轮打磨管端外圆面，效率大大提高；处理后的管子外圆面圆度、圆柱度、表面光洁度质量都很好，对下一道工序管子管板焊接提供了有利的工序质量保障
除锈抛光外圆面抛光轮组件抛光系统往复行走抛光管端管子表面光洁度大型容器管板焊接人工手动柔性砂轮系统设定质量保障圆柱度圆度打磨

[发明专利]一种电机轴承抛光机-CN201810069316.4在审
发明人：李春雷;王润民;石皋莲;顾涛 -专利权人：苏州工业职业技术学院
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： B24B5/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种电机轴承抛光机，包括设在机架上的进料机构、圆锥面抛光机构、长内圆面粗抛光机构、外圆面抛光机构、长内圆面精抛光机构、短内圆面抛光机构和成品收集箱七个工位，该七个工位之间分别设有工业机械手；其中，圆锥面抛光机构、长内圆面粗抛光机构、长内圆面精抛光机构和短内圆面抛光机构的正后方分别设有夹紧机构；长内圆面粗抛光机构、长内圆面精抛光机构和短内圆面抛光机构的上方分别设有上压紧机构。本发明实现全自动控制，一次可完成待抛光电机轴承的进料、圆锥面抛光、长内圆面粗抛光、外圆面抛光、长内圆面精抛光、短内圆面抛光、成品收集七个工序，不仅抛光效率高，精度高，质量好，而且成本低，劳动强度大大降低
内圆面抛光机构粗抛光精抛光圆锥面抛光电机轴承抛光机外圆面工位成品收集箱工业机械手全自动控制夹紧机构进料机构抛光电机抛光效率压紧机构轴承

[实用新型]一种电机轴承抛光机-CN201820120700.8有效
发明人：李春雷;王润民;石皋莲;顾涛 -专利权人：苏州工业职业技术学院
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： B24B5/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电机轴承抛光机，包括设在机架上的进料机构、圆锥面抛光机构、长内圆面粗抛光机构、外圆面抛光机构、长内圆面精抛光机构、短内圆面抛光机构和成品收集箱七个工位，该七个工位之间分别设有工业机械手；其中，圆锥面抛光机构、长内圆面粗抛光机构、长内圆面精抛光机构和短内圆面抛光机构的正后方分别设有夹紧机构；长内圆面粗抛光机构、长内圆面精抛光机构和短内圆面抛光机构的上方分别设有上压紧机构。本实用新型实现全自动控制，一次可完成待抛光电机轴承的进料、圆锥面抛光、长内圆面粗抛光、外圆面抛光、长内圆面精抛光、短内圆面抛光、成品收集七个工序，不仅抛光效率高，精度高，质量好，而且成本低，劳动强度大大降低
内圆面抛光机构粗抛光精抛光圆锥面抛光本实用新型电机轴承抛光机外圆面工位成品收集箱工业机械手全自动控制夹紧机构进料机构抛光电机抛光效率压紧机构轴承

[实用新型]一种晶圆抛光装置-CN201922497434.8有效
发明人：艾佳瑞;廖桂波;丁新琪;焦旺;吴阳烽 -专利权人：深圳市中光工业技术研究院
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种晶圆抛光装置，该晶圆抛光装置包括支撑装置和夹持装置；支撑装置包括支撑基座以及设置于支撑基座上的抛光垫；夹持装置包括配重块、夹持基座及缓冲垫，配重块设置于夹持基座的一面，缓冲垫设置于夹持基座远离配重块的一面；其中，夹持装置用于将晶圆与抛光垫接触，配重块用于调整夹持装置的夹紧力，缓冲垫与晶圆的非抛光面粘接。通过上述方式，本申请能够通过配重块控制抛光的力度，降低对晶圆的伤害，提升产品的质量。
一种抛光装置

[实用新型]一种磨削抛光盘-CN201721397229.9有效
发明人：杨建华;吴拥军 -专利权人：常州市金牛研磨有限公司
申请日： 2017-10-26 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： B24B41/04 文献下载
摘要：本实用新型属于磨削工具技术领域，具体涉及一种磨削抛光盘，包括塑料材质的圆形连接盘，连接盘端面设有多个向外侧延伸出的弧形的弹性安装片，所述的安装片在连接盘端面上沿连接盘周向呈环形排布，安装片外壁面处于同一圆上，安装片外壁面上设有弧形的抛光片，抛光片与安装片结构吻合，抛光片外壁面处于同一圆上，抛光片外壁面所在圆与连接盘同轴心，抛光片与安装片之间设有弹性垫，加工中通过抛光片的浮动性抵消跳动、振动，提高抛光质量。
抛光片安装片连接盘外壁面抛光盘磨削本实用新型弹性安装片圆形连接盘环形排布磨削工具塑料材质外侧延伸弹性垫浮动性同轴心抛光外壁抵消跳动吻合加工

[实用新型]一种晶圆切割面用的背面抛光装置-CN202220643750.0有效
发明人：韦胜;盛育;曹海洋;吴昊 -专利权人：百克晶半导体科技（苏州）有限公司
申请日： 2022-03-22 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆技术领域，具体为一种晶圆切割面用的背面抛光装置，包括加工台，所述加工台的顶端固定连接有放置块。该晶圆切割面用的背面抛光装置，通过设置有放置块、第一电机、螺纹杆、连接块、液压推杆和抛光块，以实现该抛光装置具有批量抛光的目的，将晶圆分别放置在放置块顶端的放置槽内部，启动第一电机，带动第一旋转轴和第一锥形齿轮的转动，通过第一锥形齿轮和第二锥形齿轮的相互啮合，带动螺纹杆的旋转，继而通过螺纹杆与连接块的相互啮合，带动抛光块水平移动至放置槽顶端，启动液压推杆和第二电机，带动抛光块的位置下降和旋转，达到对晶圆背面的抛光，同时改善晶圆边缘的光滑度，并且实现对晶圆背面批量化抛光。
一种切割背面抛光装置

[发明专利]一种抛光设备基座及抛光机-CN202210421987.9在审
发明人：何昆哲;刘雨桥 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司
申请日： 2022-04-21 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光设备基座及抛光机，抛光设备基座包括：基座本体和支撑面；其中，所述支撑面设置在所述基座本体上；沿所述基座本体由外周向中心方向，所述支撑面为一坡面，且所述支撑面的外周为所述坡面的顶部；所述支撑面用于承载待放置物本发明提供的抛光设备基座及抛光机减缓了晶圆边缘的颗粒堆积缺陷，并由此提高了晶圆的产品良率。
一种抛光设备基座抛光机

[发明专利]晶圆抛光方法-CN201680066639.7有效
发明人：西谷隆志;谷本龙一 -专利权人：胜高股份有限公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆抛光方法，即使在已形成纳米形貌的晶圆上，也可以抑制其影响，对于各压力区施以适当的抛光压力，由此提高晶圆的平坦度。一种晶圆抛光方法，其使用具备多区加压方式的抛光头的晶圆抛光装置对晶圆表面进行镜面抛光，所述多区加压方式的抛光头将晶圆的按压面划分为多个压力区并能够独立地对各压力区进行加压控制，所述晶圆抛光方法具有：测定步骤(步骤S1)，测定晶圆表面的纳米形貌图；及抛光步骤(步骤S2、S3)，根据所述纳米形貌图的测定结果，针对各压力区设定所述抛光头对于所述晶圆的抛光压力，以实施抛光加工。
抛光方法

[实用新型]可更换抛光片的磨削抛光盘-CN201721397167.1有效
发明人：杨建华;吴拥军 -专利权人：常州市金牛研磨有限公司
申请日： 2017-10-26 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型属于磨削工具技术领域，具体涉及可更换抛光片的磨削抛光盘，包括塑料材质的圆形连接盘，连接盘端面设有多个向外侧延伸出的弧形的弹性安装片，所述的安装片在连接盘端面上沿连接盘周向呈环形排布，安装片外壁面处于同一圆上，安装片外壁面上设有弧形的可拆卸的抛光片，抛光片与安装片结构吻合，抛光片外壁面处于同一圆上，抛光片外壁面所在圆与连接盘同轴心，抛光片靠近安装片的内壁面设有凸筋，安装片上对应凸筋处设有与凸筋结构吻合的凹槽，凸筋与凹槽滑动配合，加工中通过抛光片的浮动性抵消跳动、振动，提高抛光质量，可更换抛光片，降低使用成本。
抛光片安装片连接盘可更换外壁面凸筋抛光盘磨削吻合本实用新型弹性安装片圆形连接盘滑动配合环形排布可拆卸的磨削工具塑料材质凸筋结构外侧延伸浮动性内壁面同轴心抛光外壁抵消跳动加工

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