专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]制造半导体器件的方法-CN200510083471.4无效
  • 森克已 - 精工爱普生株式会社
  • 2002-09-06 - 2006-02-15 - H01L21/768
  • 本发明提供了一种用于制造包括位于基板上的布线和覆盖所述布线间绝缘的半导体器件的方法,该方法应用于具有优良填充性的间绝缘的半导体器件的制造中,该间绝缘按照0.13μm设计规则,在相邻布线的间隔中形成该半导体器件的制造方法包括使掩膜,至少形成所述基板指定图案中的所述应力减轻的步骤和通过使用流态化绝缘体覆盖所述应力减轻和所述布线形成一个平坦化绝缘的步骤。掩膜包括通过施加一个正(+)调整量来调整布线图案(120)的大小以及删除调整大小后相互重叠的那些图案(130),和调整大小后的图案外面形成具有特定宽度的应力减轻图案。
  • 制造半导体器件方法
  • [发明专利]MEMS麦克风及其制备方法-CN201610389572.2有效
  • 胡永刚 - 无锡华润上华科技有限公司
  • 2016-06-03 - 2021-06-04 - H04R19/04
  • 本发明涉及一种MEMS麦克风,包括基板、下电极、牺牲应力和上电极,基板的中部设有第一开口,下电极横跨于基板上;牺牲应力、上电极依次层叠在下电极上,并在牺牲应力上开设第二开口;应力的厚度与基板的翘曲程度相匹配。上述MEMS麦克风,可根据半导体基板的翘曲或形变程度改变应力的厚度,使应力的厚度或应力与基板的翘曲程度相匹配,通过改变应力的厚度和应力,进而对基板施加与基板变形方向相反的力,以减轻或消除基板的变形
  • mems麦克风及其制备方法

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