专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种NF3管路结构-CN201520536803.9有效
  • 刘涛;金懿 - 上海华力微电子有限公司
  • 2015-07-22 - 2015-12-09 - F17D1/02
  • 本实用新型公开了一种NF3管路结构,包括气体柜、清扫管路、工艺管路、远程等离子体系统及工艺反应腔体,所述气体柜中设置有清扫NF3源和工艺NF3源,所述清扫管路一端连通清扫NF3源、另一端依次连通远程等离子体系统和工艺反应腔体,所述工艺管路一端连通工艺NF3源、另一端连通工艺反应腔体。本实用新型采用的工艺管路没有经过远程等离子体系统,而是直接和工艺反应腔体连接,进入工艺反应腔体后,工艺NF3不会带有远程等离子体系统中的颗粒等附着物,在硅片成膜的过程中,避免附着物对硅片的不利影响,保证了硅片的良率,提高了工艺的效率,减少了颗粒引入源。
  • 一种nf3管路结构
  • [发明专利]装置及半导体工艺设备-CN202210554343.7有效
  • 郑波;朱磊;魏景峰;佘清;刘建民;纪红;何中凯 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2022-05-20 - 2023-08-18 - B01F25/42
  • 本发明提供一种混装置,其混部件中,第一进通道和第二进通道的进端分别与第一进气管路和第二进气管路的出气端连通;第一进通道和第二进通道的出气端均与环形混通道连通;环形混通道的出气端用于与半导体工艺设备的工艺腔室连通;第一进通道和第二进通道的出气方向被设置为能够使分别从第一进通道和第二进通道的出气端流入环形混通道中的气体在混合时,均沿环形混通道的周向上的同一方向旋转流动。本发明提供的混装置及半导体工艺设备,其不仅可以缩短混时间,提高混效率,而且可以有效提高混合均匀性,提高产品性能。
  • 装置半导体工艺设备
  • [实用新型]天然气压缩机组工艺气管道系统-CN201020220327.7无效
  • 袁帮伟 - 成都展望能源机械有限公司
  • 2010-06-09 - 2011-01-12 - F17D1/02
  • 本实用新型属于天然气压缩机组工艺设备领域,具体是天然气压缩机组工艺气管道系统,由一级进洗涤罐(1)、一级进缓冲罐(2)、一级气缸(3)、一级排气缓冲罐(4),一级空冷器(5)和二级进洗涤罐(6)、二级进缓冲罐(7)、二级气缸(8)、二级排气缓冲罐(9),二级空冷器(10)经管道依次连接而成,一级进洗涤罐与工艺进口管道(11)连接,二级空冷器与工艺出口管道(12)连接,其特征在于在一级空冷器(5)和二级进洗涤罐(6)之间的一级排气管道(13)上设置有孔盲板(14),在孔盲板(14)之后的一级排气管道(13)与工艺进口管道(11)之间增设G1管道(15),在G1管道(15)上设置有前孔盲板(16),在孔盲板(14)之前的一级排气管道(13)与工艺出口管道(12)之间增设G2管道(17),在G2管道(17)上设置有后孔盲板(18),系统适应工况变化范围宽、技术性能好。
  • 天然气压缩机组工艺管道系统
  • [发明专利]一种化工污水深度处理工艺-CN202211654212.2在审
  • 包红旭;陈晨;王泳璇;马修文;江世杰;潘晨晨;高萌;殷万欣;张伟良 - 辽宁大学
  • 2022-12-22 - 2023-03-10 - C02F9/00
  • 本发明公开一种化工污水深度处理工艺。在改进ICEAS基础上串联曝生物滤池,形成改进型ICEAS工艺,用于污水水质的净化。污水经搅拌、曝、沉淀、滗水、曝生物滤池、消毒处理之后排出。本发明在改进ICEAS工艺后串联了曝生物滤池。串联的曝生物滤池具有高比表面积、大生物量,占地面积省;同时该工艺的处理装置紧凑,生化反应和过滤在一个单元中进行,不需要二沉池,节省占地面积。另外粒状滤料使充氧效率提高,可节省能耗,工艺运行稳定,污水中各污染因子得到有效去除,使处理后出水达到国家一级排放标准。
  • 一种化工污水深度处理工艺

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