专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于设备的对准的双模磁性对准部件-CN202210606304.7在审
  • T·J·拉斯穆森;E·S·乔;C·S·格雷厄姆;K·R·F·拉尔森;E·X·周 - 苹果公司
  • 2022-05-31 - 2022-12-23 - H02J50/90
  • 本公开涉及用于设备的对准的双模磁性对准部件。双模环形磁性对准部件可包括在电子设备中,该电子设备使用磁性对准系统来附接到其他电子设备,该磁性对准系统包括具有互补(和固定)磁性取向的初级环形对准部件和次级环形对准部件。在双模对准部件中,一组对准磁体可在第一位置和第二位置之间重新取向或移位,在该第一位置中,该双模对准部件的磁性取向与初级环形对准部件互补,在该第二位置中,该双模对准部件的磁性取向与次级环形对准部件互补。结合双模对准部件的双模电子设备可经由初级环形对准部件或次级环形对准部件互换地附接到另一个设备。
  • 用于设备对准双模磁性部件
  • [发明专利]键合机的对准机构及对准方法-CN202110845766.X在审
  • 林俊成 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-07-26 - 2023-02-03 - H01L21/68
  • 本发明提供一种键合机的对准机构,尤指一种晶圆键合机的对准机构,主要包括一载台、三个第一对准单元及三个第二对准单元。载台的承载面具有一放置区用以放置一第一基板,其中第一对准单元及第二对准单元环绕设置在承载面的放置区周围。第一对准单元包括一底部及一凸出部,其中凸出部朝放置区的方向凸出底部。第一对准单元的底部用以定位第一基板,而第一对准单元的凸出部则用以承载一第二基板,并以第二对准单元定位放置在第一对准单元的凸出部上的第二基板,使得第二基板对准第一基板,以利于第一基板及第二基板的键合重叠。
  • 键合机对准机构方法
  • [发明专利]一种光束对准器及其对准方法-CN201010301393.1有效
  • 黄育争;高文;姚俊 - 西安昂科光电有限公司
  • 2010-02-09 - 2010-08-11 - G02B27/30
  • 本发明公开了一种光束对准器及其对准方法,所述光束对准器由对准器主体、分光棱镜装置、防尘镜和成像装置构成;所述对准器主体内部设置顶端联接口、前端联接口、后端联接口和中间腔体8,顶端联接口、前端联接口、后端联接口通过中间腔体互相连通并且构成三通结构;所述中间腔体内部设置分光棱镜装置;所述顶端联接口设置成像装置7;所述前端联接口设置防尘镜;所述后端联接口联接需对准的仪器;所述后端联接口轴线为对准器主体的基准轴线。本发明在大大缩短已广泛使用的自准直仪等精密光学仪器的装调时间,采用本发明的光束对准器,则装调时间可缩短5-10倍,大大提高了装调的效率。
  • 一种光束对准及其方法
  • [发明专利]一种光刻对准标记及其对准方法-CN201810163451.5有效
  • 张永刚 - 安徽理工大学
  • 2018-02-27 - 2020-10-16 - G03F9/00
  • 本发明公开了一种光刻对准标记,包括多个等间距平行设置的栅格条,所述多个栅格条的中心位置均垂直固定于一个长矩形条,用于光刻机对准的标记以及使用该标记的对准方法,以实现光刻机在套刻时不同结构之间的精准定位,利用这种对准标记可以在不同层图形之间产生设计者需要的偏移距离,可以利用少量的掩膜版图案在不同层图形之间根据需要产生不同偏移距离的一系列类似结构的电路。利用这种光刻对准标记产生的类似结构,可以用来研究结构在某个方向上结构变化对其电路性能的影响。
  • 一种光刻对准标记及其方法
  • [发明专利]二次预对准装置及对准方法-CN201110145373.4有效
  • 郑教增;宋平;徐伟 - 上海微电子装备有限公司
  • 2011-05-31 - 2012-12-05 - G03F9/00
  • 一种二次预对准装置,设于运动台和主基板之间,用于对放置在运动台上的晶圆进行二次预对准,包括三个面阵CCD、三组光路系统和一个图像处理器,三组光路系统分别将晶圆的三处边缘图像投影到对应的面阵CCD,三组光路系统所需的光源设置在运动台的外侧另外,光源远离投影物镜设置、物镜、主基板和运动台等对热源敏感的关键部件设置,提高本二次预对准装置的性能稳定性,进一步提高对准精度。
  • 二次对准装置方法
  • [发明专利]一种调焦对准装置及对准方法-CN201610113256.2有效
  • 齐景超;陈飞彪;吴旭婷;于大维 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2016-02-29 - 2018-12-14 - G03F7/207
  • 本发明公开了一种调焦对准装置及对准方法,用于基底台上基底的调焦和对准,所述调焦对准装置包括第一探测支路,第一探测支路沿光路方向依次包括:光源,产生均匀的照明光;投影狭缝阵列,照明光经投影狭缝阵列后产生调焦光斑和对准光斑,投射至基底表面;分光棱镜,分离经基底反射的调焦光斑和对准光斑;探测单元,包括调焦探测器和对准探测器,调焦探测器对调焦光斑成像得到调焦信号,对准探测器对对准光斑成像得到对准信号;以及信号处理单元,根据调焦信号获得基底的垂向高度变化,根据对准信号获得基底的水平向位置变化;第一探测支路满足Scheimpflug成像条件。本发明使基底上的标记清晰成像到探测器上,提高了调焦和对准精度。
  • 一种调焦对准装置方法
  • [发明专利]一种对准系统及对准方法-CN201510859907.8有效
  • 于大维;杜荣 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
  • 2015-11-30 - 2019-04-30 - G03F9/00
  • 本发明提出一种对准系统及对准方法,该对准系统包括:掩模版,提供投影曝光图案和对准标记;投影物镜焦面测量标记,设置于所述掩模版上;投影物镜,对掩模版上的曝光图案、标记成像到硅片方像方焦面;工件台,承载有同轴镜头、基准板和硅片,其中同轴镜头对对准标记、投影物镜焦面测量标记和调焦标记进行成像,基准板承载有调焦标记和参考标记,并提供水平向和垂向测量基准,硅片承载有硅片对准标记;调焦调平系统,对硅片表面调平,控制硅片上表面与硅片焦面重合;离轴对准系统,对硅片图案对准。本发明旨在为调焦调平、对准、焦面探测建立统一的测量基准,提高垂向、水平向测量分系统对温度变化等情况的适应能力。
  • 一种对准系统方法

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