专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]室流体处理系统-CN202121527969.6有效
  • 李大青 - 青净光能科技股份有限公司
  • 2021-07-06 - 2022-04-26 - C02F1/30
  • 本实用新型提供一种双室流体处理系统,其包括有:一第一室与一第二室相连通,一层流装置设置于所述第一室与所述第二室之间,所述第一室设置有一第一光源模块以及一入口提供一流体输入;所述第二室设置有一第二光源模块以及一出口提供所述流体输出;所述层流装置具有多个透孔,所述多个透孔具有一直线内壁与所述第二室之腔壁平行。
  • 双腔室流体处理系统
  • [实用新型]一种新型空气处理-CN202220788717.7有效
  • 孟军;刘亚雄 - 南京维塔文化遗产保护技术有限公司
  • 2022-04-07 - 2022-09-13 - A47F3/04
  • 本实用新型公开了一种新型空气处理,包括上盖和下盖,上盖与下盖相互扣合形成两端开口的空气处理,空气从空气处理的一端流入,从空气处理的另一端流出;在上盖上沿垂直于空气进气方向设有若干冷凝齿,所述冷凝齿按照空气流动方向排布密度逐渐减小,在下盖上设有用于空气内水汽冷凝排出的排水孔;本实用新型的新型空气处理沿空气流动方向对冷凝齿的排布方式进行改进,根据冷凝进程,冷凝齿的排布密度逐渐减小,这样在靠近出口位置的空气温度不至于过低,水也不会结冰
  • 一种新型空气处理
  • [实用新型]SCR后处理器用混合-CN202220723086.0有效
  • 吕福来;吴均均;盖伟伟;张欢乐 - 河北蓝天汽车消声器有限公司
  • 2022-03-30 - 2022-07-26 - F01N3/28
  • 本实用新型涉及混合的技术领域,特别是涉及一种SCR后处理器用混合;其结构简单、紧凑、合理,能够使尿素和尾气充分混合,并且能够节省混合时间和混合空间,极大地提高了气体混合效率,保证了尾气处理效果;包括筒体和安装于筒体两端的封挡板,所述筒体和两组封挡板围合成混合室,其中一组封挡板上设置有多组进气口,另一组封挡板上设置有多组出气口,多组进气口和多组出气口处均设置有百叶窗隔板;进一步的多组进气口和多组出气口均成扇形分布于对应的封挡板上
  • scr处理器用混合
  • [实用新型]多过滤处理-CN201120047682.3无效
  • 覃有倘;常道春 - 深圳市和科达水处理设备有限公司
  • 2011-02-25 - 2011-09-07 - C02F9/02
  • 一种多过滤处理器,包括有筒体(11)、进水口(13)、出水口(8)、排污口(7),筒体(11)内沿其轴向设置至少两个过滤(14、2),各过滤之间用隔板(1)分隔,各过滤的下部放置有滤网(10、5),滤网下是储水(9),第一过滤(14)与进水口(13)连通,前一过滤的储水(9)用连通管(3)与后一过滤(2)的上部连通,各过滤(14、2)中装有滤料(12、4),最后一个过滤的底部是净水(6),净水(6)与出水口(8)连通。是一种可放置不同滤料且便于更换滤料、使用成本较低、水处理效果较好的多过滤处理器。
  • 过滤水处理
  • [发明专利]室基板处理系统-CN201380007166.X有效
  • J·约德伏斯基;N·B·帕蒂班德拉;P·K·纳万卡尔;L-Q·夏;藤田敏明;R·霍夫曼;J·吴;S·萨蒂亚;B·吴 - 应用材料公司
  • 2013-01-31 - 2017-07-28 - H01L21/677
  • 在此提供一种用于处理多个基板的基板处理系统,且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统,该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件,且能够连续地旋转该等基板支撑组件,每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上,且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理,该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站,每一双基板处理站包括两个基板支撑组件,以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
  • 多腔室基板处理系统

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