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[发明专利]一种去光阻的方法和设备-CN201110274328.9无效
发明人：蔡郢倢;马擎天;刘秉承 -专利权人：协鑫光电科技（张家港）有限公司
申请日： 2011-09-15 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：该方法包括：将带有光阻的基底置入去光阻液中浸泡；从所述去光阻液中取出所述基底；将所述基底的温度冷却至预设温度，其中，所述预设温度低于所述去光阻液遇水后与所述基底发生反应的最低温度；用水清洗所述基底。上述技术方案减少了浸泡步骤，减少了使用的原料，从而加快了去光阻的速度，缩短了制程时间，降低了去光阻成本和基底处理成本。
一种去光阻方法设备

[实用新型]气相处理装置-CN201320090246.3有效
发明人：张明;郑云友 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-02-27 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型提供一种气相处理装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的气相处理装置容易因为抽气泵抽气能力的差异及抽气口位置分布而引起处理效果不均的问题。本实用新型的气相处理装置用于在气相环境下对处理腔室中的基底进行处理，所述气相处理装置包括：处理腔室，其包括多个设于不同位置的抽气口；多个抽气泵，用于通过抽气口对处理腔室抽气；且至少有一个所述抽气泵通过多根抽气管分别与多个抽气口相连通
相处装置

[实用新型]报警式鼻胃管固定器-CN202120276286.1有效
发明人：赵美玲 -专利权人：常州市第一人民医院
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： A61J15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种报警式鼻胃管固定器，涉及鼻胃管固定技术领域，基底为医用防水胶带，中间连接有弧形卡扣，可将胃管放在中间然后紧紧卡住，卡扣基底处有镶嵌的感应报警器，一旦有暴力拖拽管路卡扣处会有报警声响，本实用新型通过在基底中间连接有弧形卡扣，可将胃管放在中间然后紧紧卡住，可减少皮肤损害；通过在卡扣基底处有镶嵌的感应报警器，在有人强力对管路发生拖拽时发出警报声。
报警式鼻胃管固定器

[发明专利]生物传感器装置和方法-CN201980040844.X在审
发明人： A·V·克拉里塞克;C·卡拉和;N·艾代米尔;J·特拉凡斯-赛迪克;R·卡德加;N·O·V·普兰克;T·穆鲁加萨斯 -专利权人：新西兰植物与食品研究所
申请日： 2019-06-13 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G01N27/414 文献下载
摘要：本发明提供了一种传感器装置，其包括与基底处于电连通的包含OrX和Orco的昆虫气味受体复合物，其中所述传感器装置被配置成检测所述基底的电特性的变化。本发明还提供了传感器装置部件，其包括与基底处于电连通的包含OrX和Orco的昆虫气味受体复合物。本发明还提供了用于制造和使用所述传感器装置和传感器装置部件的方法。
生物传感器装置方法

[发明专利]既有盾构矩形隧道软土基底处理方法-CN201611245695.5在审
发明人：王怀东;黄波;姚利国;张存;彭红霞;乔华山;刘方明;姜传斌;陈长江;王中兵 -专利权人：中铁隧道勘测设计院有限公司;上海广联环境岩土工程股份有限公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： E02D3/12 文献下载
摘要：一种既有盾构矩形隧道软土基底处理方法，涉及土建施工技术领域，所解决的是隧道下卧软土地层沉降的技术问题。
既有盾构矩形隧道基底处理方法

[发明专利]一种高地下水位粉砂质路基填筑技术-CN202010967250.8在审
发明人：赵振夫;周远海;倪宏涛;黄文龙;吕厚平 -专利权人：中电建十一局工程有限公司;中国水利水电第十一工程局有限公司
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： E01C3/00 文献下载
摘要：本发明涉及公路路基工程领域，特别地，涉及一种高地下水位粉砂质路基的填筑技术，当路基为粉质、粉砂质基底，高地下水位甚至浸水，路基基底为软基状态时，采取一定的技术措施，对路基基底进行处理并实现路基正常填筑，解决了路基处于高水位、粉砂质地质条件时填筑困难的问题，本发明利用特细砂分层填筑、形成基层平台，两侧黏土包边，底部设排水管的方法，实现路基的基底处理、并实现上部路基的正常填筑。
一种地下水位粉砂质路基技术

[发明专利]挡板和包含该挡板的衬底处理装置-CN201210252236.5有效
发明人：梁承国;姜正贤 -专利权人： PSK有限公司
申请日： 2012-07-20 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：提供一种衬底处理装置，其包括用于产生等离子体的等离子体产生部；置于等离子体产生部下方、并在内部具有空间的外罩；置于外罩内并支撑衬底的基座；以及包含将从等离子体产生部提供的等离子体注入至衬底的注入孔的挡板挡板包含在其中形成有注入孔的基底；并且基底的中心部分比其边缘厚。
挡板包含衬底处理装置

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质-CN201911369216.4有效
发明人：中谷公彦 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件的制造方法、衬底处理装置及记录介质。课题在于提高选择生长中的选择性。半导体器件的制造方法具有：下述工序：(a)通过向在表面露出第1基底和第2基底的衬底供给氨基硅烷系气体，从而使氨基硅烷系气体所含的硅吸附于第1基底及第2基底中的一者的基底的表面的工序；(b)通过向使硅吸附于一者的基底的表面后的衬底供给含氟气体，从而使吸附于一者的基底的表面的硅与含氟气体反应，使一者的基底的表面改性的工序；和(c)通过向使一者的基底的表面改性后的衬底供给成膜气体，从而在第1基底及第2基底中的与一者的基底不同的另一基底的表面上形成膜的工序
半导体器件制造方法衬底处理装置记录介质

[发明专利]气体喷射装置和使用其的基底处理设备-CN201080038799.3有效
发明人：黄熙;许弼雄;韩昌熙 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2010-08-24 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明提供一种气体喷射装置和使用其的基底处理设备。该气体喷射装置包括多个气体喷射单元，多个气体喷射单元布置在基底支承部件上方，基底支承部件以可旋转的方式布置在腔室内以支承多个基底，多个气体喷射单元相对于基底支承部件的中心点沿圆周方向布置以将处理气体喷射到基底上多个气体喷射单元中的每一个均包括：顶板，顶板中设置有构造成引入处理气体的入口；以及喷射板，喷射板布置在顶板下方以沿基底支承部件的半径方向在喷射板与顶板之间限定气体扩散空间，喷射板具有在气体扩散空间下方的多个气体喷射孔，以将经入口引入并在气体扩散空间内扩散的处理气体喷射到基底上。在多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元中，分隔壁布置在顶板与喷射板之间，以沿基底支承部件的半径方向将气体扩散空间分割成多个隔开的空间，并且设置多个入口且多个入口分别设置在隔开的空间内使得处理气体独立地引入隔开的空间
气体喷射装置使用基底处理设备

[发明专利]一种推流式污水处理施工工艺-CN202110612379.1在审
发明人：吴健;王美香;王新峰;江友成 -专利权人：中铁海峡（厦门）环保技术有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： E04G21/00 文献下载
摘要：本发明涉及污水处理技术领域，尤其涉及一种推流式污水处理施工工艺，包括以下步骤：S1、挖基坑；S2、基底处理；S3、铺设找平层；S4、浇注污水处理池；S5、铺设管道；S6、污水处理池加固；S7、基坑回填；S8、设备安装，通过该施工工艺建设的推流式污水处理设施，其施工工艺简单，且基底和围墙能够对污水处理池起到很好的防护作用，污水处理池的稳定性高，耐用可靠，便于推广使用。
一种推流式污水处理施工工艺

[发明专利]天线及其制作方法、天线装置及其制作方法-CN202010934857.6在审
发明人：王瑛;丁天伦;武杰;贾皓程;李亮;唐粹伟;李强强;张玮;卫盟;刘昊;车春城 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：本发明提供的一种天线包括第一基底，位于第一基底上的基材层；基材层中具有多个呈阵列排布的天线腔体，天线腔体的内侧具有导电层，每个天线腔体和其内侧的导电层形成一天线单元；其中，每个天线腔体包括靠近第一基底一侧的近端开口，和远离第一基底一侧的远端开口，远端开口的口径大于近端开口的口径；并且，天线腔体相对远离第一基底处的口径，不小于相对靠近第一基底处的口径。
天线及其制作方法装置

[发明专利]基底处理系统、存储介质及数据处理方法-CN201710984694.0有效
发明人：大森拓 -专利权人： ASM IP控股有限公司
申请日： 2017-10-20 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G05B19/05 文献下载
摘要：一种基底处理系统，包括：模块控制器，其创建日志文件，其中对应于采样操作数据的定时的数据计数被添加至模块的在预定的采样周期中采样的操作数据；主控制装置，其连接至所述模块控制器，从所述模块控制器接收所述日志文件以及指示包括在所述日志文件中的操作数据的收集开始所处的时刻的开始时间信息
基底处理系统存储介质数据处理方法

[发明专利]排土场基底坝构建工艺-CN201210291054.9无效
发明人：王瑜 -专利权人：鞍钢集团矿业公司
申请日： 2012-08-16 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： E02D19/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种排土场基底坝构建工艺，包括以下步骤：1）在排土场范围内，垂直排土场坡度方向，修筑阶梯形基底坝，所述的基底坝是由坚硬的石块、混凝土砌筑而成，基底坝为等腰梯形；2）在基底坝坝基处设置排水孔，在标高最底处的基底坝的排水孔处挖掘排水沟本发明的优点是：由于本发明在基底坝坝基处设置排水孔，并在标高最底处的基底坝的排水孔处，挖掘排水沟，这种排土场基底坝构建工艺，有效地防止了排土场由于积水的浸泡，引起排土场滑坡和排土场垮落现象的发生，并将排土场基底积水汇集存储
排土场基底构建工艺

[发明专利]阵列基板及液晶显示面板-CN200810144941.7无效
发明人：王尚祺 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2008-08-07 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：其中，阵列基板包括一基底；一阵列结构，形成于该基底上；一配向层，形成于该阵列结构上；以及一阻挡结构，形成于该基底处并大体环绕该配向层，其中该阻挡结构与该基底的一表面构成一段差。
阵列液晶显示面板

[发明专利]一种建造在松软基底上的挡墙及构筑方法-CN201910830372.X在审
发明人：李向东;张纪堂;刘文华;盛佳;王正英;张海云;胡贵发;李强;司书波;孔德阔;石绍飞;郭同晓 -专利权人：临沂会宝岭铁矿有限公司;长沙矿山研究院有限责任公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： E02D29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种在松软基底上的建造挡墙的方法，该方法通过在挡墙构筑区域的侧岩和顶岩上固定锚杆，锚杆用于后续固定挡墙；挖取挡墙构筑区域下方的松软基底，形成一条刻槽；在刻槽两侧设置挡板，挡板相对设置，中间预留出挡墙的位置，向预留的挡墙位置浇筑覆盖材料，逐层浇筑，形成挡墙；待挡墙处的所述覆盖材料凝固，拆除挡板；向采场外侧的松软基底挖取一段距离，在挖取后的松软基底上固定锚杆；在挖取后的采场外侧的基底上浇筑所述覆盖材料形成覆盖层本方案中先对松软基底进行挖槽处理，将挡墙建造在松软基底内，建造后的挡墙结构稳定，再对松软基底上层进行换底处理，可以待充填区域的充填料浆不会从采场外侧的松软基底底部泄露。
基底松软挡墙挖取挡板覆盖材料采场浇筑固定锚杆刻槽建造充填料浆充填区域挡墙结构挡墙位置固定挡墙两侧设置相对设置一段距离覆盖层预留的构筑锚杆挖槽预留凝固泄露上层拆除