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[发明专利]版图图形精准匹配的检查方法-CN202010576088.7在审
发明人：叶勇;张辰明;陈翰 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种版图图形精准匹配的检查方法，包括：读取标准版图设计，查找出基准图形；对基准图形生成边界框；根据边界框的尺寸和位置对基准图形添加标志图形；将基准图形、边界框和标志图作为待测版图图形匹配计算的基准单元；使用基准单元对待测版图进行匹配性检查，基准图形与待测版图图形重合时，检测相邻基准单元的边界框是否重叠；若有重叠，则将重叠的相邻边界框进行合；计算边界框内的标志图形数量，如果一边界框内的标志图形的数量大于1，则判断该边界框对应的版图图形有重叠区域。此方法检查到了版图图形有重叠的情况，可以解决版图图形匹配度的检查过程中误把重叠图形认为标准图形的风险，同时，并且降低了计算时间。
版图图形精准匹配检查方法

[发明专利]一种虚拟图形填充方法和半导体器件版图-CN202110931776.5在审
发明人：陈鑫欣 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种虚拟图形填充方法，其包括：获取未填充的版图布局；计算所述版图上的不可填充区域的第一边界和第二边界之间的边界距离；在所述第一边界、所述第二边界分别设置扩展条对所述不可填充区域的所述边界距离进行扩展，使扩展后的所述不可填充区域的边界距离为虚拟图形跨距的整数倍加上虚拟图形间距，所述虚拟图形跨距等于所述虚拟图形间距与虚拟图形宽度之和，所述扩展条的宽度小于或等于所述虚拟图形间距；沿所述扩展后的不可填充区域的第一边界和第二边界布置所述虚拟图形，所述第一边界与所述第二边界相对。
一种虚拟图形填充方法半导体器件版图

[发明专利]图形缩放吸附方法及其装置-CN202010332772.0在审
发明人：仵景文;韩丹 -专利权人：西安诺瓦星云科技股份有限公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G06T11/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种图形缩放吸附方法和图形缩放吸附装置。上述图形缩放吸附方法例如包括：获取缩放图形的缩放边界；根据所述缩放边界在缩放方向上的缩放距离确定所述缩放边界与目标图形的目标边界的边界距离；响应于所述边界距离不大于距离阈值根据所述边界距离确定所述缩放边界的运动趋势并根据所述运动趋势确定所述缩放图形的吸附边界；以及沿所述缩放方向吸附所述缩放图形至所述吸附边界。
图形缩放吸附方法及其装置

[发明专利]多图形移动吸附方法及其装置-CN202010333783.0在审
发明人：仵景文;韩丹 -专利权人：西安诺瓦星云科技股份有限公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G06T11/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种多图形移动吸附方法和多图形移动吸附装置。所述多图形移动吸附方法例如包括：获取多个移动图形并关联所述多个移动图形成移动图形组；响应于用户对所述移动图形组的移动操作，根据所述移动图形组的移动距离确定所述移动图形组与目标图形的目标边界的边界距离；响应于所述边界距离不大于距离阈值根据所述边界距离确定所述移动图形组的吸附边界；以及吸附所述移动图形组至所述吸附边界。本发明实施例解决了现有技术中多移动图形同时移动过程中出现吸附混乱的问题，提升用户的体验度。
图形移动吸附方法及其装置

[发明专利]电路布局的调整方法-CN201010292482.4有效
发明人：程洁;刘庆炜 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2010-09-19 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种电路布局的调整方法，包括提供布局图形的步骤，所述的布局图形包括具有交叠区域的压应力膜图形和拉应力膜图形，以及在所述交叠区域的接触孔图形，所述交叠区域的边界包括相对的压应力膜图形边界和拉应力膜图形边界，其特征在于，还包括下述步骤：调整所述交叠区域的压应力膜图形边界或拉应力膜图形边界，以使接触孔图形仅在调整后的压应力膜图形区域或仅在调整后的拉应力膜图形区域，从而提高互连插塞的性能。
电路布局调整方法

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202111216495.8在审
发明人：陈术;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-10-19 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供设计版图，包括多个设计图形；获取对应设计版图的网格状的初始边界线，初始边界线经过设计图形，且初始边界线与经过的设计图形具有至少两个第一交点；在初始边界线上获取分割点，分割点位于初始边界线经过的设计图形的两侧、并与经过的设计图形的第一交点具有预设距离，位于相邻分割点之间、且经过设计图形的初始边界线作为第一边界线，剩余初始边界线作为第二边界线；在设计图形外侧形成第三边界线，第三边界线通过分割点与第二边界线交替首尾相接，第三边界线和第二边界线构成目标边界线。本发明有利于减少设计图形因被分割而产生跳变现象的概率。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]区域地图图形合并方法及装置-CN202210305367.9在审
发明人：王炯照 -专利权人：贝壳找房网（北京）信息技术有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G06T11/40 文献下载
摘要：本发明实施例提出区域地图图形合并方法及装置。方法包括：在第一区域地图图形和第二区域地图图形中搜索相距最近的两个边界点，设所述两个边界点分别为第一边界点和第二边界点，其中，第一边界点位于第一区域地图图形的边界，第二边界点位于第二区域地图图形的边界；判断第一边界点和第二边界点之间的距离是否小于预设误差距离；若小于，在第一区域地图图形和第二区域地图图形之间的缝隙区域中，搜索宽度始终小于预设误差距离的各缝隙子区域，若搜索到，则将搜索到的各缝隙子区域与第一区域地图图形和第二区域地图图形进行合并，得到单回路的合并地图图形。本发明实施例实现了将相邻区域的地图图形合并为单回路地图图形。
区域地图图形合并方法装置

[发明专利]光学拾取头-CN200410048992.1无效
发明人：渡边由纪夫;上山彻男 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2004-06-14 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G11B7/12 文献下载
摘要：光学拾取头所具有的光栅第1区域与第2区域的边界即区域边界线，与图形A与图形B的边界即图形边界线中的、由平行于y方向的y轴平行边界线构成的图形边界线群中的一部分y轴平行边界线相重叠。
光学拾取

[发明专利]图形用户界面中物理边界的定义方法、装置和设备-CN201711318387.5有效
发明人：杨鹏;林久对 -专利权人：网易(杭州)网络有限公司
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G06F8/38 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种图形用户界面中物理边界的定义方法、装置和设备，该方法包括：获取待显示于所述图形用户界面上的目标物体的边界形态，根据所述边界形态将所述目标物体的边界拆分为至少两个分组，每个分组中包含一段直线边界或者曲线边界，采用预先定义基本图形的边界绘制组成每个分组中的直线边界或者曲线边界，对每个分组内的组成直线边界或者曲线边界的基本图像赋予刚体的物理属性，完成所述目标物体的边界的定义，直接在编辑器中进行设置，并且可以由基本图形组成非常复杂的曲折形状的边界，可与图形界面设计中的边界更精确的贴合。
图形用户界面物理边界定义方法装置设备

[发明专利]一种扫描转换点阵数据的方法、装置及介质-CN202210825482.9在审
发明人：刘一丁;叶峰;徐晓雷;宁邦杰;郑堪文;王鲁峰;杨小牛 -专利权人：中国科学院长春应用化学研究所
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G06T3/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种扫描转换点阵数据的方法、装置及介质，涉及图形转换技术领域。根据轮胎的设计参数生成轮胎的光滑边界图形；设置初始点阵，并在初始点阵中将光滑边界图形转换为多边形图形；根据多边形图形的类型调整多边形图形的形状及点阵数据；删除多边形图形外部的点阵数据，并删除光滑边界图形外部的点阵数据，以获取光滑边界图形的内部点阵数据；根据光滑边界图形的种类对内部点阵数据进行处理，以获取轮胎的最终点阵结果。由此可知，上述方案根据光滑边界图形和对应的多边形图形约束出点阵数据的范围，缩小了图形包含的点阵数据的范围，相比于扫描线法中扫描线与多边形每一个边相交的过程，具有计算量小的优势，转换效率高。
一种扫描转换点阵数据方法装置介质

[发明专利]光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法-CN201911174505.9在审
发明人：游亚平;罗连波;杜杳隽 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2019-11-26 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法，其中所述光学邻近修正方法包括：提供目标布局图形，所述目标布局图形包括多个目标图形区以及通孔图形，所述多个目标图形区沿两个垂直的方向呈矩阵式排列，所述通孔图形横跨至少2个相邻的所述目标图形区，且相邻的所述目标图形区之间具有第一边界线；在所述通孔图形外侧形成通孔边界图形；将所述第一边界线沿部分所述通孔边界图形进行修正，形成第二边界线；对所述通孔图形进行修正，得到通孔修正图形本发明提供的光学邻近修正方法不需要缝合不同目标图形区中的修正图形，可以减小形成的修正图形的畸变。
光学邻近修正光掩膜版制作图形方法

[发明专利]边界线图形检查处理系统及方法-CN201110380517.4在审
发明人：张旨光;吴新元;吴润晖 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-11-25 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种边界线图形检查处理方法，该方法包括如下步骤：当两个相邻的端点之间不存在线段时，连接该两个端点组成一条新的线段，构成封闭的边界线图形；将每组边界线图形数据中的一条线段与该组中剩下的线段求交点；当求出来的交点不是该线段的端点时，将该交点作为该两条相交的线段的端点；利用边界线图形上的任意两个相邻端点和在边界线图形内的一个点求出垂直于该边界线图形的向量；当该边界线图形的端点的顺序不是预设的顺序时，以预设的顺序对所述端点重新进行命名，使边界线图形的端点的顺序成为预设的顺序。本发明还提供一种边界线图形检查处理系统。利用本发明可消除CAD模型出现丢面，破面，精度低，绘制出错等问题。
边界线图形检查处理系统方法

[发明专利]一种图形位置调整方法、装置、电子设备及存储介质-CN202110896728.7在审
发明人：刘玉丹;石求伟 -专利权人：广东三维家信息科技有限公司
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G06F30/13 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种图形位置调整方法、装置、电子设备及存储介质，涉及家装图形绘制技术领域。该方法包括当前图形的尺寸变化时，获取当前图形的尺寸变化量；获取边界图形与空间边界的边界距离；比较所述尺寸变化量与所述边界距离的大小，以根据比较结果调整图形的位置；能够在某一图形的尺寸发生变化时，自动调整位置并恢复至所有图形相邻且不重叠状态
一种图形位置调整方法装置电子设备存储介质

[发明专利]利用曝光辅助图形来减少基底反射影响的方法-CN201610212558.5有效
发明人：张月雨;倪晟;于世瑞 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2016-04-07 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了利用曝光辅助图形来减少基底反射影响的方法，包括：按照光刻胶边界到光刻胶打开区域内的前层有源区层和多晶硅层的距离，将离子注入层版图图形边界进行分类，其中将所述距离小于或等于距离阈值的离子注入层版图图形边界归为第一类别，将所述距离大于距离阈值的离子注入层版图图形边界归为第二类别；对第二类别的离子注入层版图图形边界添加第二尺寸的辅助图形，所述第二尺寸的辅助图形会在硅片上曝出图形；对第一类别的离子注入层版图图形边界添加第一尺寸的辅助图形，其中所述第一尺寸的辅助图形不会在硅片上曝出图形。
利用曝光辅助图形减少基底反射影响方法

[发明专利]版图图形的编辑方法、系统、存储介质及装置-CN202211063133.4有效
发明人：赵勇杰;李舒啸;代方;熊秋锋 -专利权人：合肥本源量子计算科技有限责任公司;本源科仪（成都）科技有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：本申请公开了一种版图图形的编辑方法、系统、存储介质及装置，属于集成电路版图设计技术领域。所述方法包括：响应于移动操作指令，确定限定版图图形的特征多边形中待移动的第一边界及与所述第一边界的初始端点连接的第二边界，并平移所述第一边界至目标位置；调整所述第一边界和所述第二边界的长度以使得所述第二边界连接所述初始端点的一端与所述第一边界相交；以及，根据所述第一边界和所述第二边界确定由所述特征多边形限定的目标版图图形。本申请提供的编辑方法实现了对版图图形的再编辑修改，提高了版图图形编辑的便捷性和操作效率。
版图图形编辑方法系统存储介质装置

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