专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体陷结构及其制备方法-CN201811229790.5有效
  • 欧欣;黄浩;张师斌;游天桂 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2018-10-22 - 2021-04-02 - H01L31/18
  • 本发明提供一种陷结构的制备方法及半导体陷结构,制备包括:提供一衬底,至少包括第一化学元素及第二化学元素,第一化学元素具有第一饱和蒸气压,第二化学元素具有第二饱和蒸气压,第一饱和蒸气压小于第二饱和蒸气压;对衬底进行离子束辐照,使得所述第一化学元素逃逸出离子束辐照面,并基于第二化学元素于离子束辐照面上形成陷结构。本发明通过离子辐照的技术,在衬底表面快速制备大面积陷结构,且制绒高度可调,能够大大简化陷结构的制备流程,降低成本,可以极大增加衬底接收面积,减小光反射率,应用在太阳能电池中,能够有效降低光反射,提高转化率
  • 半导体结构及其制备方法
  • [发明专利]光刻设备-CN201110295458.0有效
  • 伍强;顾一鸣 - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2011-09-29 - 2013-04-10 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种用于包含能够产生化学放大作用的第一组分和第二组分的致抗蚀剂的光刻设备。第一组分和第二组分对光的敏感波段基本不同。该光刻设备包括:第一曝光设备,使用第一敏感波段的对光致抗蚀剂的表面进行选择性照射,使得第一组分产生第一化学物质;以及第二曝光设备,使用第二敏感波段的对光致抗蚀剂的表面进行均匀照射,使得第二组分产生第二化学物质由于第二化学物质能够与第一化学物质发生反应以降低第一化学物质在致抗蚀剂中的质量浓度,因此能够改善在致抗蚀剂中所形成的第一化学物质的潜像的对比度,由此在显影后得到的光刻图案具有更好的边缘粗糙度。
  • 光刻设备
  • [发明专利]检测水环境中的化学-CN201080063438.4有效
  • 安格勒·斯琼 - 英派尔科技开发有限公司
  • 2010-10-22 - 2012-10-24 - G01N21/55
  • 本发明提供用于检测水环境中的化学品的技术,以及被配置为用于检测水环境中的化学品的系统。更具体地,提供用于检测水环境中芳族化学品的存在或不存在的技术和系统。实例可以包括接收来自光学循环器的第一端口的发射,反射所接收的发射的至少一部分以产生反射,并且传送来自光学循环器的第二端口的反射。反射可以至少部分地通过化学品和所述第二端口的光子二氧化硅阵列的相互作用产生。
  • 检测水环境中的化学品
  • [发明专利]在强背景荧光下测量弱信号的拉曼仪器-CN200680037377.8有效
  • S·费古森;J·F·弗莱里克;S·D·伯格森;J·皮特罗斯 - 如新国际股份有限公司
  • 2006-09-29 - 2008-10-22 - A61B5/00
  • 一种用于测量组织中化学物质浓度的方法具有两个测量步骤。第一,生成第一并使用该第一对该组织的一部分进行照射;从该组织捕捉第一反射;将该第一发射引导到多个传感器,每个传感器测量一不同波长的,该波长接近组织中化学物质的期望拉曼偏移波长的波长;以及从传感器的每一个获得一测量值,每个测量值针对通过该传感器的第一反射。第二,生成第二并使用该第二对该组织的一部分进行照射;从该组织捕捉第二反射;将该第二发射引导到多个传感器,每个传感器测量一不同波长的,该波长接近组织中化学物质的期望拉曼偏移波长的波长;以及从传感器的每一个获得一测量值该第一反射光和的测量值和该第二反射的测量值用于计算组织中化学物质的浓度。
  • 背景荧光测量信号仪器
  • [发明专利]一种高效掺杂石墨烯的化学掺杂剂和掺杂方法-CN201610675455.2在审
  • 马来鹏;任文才;董世超;成会明 - 中国科学院金属研究所
  • 2016-08-16 - 2018-03-06 - C01B32/194
  • 本发明涉及石墨烯领域,具体为一种高效掺杂石墨烯的化学掺杂剂和掺杂方法,该掺杂剂适用于不同基体上不同层数石墨烯的掺杂。化学掺杂剂采用阳离子型引发剂或可生成阳离子型引发剂的前驱体物质;或者,化学掺杂剂采用阳离子型引发剂或可生成阳离子型引发剂的前驱体物质,与其他类型引发剂之一或两种以上的组合。将化学掺杂剂与石墨烯表面接触后,对石墨烯进行掺杂,并可通过阳离子型引发剂进行光照或加热提高其掺杂效果和掺杂稳定性。从而,为实现掺杂态石墨烯在电子、光电子器件中的应用奠定了基础。
  • 一种高效掺杂石墨化学方法

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