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- [发明专利]热交换器-CN01809473.2无效
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约翰·弗朗西斯·乌尔驰
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换气控股有限公司
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2001-03-14
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2003-07-09
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F28D9/00
- 一种气流热交换器，它包括一组平行间隔开的导热区域，在这些区域之间设有一组凹穴，每个凹穴包含平行的挡板(24)，这些挡板形成引导气流路径穿过在入口和出口(22，23)之间的凹穴的通道(26)的压板，这些开口在该凹穴组的侧面处布置在四条平行线中，其中两条直线分别包含与组件的交替凹穴的气流路径相关的入口和出口(22，23)，另外两条分别包含与该热交换器的组件的剩下凹穴相关的入口和出口，每个凹穴包含形成有设在穿过它的气流路径的端部处的开口的可拆卸框架
- 热交换器
- [实用新型]晶片载体及化学气相沉积装置-CN201720835789.1有效
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郭世平;姜勇;陶珩;李可;杜志游
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中微半导体设备（上海）有限公司
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2017-07-11
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2018-02-27
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H01L21/687
- 本实用新型公开了一种晶片载体及其所在的化学气相沉积装置，包括本体，该本体具有彼此相对布置的顶表面和底表面，所述顶表面包括具有圆形轮廓的周缘；多个呈圆形的具有第一直径的凹穴，其设置在所述晶片载体的顶表面的周缘内且以所述圆形轮廓的圆心为圆心呈两个同心圆分布，所述多个具有第一直径的凹穴中的第一部分凹穴均匀且相互外切地布置在所述两个同心圆的第一同心圆中，所述第一同心圆位于所述第二同心圆内部；并且在所述顶表面的周缘内还包括多个具有第二直径的呈圆形的第三部分凹穴，每一个所述第三部分凹穴位于由所述第二部分凹穴中的相切的两个凹穴和相邻的第一部分凹穴中的两个凹穴之间的空间内，所述第二直径小于所述第一直径。
- 晶片载体化学沉积装置
- [发明专利]用于锻造的模具-CN201180036976.9有效
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尔根·多曼;克里斯托夫·韦斯特坎普
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蒂森克虏伯普利斯坦有限公司
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2011-07-02
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2013-04-03
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B21J13/02
- 模具部分（9,10）能够沿着闭合方向（13）聚拢到最终状态中，在所述最终状态中第一模具和第二模具具有间距（s），其中在模具部分（9,10）的模型凹处（11,12）的区域中在模具部分（9,10）之间构建主凹穴（14），所述主凹穴在对置的侧上朝着副凹穴（16,17）开放，所述副凹穴分别位于第一模具部分和第二模具部分（9,10）之间的区域中。模具还具有至少两个副模型部分（18,19），副模型部分分别位于第一模具部分和第二模具部分（9,10）之间的区域中，并且其中至少部分地形成对副凹穴限界的壁，并且副模型部分能够分别相对于所述模型部分（9,10）沿与所述闭合方向（13）有角度的调节方向（29,30）推移。
- 用于锻造模具
- [实用新型]一种高反射膜结构-CN201921907287.0有效
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邓建东
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东莞市光志光电有限公司
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2019-11-07
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2020-08-04
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G02B5/10
- 本新型公开一种高反射膜结构,包括PET基材；PET基材的顶端面上固化有树脂层,树脂层上压制有若干成堆积结构排布的反射凹穴,树脂层顶端匹配相邻两反射凹穴间隔的空间上和每一反射凹穴的内侧壁上均蒸镀或溅镀有金属膜层,金属膜层上盖覆保护层；PET基材厚度为40～90μm,树脂层厚度为2～5μm,且树脂层的折射率n为1.45～1.65,每一反射凹穴的深度为1.8～4.9μm,相邻两反射凹穴的中心间隔0.4～10μm,金属膜层厚度为20～150nm,保护层填满反射凹穴并高出树脂层顶端面1.2～3.1μm。
- 一种反射膜结构
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