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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种芯片版图的冗余填充方法、装置及设备-CN202211712355.4在审
发明人：万臻臻;张美丽;周倩 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及一种芯片版图的冗余填充方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过获取原始版图；将所述原始版图网格化，得到网格版图；将与所述网格版图中的预设图案重叠的网格区域确定为待排除区域；根据所述网格板图及所述待排除区域，得到冗余图形区域；根据所述冗余图形区域进行填充。本发明通过对原始版图进行网格化，将整个版图划分为若干小区域，再将与所述原始版图中的图案重叠的网格悉数排除，剩余的网格组成的图形区域即为所述冗余图形区域，本发明的技术方案无需再对复杂的多边形的每条边进行计算与定位
一种芯片版图冗余填充方法装置设备

[发明专利]阵列基板、显示面板-CN202110694261.8在审
发明人：陈晓晓;江鹏;吴伟;张伊伊;张荡;代俊锋;朱宁;刘建涛 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明的一种阵列基板，包括显示区和位于所述显示区至少一侧的周边区；所述周边区包括至少一个电连接区；所述电连接区中设置有多个导电图形；所述周边区还包括：空置区，其位于所述电连接区的至少一侧；所述空置区中设置有冗余图形；所述冗余图形及所述导电图形均具有远离基底的第一表面；所述冗余图形的第一表面相对所述基底的距离与所述导电图形的第一表面相对所述基底的距离之差在预设范围之内。
阵列显示面板

[实用新型]阵列基板、显示面板-CN202121390246.6有效
发明人：陈晓晓;江鹏;吴伟;张伊伊;张荡;代俊锋;朱宁;刘建涛 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本实用新型的一种阵列基板，包括显示区和位于所述显示区至少一侧的周边区；所述周边区包括至少一个电连接区；所述电连接区中设置有多个导电图形；所述周边区还包括：空置区，其位于所述电连接区的至少一侧；所述空置区中设置有冗余图形；所述冗余图形及所述导电图形均具有远离基底的第一表面；所述冗余图形的第一表面相对所述基底的距离与所述导电图形的第一表面相对所述基底的距离之差在预设范围之内。
阵列显示面板

[发明专利]一种降低光刻对准失效率的方法-CN201110322329.6无效
发明人：魏芳;阚欢 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-10-21 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种降低光刻对准失效率的方法，其中，于一包含光刻机粗对准标记的多层复合结构的预定层中加入冗余图形，且使靠近所述光刻机粗对准标记的所述冗余图形相互错开。本发明的有益效果是：在硅片光刻粗对准时，使冗余图形的信号与光刻对准标记有明显的区别，从而使其不能被光刻机误认为粗对准标记或干扰粗对准标记的信号，以降低光刻对准的失效率。
一种降低光刻对准失效方法

[发明专利]集成电路版图图形的修改方法-CN201911291780.9在审
发明人：张兴洲 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路版图设计技术领域，具体涉及集成电路版图图形的修改方法。方法包括：确定索引目标单元；在集成电路版图中，查找索引结果单元，索引结果单元是与索引目标单元相同或等比例缩放的图形；在集成电路版图的待修改层上，确定索引结果单元中的冗余可插入区域；计算冗余可插入区域在第一特定方向上的长度；当在第一特定方向上，冗余可插入区域的长度大于待插入图形的长度时，在冗余可插入区域的待修改层上，沿第一特定方向，放置待插入图形。
集成电路版图图形修改方法

[发明专利]一种集成电路制造的表面处理装置及其生产工艺-CN202310784989.9在审
发明人：范滕;夏友印 -专利权人：广东腾维新材料科技有限公司
申请日： 2023-06-29 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： B24B7/10 文献下载
摘要：包括底座、顶板、加工台组件、第一电机、丝杆、加工台本体、刮板、防护组件、第二电机、第一转轴、第二转轴、第三转轴、防护板和打磨机，包括步骤一，提供待填充集成电路版图；步骤二，确定待填充区域；步骤三，一次冗余图形填充；步骤四，二次冗余图形填充；本发明相较于现有的集成电路制造的表面处理装置，设计的加工台组件可以及时清理堆积的废屑，防止其影响后续的加工处理；本发明设计的防护组件，可以在工人操作时提供有效防护，避免飞屑威胁工人安全；本发明通过分步冗余的方式，提高了冗余图形的均匀性，避免因图形不均带来的信号延迟等问题。
一种集成电路制造表面处理装置及其生产工艺

[发明专利]改善激光退火热分布的方法-CN201410428585.7有效
发明人：邱裕明;肖天金;曹坚 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-08-27 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善有源区退火热分布的方法，包括：在芯片版图的有源区图层中定义出冗余图形的填充区域和禁止填充区域，在填充区域中填充冗余图形；在禁止填充区域中根据相邻有源区间距的大小定义出有源区稀疏区域和有源区密集区域，其中有源区稀疏区域和有源区密集区域均包括有源区和围绕所述有源区的浅沟槽隔离区；以及以尺寸小于冗余图形的辅助图形替换部分的所述有源区稀疏区域的浅沟槽隔离区的图形以在对有源区退火时增加所述有源区稀疏区域的热吸收
改善激光火热分布方法

[发明专利]测试光掩模板及其应用-CN201110355463.6有效
发明人：毛智彪;戴韫青;王剑 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-11-10 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种测试光掩模板，用于测试当前金属层的平坦度与图形密度的关系，所述测试光掩模板的版图由nxm个区域构成，每个所述区域具有不同的图形密度，每个区域包括孤立线条、孤立线条两侧的亚分辨率辅助图形和可分辨率辅助图形、半密集线条、密集线条和冗余图形阵列。本发明使用具有金属层冗余金属填充应用功能、扩大光刻工艺窗口功能和监测光刻工艺中产生缺陷功能的测试光掩模板，有效的扩大光刻工艺窗口且改善金属层化学机械研磨的局部区域平坦度、提高金属层冗余金属填充设计和金属层化学机械研磨工艺开发的效率，提高预测经过化学机械研磨后金属层平坦度和需要的图形密度调整的效率，同时减少光刻工艺中所使用测试光掩模的成本。
测试模板及其应用

[发明专利]用于增加SAB PH制程冗余度的方法以及系统-CN200710173153.6有效
发明人：何军;于世瑞;程小华;王健鹏 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2007-12-26 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供一种用于增加SAB PH制程冗余度的方法以及系统，其包括：提供一预设参数单元，供使用者根据所需要达到的制程冗余度，预先设定并存储在浅沟道隔离衬底上的SAB孤立间隔的相关参数；提供一搜索单元，用于在版图的图形库中搜索出符合所述预定的在浅沟道隔离衬底上的SAB孤立间隔相关参数要求的所有图形；提供一执行单元，用于将所搜索出的所述符合要求的所有图形中填满SAB。采用本发明的用于增加SAB PH制程冗余度的方法以及系统通过消除版图上所有的在浅沟道隔离衬底上的SAB孤立间隔，从而大幅提高SAB PH制程的冗余度。
用于增加 sab ph 冗余方法以及系统

[发明专利]静电电容式输入装置以及带输入功能的显示装置-CN200910145977.1无效
发明人：松尾睦 -专利权人：爱普生映像元器件有限公司
申请日： 2009-06-15 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明提供静电电容式输入装置以及带输入功能的显示装置，能够以简单的构成使得透光性基板上的透光性电极图形变得不明显。在本发明中，带输入装置的显示装置(100)的输入装置(10)，是静电电容式的触摸面板，在由第1透光性电极图形(11)以及第2透光性电极图形(12)的垫状部(11a、12a)所夹的间隙(14)中，形成有与第1透光性电极图形(11)以及第2透光性电极图形(12)同时形成的冗余图形(13)。该冗余图形(13)，与第1透光性电极图形(11)以及第2透光性电极图形(12)绝缘，处于电浮置状态。
静电电容输入装置以及功能显示装置

[发明专利]一种用于铜互连冗余金属图形的插入算法-CN201210049162.5有效
发明人：方精训;张旭升;范永洁 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于铜互连冗余金属图形的插入算法，包括：将半导体晶元划分成互不重叠，面积为A的数个正方形窗口；对每个窗口进行逻辑运算，将窗口划分为：①待插入区；②不插入区；确定每个窗口所插入的冗余金属图形的金属密度和线宽；按照金属密度和线宽，以及预先设定的冗余金属图案和摆放方式，确定窗口内插入的冗余金属图形。
一种用于互连冗余金属图形插入算法

[发明专利]用于制造显示面板的新型掩模版及其制备方法-CN202010068079.7在审
发明人：郝芸芸;韦亚一;董立松;陈睿 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-01-21 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请公开一种用于制造显示面板的新型掩模版及其制备方法，该新型掩模版的透光区域中包括与遮光区域连接的多曝光区域，多曝光区域为制造显示面板过程中进行拼接曝光的多个曝光区域之间的重叠区域；多曝光区域中划分有一个或多个单元子区域，单元子区域中填充有冗余图形，单元子区域中被冗余图形覆盖的区域不透光。本申请的新型掩模版边缘的多曝光区域中填充有不透光的冗余图形，冗余图形能减少多曝光区域的曝光量，使多曝光区域内的曝光量分布趋近于其他区域的曝光量分布，使掩模版边缘的曝光剂量均匀分布，达到良好的曝光效果。
用于制造显示面板新型模版及其制备方法

[发明专利]一种快速通道互连链路监控方法和设备及系统-CN201180002356.3有效
发明人：蔡幼明 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2011-09-05 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H04L1/00 文献下载
摘要：方法包括：获取待测系统SUT的循环冗余码校验误码信息和路由表信息；判断所述循环冗余码校验误码次数是否超过预置的循环冗余码校验误码阈值，得到第一判断结果；若所述第一判断结果为所述循环冗余码校验误码次数超过所述预置的循环冗余码校验误码阈值，将所述第一判断结果和所述路由表信息映射为第一图形化界面；若所述第一判断结果为所述循环冗余码校验误码次数没有超过所述预置的循环冗余码校验误码阈值，判断所述快速通道互连链路重传次数是否超过预置的快速通道互连链路重传阈值，得到第二判断结果；将所述第二判断结果和所述路由表信息映射为第二图形化界面。
一种快速通道互连监控方法设备系统

[发明专利]一种机载显示器双冗余图形显示装置-CN202010729503.8在审
发明人：李文健;郭小冬;杨永;王清;张碧超 -专利权人：恒宇信通航空装备（北京）股份有限公司
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： H04N5/262 文献下载
摘要：本发明公开了一种机载显示器双冗余图形显示装置，MFD主要硬件组成包括图形显示控制模块、接口总线模块、电源模块、AFDX终端模块、视频光纤模块、液晶显示模块和导光板等7种功能模块组成，其中，图形显示控制模块、电源模块和AFDX终端模块采用双冗余设计，各设计2块，且两块硬件、软件及功能性能完全一致，互为热备份。接口总线模块设计成1块板卡，但由由功能完全相同的两部分电路组成，任务备份，本发明实施例一种机载显示器双冗余图形显示装置，（1）电路设计精简，功能齐全；可靠性强、功耗低、抗干扰能力强，结构设计稳定、可靠；
一种机载显示器冗余图形显示装置

[发明专利]冗余像素减轻-CN201810148348.3有效
发明人： M.昂格;K.卡纳;B.阿盖拉伊阿卡斯 -专利权人：微软技术许可有限责任公司
申请日： 2013-12-26 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G06T9/00 文献下载
摘要：除了别的之外，提供了一种减轻用于纹理化几何图形的冗余像素纹理贡献的一个或多个技术和/或系统。即，几何图形可表示场景(例如城市)的多维表面。可使用从各个视图方向(例如自顶向下视图、斜视图等)描绘场景的一个或多个纹理图像(例如包括色值和/或深度值的图像)来纹理化几何图形。因为多于一个纹理图像可贡献于对几何图形的像素进行纹理化(例如由于场景的重叠视图)，冗余像素纹理贡献可发生。相应地可从纹理图像去除(例如图像修补)纹理图像内的冗余纹理化像素以生成修改的纹理图像，由于修改的纹理图像的增强的压缩，其可以被相对高效存储和/或串流到客户端。
冗余像素减轻

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